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일반식(I)로 표시되는 신규한 3-세펨-4-카르복실산 유도체
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일반식(VI)로 표시되는 신규한 아미드 유도체
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일반식(VI)으로 표시되는 신규한 아미노티아졸 유토체
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일반식(II)의 (R/S)-2-할로프로피오닐할라이드와 일반식(III)의 고리아민 유도체를 용매와 염기하에 반응시켜 일반식(IV)의 아미드 유도체를 제조하는 제1공정, 일반식(IV)의 아미드 유도체와 일반식(V)의 에틸-2-(Z)-(2-트리틸아미노티아줄-4-일)-2-히드록시이미노아세테이트를 알칼리 존재하에 DMF용매에서 알킬화하여 일반식(VI)의 아미노티아줄 유도체를 제조하는 제2공정, 일반식(VI)의 아미노티아줄 유도체를 탄산칼륨 존재하에 메탄을 용매에서 가수분해하여 일반식(VII)의 산 유도체를 제조하는 제3공정, 및 일반식(VII)의 산 유도체와 일반식(VIII)의 7-아미노-3-비닐-3-세펨-4-카르복실산 에스테르를 짝지음 반응하여 일반식(IX)의 보호기 치환된 3-세펨-4-카르복실산 유도체를 제조하는 제4공정 및 원한다면 제4공정에서 탈보호기 반응으로 일반식(I)의 3-세펨-4-카르복실산 유도체를 제조하는 방법
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제4항에 있어서, 제1공정에서 용매로서 메틸렌클로라이드, 디에텔에테르, 디클로로에탄, 사염화탄소 용매중에서 선택하여 제조하는 것을 특징으로 하는 일반식(I)의 3-세펨-4-카크복실산 유도체의 제조방법
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제4항에 있어서, 제1공정에서 염기로서 트리에틸아민, 피리딘, N,N'-디메틸아민, 루티닌 중에서 선택하여 제조하는 것을 특징으로 하는 일반식(I)의 3-세펨-4-카르복실산 유도제의 제조방법
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제4항에 있어서, 제2공정에서 알칼리로 탄산칼륨, t-부록시칼륨염 중에서 선택하여 제조하는 것을 특징으로 하는 일반식(I)의 3-세펨-4-카르복실산 유도체의 제조방법
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제4항에 있어서, 제3공정에서 용매로서 메탄올, 물, 디옥산 중에서 선택하여 제조하는 것을 특징으로 하는 일반식(I)의 3-세펨-4-카르복실산 유도체의 제조방법
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제4항에 있어서, 일반식(IX)의 보호기 치환 3-세펨-4-카르복실산 유도체를 탈보호기 하고자 할 경우 아니솔과 트리풀루오로아세트산을 첨가하여 탈보호기를 제거하는 것을 특징으로 하는 일반식(I)의 3-세펨-4-카르복실산 유도체의 제조방법
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