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200nm 내지 10㎛의 패턴이 형성된 실리콘 마스터를 제조하는 실리콘 마스터 제조단계; 상기 실리콘 마스터의 패턴이 형성된 실리콘 마스터 상단면에 강성을 갖는 폴리머를 구비하는 몰드부 본체 형성단계; 상기 몰드부 본체 상단에 투명 필름층을 구비한 후 자외선으로 경화시켜 몰드부 본체와 투명 필름층으로 구성된 몰드부를 형성하는 투명 필름층 형성단계; 상기 몰드부를 상기 실리콘 마스터와 분리하는 몰드부 분리단계; 배향막을 투명 전극이 형성된 기판 상단에 코팅한 후 몰드부로 프린팅하여 배향막의 패턴을 형성하는 배향막 프린팅단계; 상기 몰드부로 프린팅된 배향막을 자외선으로 경화시키는 배향막 패턴 제조단계를 포함하는 형상 인쇄 기술법을 이용한 배향막의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 몰드부 분리단계와 상기 배향막 프린팅단계 사이에 비접착층 코팅단계를 더 포함하는 형상 인쇄 기술법을 이용한 배향막의 제조방법
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제 2항에 있어서, 상기 비접착층이 폴리디메틸실록산 또는 트리데카플루오르-1,2,2-테트라히드록실-1-트리클로로실란으로 형성된 것을 특징으로 하는 형상 인쇄 기술법을 이용한 배향막의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 폴리머가 폴리우레탄, 폴리아크릴레이트 또는 폴리디메틸실록산인 것을 특징으로 하는 형상 인쇄 기술법을 이용한 배향막의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 필름층이 폴리에스테르 필름, 폴리에틸렌 필름 또는 폴리카보네이트 필름인 것을 특징으로 하는 형상 인쇄 기술법을 이용한 배향막의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 배향막이 펜타에리트리톨 프로폭실레이트 트리아크릴레이트로 구성된 것을 특징으로 하는 형상 인쇄 기술법을 이용한 배향막의 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 실리콘 마스터 제조단계, 투명 필름층 형성단계 및 배향막 패턴 제조단계는 상온에서 수행되고, 몰드부 본체 형성단계는 280 내지 400nm의 UV에서 수행되며, 배향막 프린팅단계는 고분자의 유동성 조절을 위하여 상온 내지 100℃의 온도범위에서 수행되는 것을 특징으로 하는 형상 인쇄 기술법을 이용한 배향막의 제조방법
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제 1항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 따른 형상 인쇄 기술법을 이용하여 제조된 배향막을 포함하는 액정 셀
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