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(ⅰ) 히드라지드(hydrazide) 또는 아미노옥시(aminooxy) 작용기가 결합된 고체기질을 포함하는 칩기판을 제작하는 단계;(ⅱ) 상기 칩기판의 고체기질 위에 링커가 결합되지 않은 비변형 탄수화물(unmodified carbohydrate)을 점적하는 단계; 및(ⅲ) 상기 칩기판 위의 고체 기질과 상기 탄수화물을 반응시켜 탄수화물을 고체 기질에 위치 선택적이며 공유결합 방식으로 고정시키는 단계를 포함하는 탄수화물칩의 제작방법
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제 1항에 있어서,상기 고체기질은 고분자, 유리, 금, 종이 및 생체막(membrane)으로 구성되는 군 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 탄수화물칩의 제작방법
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제 3항에 있어서,상기 고체기질은 유리인 것을 특징으로 하는 탄수화물칩의 제작방법
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제 1항에 있어서,상기 비변형 탄수화물은 단당류, 이당류, 올리고당 및 다당류으로 구성되는 군 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 탄수화물칩의 제작방법
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제 5항에 있어서,상기 단당류는 글루코스(Glc), N-아세틸글루코사민(GlcNAc), 글루크론산(GlcA), 갈락토스, N-아세틸갈락토사민(GalNAc), 만노스(Man), N-아세틸만노사민(ManNAc), 푸코스(Fuc), 람노스(Rham) 및 자일로스(Xyl)로 구성되는 군 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 탄수화물칩의 제작방법
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제 5항에 있어서,상기 이당류는 말토스, 셀로비오스, N,N'-디아세틸키토비오스, 락토스, 갈락토스- β1,4-N-아세틸글루코사민(Galβ1,4GlcNac; LacNAc) 및 만노스-α1,6-만노스(Manα1,6Man; 만노비오스)로 구성되는 군 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 탄수화물칩의 제작방법
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제 5항에 있어서,상기 올리고당은 Fucα1,3(Gal β1,4)Glc (FucLac), NeuNAcα2,3Gal β1,4GlcNAc (NeuNAcLacNAc), 시알릴 루이스 엑스(Sialyl Lex) 및 Fucα1,2Gal β1,3(Fucα1,4)GlcNAcβ1,3Gal β1,4Glc로 구성되는 군 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 탄수화물칩의 제작방법
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제 5항에 있어서,상기 다당류는 만난인 것을 특징으로 하는 탄수화물칩의 제작방법
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제 1항에 있어서,상기 (ⅱ) 단계의 상기 비변형 탄수화물의 점적은 마이크로피펫 또는 마이크로어레이어를 사용하는 것을 특징으로 하는 탄수화물칩의 제작방법
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제 1항에 있어서,상기 (ⅲ) 단계의 상기 탄수화물을 고체 기질에 위치 선택적이며 공유결합 방식으로 고정시키는 방법은 점적된 탄수화물을 고체 기질에 40-60℃에서 8시간 이상 16시간 이하로 반응시켜 이루어지는 것을 특징으로 하는 탄수화물칩의 제작방법
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제 1항, 제 3항 내지 제 11항 중 어느 하나의 항의 방법에 의하여 제작된 것을 특징으로 하는 탄수화물칩
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