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마이크로 패터닝된 투명 도전성 금속 산화막을 포함하는 전기변색 창호 및 이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015124492
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 미세-포토리소그래피를 이용한 투명 도전성 금속 산화막의 마이크로 패터닝을 통해 전기변색층과 전극간의 계면구조가 제어되어, 변색 반응속도 및 변색효율이 우수한 전기변색 창호 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
Int. CL E06B 5/00 (2006.01)
CPC E06B 5/00(2013.01)
출원번호/일자 1020130134979 (2013.11.07)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-1589635-0000 (2016.01.22)
공개번호/일자 10-2015-0053151 (2015.05.15) 문서열기
공고번호/일자 (20160201) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.11.07)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이중기 대한민국 서울특별시 강남구
2 최원창 대한민국 경기도 용인시 기흥구
3 정훈기 대한민국 부산광역시 연제구
4 이규하 대한민국 서울특별시 성동구
5 김아영 대한민국 서울특별시 성북구
6 우주만 대한민국 서울특별시 노원구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 한라특허법인(유한) 대한민국 서울시 서초구 강남대로 ***(서초동, 남강빌딩 *층)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2013.11.07 수리 (Accepted) 1-1-2013-1016554-66
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2014.07.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2014.08.08 수리 (Accepted) 9-1-2014-0062608-10
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.02.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0089159-15
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.04.03 수리 (Accepted) 1-1-2015-0328294-19
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.05.06 수리 (Accepted) 1-1-2015-0432809-06
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.05.06 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0432810-42
9 보정요구서
Request for Amendment
2015.05.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2015-0084659-17
10 [출원서등 보정]보정서(납부자번호)
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment(Payer number)
2015.05.20 수리 (Accepted) 1-1-2015-0470157-15
11 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2015.09.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0671507-53
12 [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Extension of Legal Period] Request for Extension of Period (Reduction, Expiry Reconsideration)
2015.10.30 수리 (Accepted) 7-1-2015-0049955-64
13 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2015.11.30 수리 (Accepted) 1-1-2015-1169110-21
14 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2015.11.30 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2015-1169145-18
15 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.11.30 수리 (Accepted) 1-1-2015-1169167-12
16 등록결정서
Decision to Grant Registration
2015.12.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0903365-97
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
제 1 투명 기재;상기 제 1 투명 기재 상에 형성된 두께 100 ∼ 1500 nm의 불소가 도핑된 주석산화막(FTO)인 제 1 투명 도전성 금속 산화막;상기 제 1 투명 도전성 금속 산화막 상에 미세-포토리소그래프 공정을 통해 패턴 선폭 15 ∼ 50 ㎛으로 마이크로 패터닝된 두께 30 ∼ 500 nm의 투명 도전성 금속 산화막;상기 마이크로 패터닝된 투명 도전성 금속 산화막 상에 칼륨이온을 포함하는 프루시안블루가 전착된 두께 50 ∼ 200 nm의 전기변색층;상기 전기변색층 상에 형성된 전해질층;상기 전해질층 상에 형성된 두께 100 ∼ 1500 nm의 불소가 도핑된 주석산화막(FTO)인 제 2 투명 도전성 금속 산화막; 및상기 제 2 투명 도전성 금속 산화막 상에 형성된 제 2 투명 기재; 를 포함하는 전기변색 창호이며,-3
2 2
제 1 항에 있어서,상기 제 1 투명 기재 및 제 2 투명 기재는 유리 또는 플라스틱 기판인 것을 특징으로 하는 전기변색 창호
3 3
제 1 항에 있어서,상기 제 1 투명 도전성 금속 산화막 및 제 2 투명 도전성 금속 산화막은 전자 사이크로트론 공명 플라즈마 화학기상증착법으로 증착되는 것을 특징으로 하는 전기변색 창호
4 4
삭제
5 5
삭제
6 6
삭제
7 7
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8 8
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9 9
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10 10
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11 11
제 1 항에 있어서,상기 마이크로 패터닝된 투명 도전성 금속 산화막의 패턴 모양은 정사각형 모양 또는 직사각형 모양인 것을 특징으로 하는 전기변색 창호
12 12
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13 13
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14 14
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15 15
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16 16
ⅰ) 제1, 제2 투명기재 상에 전자 사이크로트론 공명 플라즈마 화학 기상 증착을 이용하여 두께가 100 ∼ 1500 nm인 불소가 도핑된 주석산화막(FTO)을 형성하는 제1, 제2 투명 도전성 금속 산화막을 증착하는 단계;ⅱ) 제1 투명 도전성 금속 산화막 상에 미세-포토리소그래피를 이용하여 패턴 선폭이 15 ∼ 50 ㎛ 되도록 마이크로 패턴을 형성하는 단계;ⅲ) 두께가 30 ∼ 500 nm인 마이크로 패터닝된 투명 도전성 금속 산화막 상에, 두께가 50 ∼ 200 nm인 전기변색층을 형성하기 위해 칼륨이온을 포함하는 프루시안블루를 전기도금법으로 전착하는 단계; 및ⅳ) 상기 전기변색층과 제2 투명 도전성 금속 산화막이 증착된 제2 투명 기재 사이에 전해질층을 넣어 전기변색층과 제2 투명 도전성 금속 산화막을 부착하고 압착하는 단계; 를 포함하며,-3
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 한국과학기술연구원(KIST) 기후변화대응기초원천기술개발사업 리튬이차전지용 전극소재 자기완화형 구조제어 및 계면기능제어 기술개발