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일반식(Ⅱ)의 할로겐 유도체와 일반식(Ⅳ)의 1급아민을 유기용매 존재하에 반응시켜 일반식(Ⅴ)의 화합물을 제조하는 제1공정, 일반식(Ⅴ)의 화합물과 일반식(Ⅵ)의 2급 할로케토 화합물을 염기성조건에서 유기용매 존재하에 반응시켜 일반식(Ⅶ)의 디케토 화합물을 제조하는 제2공정 및 일반식(Ⅷ)의 디케토화합물과 일반식(Ⅷ)의 히드라진 화합물을 염기성조건에서 유기용매 존재하에 반응시켜 일반식(Ⅰ)의 피라졸론 유도체를 제조하는 제3공정으로 이루어진 것이 특징인 일반식(Ⅰ)의 피라졸론 유도체의 제조방법
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제1항에 있어서, 제1공정의 유기용매가 물, 메탄올, 에탄올 중에서 단독 또는 혼합하여 반응시키는 것이 특징인 일반식(I)의 피라졸론 유도체의 제조방법
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제1항에 있어서, 제1공정의 반응조건이 0℃ 내지 30℃에서 10시간이내 반응시키는 것이 특징인 피라졸론 유도체의 제조방법
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제1항에 있어서, 제2공정의 염기가 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 트리에틸아민, 피리딘, N,N-디메틸아닐린 또는 N,N-디메틸아미노피리딘중에서 선택하여 반응시키는 것이 특징인 피라졸론 유도체의 제조방법
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제1항에 있어서, 제2공정의 유기용매가 벤젠, 톨루엔, 아세토니트릴, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 크실렌 또는 디옥산중에서 선택하여 반응시키는 것이 특징인 피라졸론 유도체의 제조방법
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제1항에 있어서, 제2공정의 반응조건이 20℃ 내지 120℃에서 반응시키는 것이 특징인 피라졸론 유도체의 제조방법
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제1항에 있어서, 제3공정의 일반식(VIII)의 히드라진 첨가량이 일반식(VII)의 디케토화합물에 대해 무게비로 5 내지 20배로 첨가하여 환원시키는 것을 특징으로 하는 피라졸론 유도체의 제조방법
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제1항에 있어서, 제3공정의 염기가 금속나트륨, 금속리튬, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨 또는 탄산수소칼륨중에서 선택하여 반응시키는 것을 특징으로 하는 피라졸론 유도체의 제조방법
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제1항에 있어서, 제3공정의 유기용매가 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 디옥산 또는 테트라히드로푸란중에서 선택하여 반응시키는 것을 특징으로 하는 피라졸론 유도체의 제조방법
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