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다층마스크패턴의결함수정방법

  • 기술번호 : KST2015124487
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 전자 현미경을 그 본래의 기능을 살리면서 전자빔 리소그래피를 할 수 있도록 간단한 부가 장치로 개조하여 사용함으로써 다층의 마스크 제작시 각각의 마스크 패턴을 간단히 수정할 수 있는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.본 발명의 방법은 전자 현미경의 기능을 활용하므로써 마스크를 만들기 직전에 마스크의 결함을 간단히 수정 보완할 수 있다는 장점과 전자 현미경 기능을 그대로 살리면서 전자빔 리소그래피를 하여 시료위에 패턴을 직접 묘사할 수 있고 마스크를 제작할 수 있다는 장점이 있다.
Int. CL G03F 7/00 (2006.01)
CPC G03F 1/74(2013.01) G03F 1/74(2013.01)
출원번호/일자 1019940011792 (1994.05.28)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-0121563-0000 (1997.08.28)
공개번호/일자 10-1995-0033667 (1995.12.26) 문서열기
공고번호/일자 (19971113) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1994.05.28)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 강광남 대한민국 서울특별시서초구
2 이정일 대한민국 서울트기별시성북구
3 우덕하 대한민국 경기도성남시분당구
4 김회종 대한민국 서울특별시용산구
5 이석 대한민국 서울특별시관악구
6 이유종 대한민국 서울특별시강서구
7 이명복 대한민국 서울특별시강동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 주성민 대한민국 서울특별시 종로구 사직로*길 **, 세양빌딩 (내자동) *층(김.장법률사무소)
2 김성택 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층~*층 (논현동, 비너스빌딩)(박장원특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시성북구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 출원심사청구서
Request for Examination		 1994.05.28 수리 (Accepted) 1-1-1994-0054386-78
2 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent		 1994.05.28 수리 (Accepted) 1-1-1994-0054385-22
3 특허출원서
Patent Application		 1994.05.28 수리 (Accepted) 1-1-1994-0054384-87
4 등록사정서
Decision to grant		 1997.08.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1994-0030519-96
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.01.08 수리 (Accepted) 4-1-1999-0002352-05
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.01.18 수리 (Accepted) 4-1-1999-0008675-76
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.02.01 수리 (Accepted) 4-1-1999-0025779-69
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.03.03 수리 (Accepted) 4-1-1999-0041039-77
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.05.26 수리 (Accepted) 4-1-1999-0075472-64
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2000.02.03 수리 (Accepted) 4-1-2000-0014117-45
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.03.02 수리 (Accepted) 4-1-2002-0020822-81
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

전자 현미경을 이용하여 다층의 마스크 패턴을 수정하는 방법에 있어서, 소정의 마스크 패턴을 선택하는 단계와, 메모리로부터 상기 선택된 마스크 패턴의 데이타를 검색하여 전자 현미경의 편향 코일에 인가하는 단계와, 상기 마스크 패턴을 상기 전자 현미경의 모니터 상에 출력시키는 단계와, 상기 출력된 마스크 패턴을 사진기로 촬영하여 필름을 현상하는 단계와, 상기 현상된 마스크 패턴이 다층 마스크의 마지막 층인지의 여부를 판단하는 단계, 및 상기 판단 단계에서 상기 현상된 마스크 패턴이 마지막 층이 아닌 경우 상기 선택 단계로 복귀하고, 마지막 층인 경우 패턴 결함을 검색하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 다층 마스크 패턴 수정 방법

2 2

제1항에 있어서, 상기 편향 코일에 인가하는 단계는 상기 선택된 마스크 패턴의 데이타를 A/D 변환기를 통하여 아날로그 전압으로 변환하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 다층 마스크 패턴 수정 방법

3 3

제1항에 있어서, 상기 패턴 결함 검색 단계는 상기 마스크 패턴들이 찍힌 다수의 필름을 겹쳐 상기 마스크 패턴들을 비교하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 다층 마스크 패턴 수정 방법

4 4

제1항에 있어서, 상기 패턴 결함 검색 단계에서 검색된 결함을 수정하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 다층 마스크 패턴 수정 방법

5 5

제4항에 있어서, 상기 결함 수정 단계는 상기 결함을 포함하고 있는 마스크 패턴들의 데이타를 수정하여 상기 메모리에 저장하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 다층 마스크 패턴 수정 방법

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.