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침지형 정밀여과막-활성슬러지 공정을 이용한 고농도 유기폐수 및 영양물질 처리방법

  • 기술번호 : KST2015124016
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 유입폐수를 스크린(screen)에 통과시키고, 스크린 처리수를 폭기조에 배플(baffle)을 설치하여 형성된 무산소조에 유입시켜 탈질화 반응을 위한 탄소원으로 사용될 수 있도록 하고, 무산소조 처리수를 기공크기가 0.05 내지 0.2㎛인 정밀여과막(microfiltration)으로 이루어진 여과막 모듈이 침지된 폭기조의 하단부로 유입시킨 다음 막세정공기를 투입하면서 폭기시킨 후, 폭기조에서 처리된 일부 처리수는 저압 흡입펌프를 이용하여 배출시키고 유입유량의 2배의 혼합용액(mixed liquor)은 다시 폭기조로부터 무산소조로 반송시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고농도의 유기폐수를 처리하는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 폐수 처리방법에 의하면 폭기조내의 미생물을 고농도로 유지할 수 있어 유기물 및 일부 난분해성 물질까지 처리할 수 있음은 물론 폭기조내의 간단한 구조변경을 통하여 영양물질(N, P)까지 처리할 수 있고 폭기조에 공급되는 공기에 의해 막의 막힘현상(fouling)을 방지할 수 있기 때문에 경제적이면서 효율적인 폐수처리가 가능하다.
Int. CL C02F 1/52 (2006.01)
CPC C02F 3/1273(2013.01) C02F 3/1273(2013.01) C02F 3/1273(2013.01) C02F 3/1273(2013.01) C02F 3/1273(2013.01) C02F 3/1273(2013.01) C02F 3/1273(2013.01)
출원번호/일자 1019970018526 (1997.05.13)
출원인 하이트진로 주식회사, 한국과학기술연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-1998-0083279 (1998.12.05) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1997.05.13)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 하이트진로 주식회사 대한민국 서울특별시 강남구
2 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 장문석 대한민국 서울특별시 강남구
2 최효수 대한민국 서울특별시 송파구
3 한명남 대한민국 서울특별시 동대문구
4 박동기 대한민국 서울특별시 서초구
5 이두진 대한민국 서울특별시 동작구
6 김재진 대한민국 서울특별시 강남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 오규환 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, ****호 (역삼동, 유니온센터)(리제특허법률사무소)
2 이남경 대한민국 서울(특허법인 퇴사후 사무소변경 미신고)

최종권리자

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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
1997.05.13 수리 (Accepted) 1-1-1997-0059823-05
2 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent
1997.05.13 수리 (Accepted) 1-1-1997-0059824-40
3 출원심사청구서
Request for Examination
1997.05.13 수리 (Accepted) 1-1-1997-0059825-96
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.01.08 수리 (Accepted) 4-1-1999-0002352-05
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.01.18 수리 (Accepted) 4-1-1999-0008675-76
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
1999.01.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-1999-0039567-68
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.02.01 수리 (Accepted) 4-1-1999-0025779-69
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.03.03 수리 (Accepted) 4-1-1999-0041039-77
9 거절사정서
Decision to Refuse a Patent
1999.03.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-1999-0110981-57
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.05.26 수리 (Accepted) 4-1-1999-0075472-64
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2000.02.03 수리 (Accepted) 4-1-2000-0014117-45
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2002-0020822-81
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2003.08.20 수리 (Accepted) 4-1-2003-0046476-18
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2006.07.11 수리 (Accepted) 4-1-2006-5097592-33
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.12.07 수리 (Accepted) 4-1-2011-5245095-09
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.10.01 수리 (Accepted) 4-1-2018-5198006-16
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

유입폐수를 스크린(screen)에 통과시키고, 스크린 처리수를 폭기조에 배플(baffle)을 설치하여 형성된 무산소조에 유입시켜 탈질화 반응을 위한 탄소원으로 사용될 수 있도록 하고, 무산소조 처리수를 기공크기가 0

2 2

제 1 항에 있어서,

상기 폭기조에 알루미늄(alum)계 응집제를 인(P) : 알루미늄계 응집제의 비율을 1:1로하여 첨가하는 것을 추가로 포함하는 방법

3 3

제 1 항에 있어서,

상기 폭기조에 투입되는 막세정공기가 11 내지 14ℓ/㎡ㆍ분인 것을 특징으로 하는 방법

4 4

제 1 항에 있어서,

상기 정밀여과막이 기공크기가 0

5 5

제 1 항에 있어서,

상기 정밀여과막의 재질이 친수성 폴리에틸렌임을 특징으로 하는 방법

6 6

제 1 항에 있어서,

상기 저압이 150㎜Hg 이하인 것을 특징으로 하는 방법

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.