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고밀도 미세 반사체(10), 하부 절연층(20), 발광층(30), 상부 절연층(40) 및 배면 전극(50)으로 구성되는 것을 특징으로 하는 전계발광 표시 소자
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제 1 항에 있어서, 고밀도 미세 반사체(10)가 Si, poly-Si 및 Mo, Cr, Ta, W, Cu, Ti 또는 Al로 이루어진 그룹에서 선택된 고융점 금속, 규화물로 구성되는 것을 특징으로 하는 전계발광 표시 소자
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제 1 항에 있어서, 발광층(30)이 ZnS, SrS, CaS, CaGa2S4, SrGaS4 또는 BaGa2S4 등이나 이들의 혼합물을 모체로 하고 Mn과 같은 전이 금속 또는 Cu, Tb, Ce, Pb, Tm, Eu 또는 Pr 등의 희토류 등을 첨가한 단일 발광막이나, 다층발광막으로 구성되는 것을 특징으로 하는 전계발광 표시 소자
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제 1 항에 있어서, 하부 절연막(20) 및 상부 절연막(40)이 SiOxNy, SiO2, Ta2O5, Si3N4, TiO2, BaTa2O6, Al2O3, BaTiO3, 또는 SrTiO3으로 이루어진 단일 또는 적층구조로 구성되는 것을 특징으로 하는 전계발광 표시 소자
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제 1 항에 있어서, 배면 전극(50)이 불투명 전극으로 구성되는 것을 특징으로 하는 전계발광 표시 소자
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제 1 항에 있어서, 배면 전극(50)이 투명 전극으로 구성되는 것을 특징으로 하는 전계발광 표시 소자
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기판 위에 산화막을 성장시키는 단계와; 상기 산화막을 마스크로 이용하여 패터닝하는 단계와; 실리콘 기판을 에칭하여 반사체를 형성하는 단계와; 샤프닝 산화를 통하여 반사체를 뾰족한 팁모양으로 형성하는 단계와; 이 상부에 하부 절연층, 발광층, 상부 절연층 및 배면 전극을 순차적으로 형성하는 단계와; 반사체위에 형성된 하부절연층, 발광층, 상부 절연층 및 배면 전극을 리프트 오프(lift off)하여 제거하는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 전계발광 표시 소자의 제조방법
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제 7 항에 있어서, 상기 하부 절연층, 발광층, 상부 절연층 및 배면 전극을 형성하는 단계가, 기판홀더가 기울어진 상태에서 회전하도록 고안되어 수직방향의 성장이 선택적으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 전계발광 표시 소자의 제조방법
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제 8 항에 있어서, 수평방향에 대한 수직방향의 성장비가 0:100∼10:90인 것을 특징으로 하는 전계발광 표시 소자의 제조방법
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제 7 항에 있어서, 상기 고밀도 미세반사체를 추가로 기계적으로 미세 가공하는 것을 특징으로 하는 전계발광 표시 소자의 제조방법
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