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아민기가 구비된 키토산 분말을 산 용액에 혼합하여 키토산 용액을 제조하는 단계; 상기 키토산 용액을 경화시켜 키토산 비드를 형성하는 단계; 및 키토산 비드를 전이금속 수화물 수용액에 혼합하여, 전이금속 이온과 아민기 사이의 킬레이트 결합을 유도하는 단계를 포함하여 이루어지며, 전이금속 이온과 아민기의 킬레이트 결합에 의해 키토산 폴리머가 전이금속 이온에 의해 가교되며, 전이금속 이온이 리간드 결합이 가능한 기능기로 작용하는 것을 특징으로 하는 인 제거용 키토산 비드의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 전이금속 수화물은 염화제2구리수화물(CuCl2·2H2O), 염화니켈수화물(NiCl2·6H2O) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 인 제거용 키토산 비드의 제조방법
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제 2 항에 있어서, 염화제2구리수화물(CuCl2·2H2O) 수용액에서 염화제2구리수화물(CuCl2·2H2O)의 농도는 1∼2wt%인 것을 특징으로 하는 인 제거용 키토산 비드의 제조방법
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제 2 항에 있어서, 염화니켈수화물(NiCl2·6H2O) 수용액에서 염화니켈수화물(NiCl2·6H2O)의 농도는 0
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제 3 항에 있어서, 상기 염화제2구리수화물(CuCl2·2H2O) 수용액의 pH는 4∼5인 것을 특징으로 하는 인 제거용 키토산 비드의 제조방법
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제 4 항에 있어서, 상기 염화니켈수화물(NiCl2·6H2O) 수용액의 pH는 5∼7인 것을 특징으로 하는 인 제거용 키토산 비드의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 산 용액은 염산 용액인 것을 특징으로 하는 인 제거용 키토산 비드의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 키토산 용액의 키토산 분말의 농도는 1∼3wt%인 것을 특징으로 하는 인 제거용 키토산 비드의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 키토산 용액을 경화시켜 키토산 비드를 형성하는 단계는, 상기 키토산 용액을 NaOH 용액에 적정하여 키토산 비드를 형성하는 것을 특징으로 하는 인 제거용 키토산 비드의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 키토산 분말은 키틴으로부터 70∼80% 탈아세틸화된 것인 것을 특징으로 하는 인 제거용 키토산 비드의 제조방법
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아민기가 구비된 키토산 분말의 경화체이며, 상기 아민기는 전이금속과 킬레이트 결합을 이루며, 전이금속 이온과 아민기의 킬레이트 결합에 의해 키토산 폴리머가 전이금속 이온에 의해 가교되며, 전이금속 이온이 리간드 결합이 가능한 기능기로 작용하는 것을 특징으로 하는 인 제거용 키토산 비드
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제 11 항에 있어서, 상기 전이금속 이온은 구리 이온(Cu2+), 니켈 이온(Ni2+) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 인 제거용 키토산 비드
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제 11 항에 있어서, 상기 키토산 분말은 키틴으로부터 70∼80% 탈아세틸화된 것인 것을 특징으로 하는 인 제거용 키토산 비드
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