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유리기판과 반도체기판을 세척하는 기판세척단계와; 상기 두 기판을 암모니아와 과산화수소 및 탈이온수를 4 : 1 : 6의 비로 혼합한 친수화용약을 45 내지 100℃온도로 가열하고, 그 가열된 친수화용액에 수 분 동안 두어 친수화처리 하는 친수화 처리단계와; 상기 친수화 처리단계를 통해 친수화된 두 기판을 건조하는 건조단계와; 상기 건조된 기판을 직접접합하는 초기 직접접합단계와; 상기 직접접합된 기판에 200내지 700V의 전압과 200 내지 500℃의 열을 인가하여 정전 열 접합시키는 정전 열 접합단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 반도체기판의 정전 열 접합방법
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제 1항에 있어서, 반도체기판은 직경이 1인치 이상인 n형 (100)방향의 실리콘기판인 것을 특징으로 하는 반도체기판의 정전 열 접합방법
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제 1항에 있어서, 유리기판은 직경이 1인치 이상인 코닝유리(CORNING GLASS #7740)기판인 것을 특징으로 하는 반도체기판의 정전 열 접합방법
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제 1항에 있어서, 유리기판은 실리콘기판의 상부에 유리박막을 증착한 기판을 사용하는 것을 특징으로 하는 반도체기판의 정전 열 접합방법
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제 1항에 있어서, 기판세척단계는 아세톤과 메탄올 그리고 탈이온수(D
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제 1항에 있어서, 오븐건조단계는 100~200℃의 오븐에서 24시간동안 보관하여 초기접합된 두 기판 사이의 수분을 완전히 제거하는 것을 특징으로 하는 반도체기판의 정전 열 접합방법
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두 ITO(INDIUM TIN OXIDE)코팅 유리기판을 세척하는 기판세척단계와; 일측 ITO코팅 유리기판의 상부에 금속박막을 증착하고, 타측 ITO코팅 유리기판의 상부에 유리박막을 증착하는 증착단계와; 상기 금속박막 및 유리박막이 증착된 두 기판을 45~100℃의 가열된 친수화용액에 수 분 동안 두어 친수화처리 하는 친수화 처리단계와; 상기 친수화 처리단계를 통해 친수화된 두 기판을 건조하는 건조단계와; 상기 건조된 기판을 직접접합하는 초기 직접접합단계와; 상기 직접접합된 기판을 오븐에 넣고 건조시키는 오븐건조단계와; 상기 직접접합된 기판에 200 내지 700W의 전압과 200 내지 500℃의 열을 인가하여 정전 열 접합시키는 정전 열 접합단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 반도체기판의 정전 열 접합방법
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제 11항에 있어서, 박막증착단계에서 증착하는 금속박막은 ITO, 알루미늄박막, 티타늄박막, 몰리브덴박막, 크롬박막중 하나 또는 다층박막으로 증착하는 것을 특징으로 하는 반도체기판의 정전 열 접합방법
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제 11항에 있어서, 기판세척단계는 아세톤과 메탄올 그리고 탈이온수(D
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제 11항에 있어서, 친수화용액은 암모니아와 과산화수소 및 탈이온수를 4: 1: 6의 비로 혼합한 것을 특징으로 하는 반도체기판의 정전 열 접합방법
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제 11항에 있어서, 오븐건조단계는 100~200℃의 오븐에서 24시간동안 보관하여 초기접합된 두 기판 사이의 수분을 완전히 제거하는 것을 특징으로 하는 반도체기판의 정전 열 접합방법
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