요약 | 본 발명에 따르면, 도금개시촉매인 금속 에어로졸 나노입자를 생성하는 금속 에어로졸 나노입자 생성 단계; 생성된 금속 에어로졸 나노입자를 피도금체의 도금대상면에 고정하는 금속 에어로졸 나노입자 고정 단계; 및 피도금체를 무전해도금액에 함침시켜, 금속 에어로졸 나노입자가 고정된 도금대상면에 도금층을 형성하는 무전해도금 단계를 포함하는 무전해도금용 촉매활성 방법이 제공된다. 개시된 무전해도금용 촉매활성 방법에 따르면, 생성된 금속 에어로졸 나노입자를 피도금체에 직접 고정하여 무전해도금 촉매활성을 수행함에 따라 공정이 간단하고 적용성이 우수할 뿐만 아니라 대면적 적용에 용이하며 별도의 불순물이 발생되지 않아 도금 특성이 개선될 수 있고 불순물 제거를 위한 후처리 공정이 필요치 않으며 폐수가 발생되지 않아 친환경적인 장점이 있다.무전해도금, 촉매활성, 금속 에어로졸 나노입자, 금속전극 |
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Int. CL | B22F 1/02 (2011.01) |
CPC | |
출원번호/일자 | 1020070001631 (2007.01.05) |
출원인 | 연세대학교 산학협력단 |
등록번호/일자 | 10-0856873-0000 (2008.08.29) |
공개번호/일자 | 10-2008-0064573 (2008.07.09) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20080904) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 소멸 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2007.01.05) |
심사청구항수 | 12 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 연세대학교 산학협력단 | 대한민국 | 서울특별시 서대문구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 변정훈 | 대한민국 | 충남 천안시 |
2 | 고병주 | 대한민국 | 서울 은평구 |
3 | 박재홍 | 대한민국 | 서울 용산구 |
4 | 윤기영 | 대한민국 | 서울 강남구 |
5 | 황정호 | 대한민국 | 서울 용산구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 장한특허법인 | 대한민국 | 서울특별시 서초구 서초대로 ***, **층 (서초동, 서초지웰타워) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 연세대학교 산학협력단 | 대한민국 | 서울특별시 서대문구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | 특허출원서 Patent Application |
2007.01.05 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0013981-03 |
2 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2008.02.29 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0118275-42 |
3 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2008.04.14 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2008-0265260-25 |
4 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2008.04.14 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0265261-71 |
5 | 등록결정서 Decision to grant |
2008.08.25 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0439619-40 |
6 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2011.12.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5252006-10 |
7 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5062749-37 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.06.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5088566-87 |
9 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.09.25 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5114224-78 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 도금개시촉매인 금속 에어로졸 나노입자를 생성하는 금속 에어로졸 나노입자 생성 단계; 상기 생성된 금속 에어로졸 나노입자를 피도금체의 도금대상면에 고정하는 금속 에어로졸 나노입자 고정 단계;상기 피도금체를 가열압착하는 피도금체 가열 압착 단계; 및상기 피도금체를 무전해도금액에 함침시켜, 상기 금속 에어로졸 나노입자가 고정된 상기 도금대상면에 도금층을 형성하는 무전해도금 단계를 포함하는 무전해도금용 촉매활성 방법 |
2 |
2 제 1항에 있어서, 상기 금속 에어로졸 나노입자 생성 단계는,금속으로 이루어진 양 금속전극에 고전압이 인가되어 스파크가 발생되고, 상기 스파크로 발생되는 고열에 의해 상기 금속전극의 금속성분이 기화 후 응축되어 금속 에어로졸 나노입자로 형성되는 금속 에어로졸 나노입자 형성 단계;상기 양 금속전극 사이에 비활성기체 또는 질소를 공급하는 기체 공급 단계; 및 상기 공급된 비활성기체 또는 질소의 흐름을 따라 금속 에어로졸 나노입자가 이동되고 상기 이동되는 과정에서 상기 금속 에어로졸 나노입자가 서로 응집되는 금속 에어로졸 나노입자의 이동 및 응집 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 무전해도금용 촉매활성 방법 |
3 |
3 제 1항에 있어서, 상기 금속 에어로졸 나노입자 생성 단계는,고온로 내부에 주입된 금속 원재료를 가열함에 따라 상기 금속 원재료의 금속성분이 기화 후 응축되어 금속 에어로졸 나노입자로 형성되는 금속 에어로졸 나노입자 형성 단계;상기 고온로 내부에 비활성기체 또는 질소를 공급하는 기체 공급 단계; 및상기 공급된 비활성기체 또는 질소의 흐름을 따라 금속 에어로졸 나노입자가 이동되고 상기 이동되는 과정에서 상기 금속 에어로졸 나노입자가 서로 응집되는 금속 에어로졸 나노입자의 이동 및 응집 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 무전해도금용 촉매활성 방법 |
4 |
4 제 1항에 있어서, 상기 금속 에어로졸 나노입자 생성 단계는,이온상태의 금속시약액을 액체용매에 주입한 후 금속액체로 희석하여 분무하는 금속액체 분무 단계;상기 분무되는 금속액체가, 공급된 비활성기체 또는 질소에 의해 히팅튜브를 통과하는 과정에서 기화 후 응축되어 금속 에어로졸 나노입자로 형성되는 금속 에어로졸 나노입자 형성 단계; 및상기 공급된 비활성기체 또는 질소의 흐름을 따라 금속 에어로졸 나노입자가 이동되고 상기 이동되는 과정에서 상기 금속 에어로졸 나노입자가 서로 응집되는 금속 에어로졸 나노입자의 이동 및 응집 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 무전해도금용 촉매활성 방법 |
5 |
5 제 1항에 있어서, 상기 금속 에어로졸 나노입자 생성 단계는,나노입자로 이루어진 금속분말을 액체용매에 주입한 후 금속액체로 희석하여 분무하는 금속액체 분무 단계;상기 분무되는 금속액체가, 공급된 공기, 비활성기체 또는 질소에 의해 히팅튜브를 통과하는 과정에서 액체성분이 기화되어 순 금속입자만이 부유함으로써 금속 에어로졸 나노입자로 형성되는 금속 에어로졸 나노입자 형성 단계; 및상기 공급된 공기, 비활성기체 또는 질소의 흐름을 따라 금속 에어로졸 나노입자가 이동되고 상기 이동되는 과정에서 상기 금속 에어로졸 나노입자가 서로 응집되는 금속 에어로졸 나노입자의 이동 및 응집 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 무전해도금용 촉매활성 방법 |
6 |
6 제 2항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 금속 에어로졸 나노입자의 이동 및 응집 단계에서 응집되는 에어로졸 나노입자의 크기는,상기 공급되는 비활성기체 또는 질소의 유량 또는 유속에 따라 조절되는 것을 특징으로 하는 무전해도금용 촉매활성 방법 |
7 |
7 제 2항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 금속은,Pd(팔라듐), Ni(니켈), Cu(구리), Fe(철), Ag(은), Au(금), Pt(백금), Co(코발트) 중 선택된 하나 또는 그 이상의 조합에 의해 이루어진 것을 특징으로 하는 무전해도금용 촉매활성 방법 |
8 |
8 제 1항에 있어서, 상기 피도금체의 도금대상면에 플라즈마 표면처리 또는 화학제 도포를 통해 도금대상면에 요철을 생성시키고 친수성을 부여하는 도금대상면 표면처리 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 무전해도금용 촉매활성 방법 |
9 |
9 제 1항 내지 제 5항, 제 8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 금속 에어로졸 나노입자 고정 단계는,상기 생성된 금속 에어로졸 나노입자를 상기 피도금체의 도금대상면에 충돌시켜 고정하는 것을 특징으로 하는 무전해도금용 촉매활성 방법 |
10 |
10 제 1항 내지 제 5항, 제 8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 금속 에어로졸 나노입자 고정 단계는,상기 피도금체의 온도를 상기 금속 에어로졸 나노입자의 온도에 비해 낮은 온도로 조절하는 것에 의해 상기 금속 에어로졸 나노입자를 상기 피도금체의 도금대상면으로 이동 유도하여 고정하는 것을 특징으로 하는 무전해도금용 촉매활성 방법 |
11 |
11 제 1항 내지 제 5항, 제 8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 금속 에어로졸 나노입자 고정 단계는,상기 금속 에어로졸 나노입자를 양전하 또는 음전하로 대전시킨 후 전원이 인가되는 양 전극판 사이의 피도금체로 이동시켜 상기 양 전극판 중 일 전극판과 상기 양전하 또는 음전하 간의 인력작용을 이용하여 상기 금속 에어로졸 나노입자를 상기 피도금체의 도금대상면으로 이동 유도하여 고정하는 것을 특징으로 하는 무전해도금용 촉매활성 방법 |
12 |
12 삭제 |
13 |
13 제 11항에 있어서,상기 금속 에어로졸 나노입자 생성 단계 이후에 상기 생성된 금속 에어로졸 나노입자에 점착액이 분무 혼합되거나, 상기 금속 에어로졸 나노입자 고정 단계 이전에 상기 도금대상면에 점착액이 도포되거나, 상기 금속 에어로졸 나노입자 고정 단계 이후에 금속 에어로졸 나노입자가 고정된 도금대상면에 점착액이 도포되는 부착개선제 처리 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 무전해도금용 촉매활성 방법 |
지정국 정보가 없습니다 |
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순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | US20080166500 | US | 미국 | FAMILY |
2 | US20100272903 | US | 미국 | FAMILY |
3 | US20100272904 | US | 미국 | FAMILY |
4 | US20100272905 | US | 미국 | FAMILY |
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | US2008166500 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
2 | US2010272903 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
3 | US2010272904 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
4 | US2010272905 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
국가 R&D 정보가 없습니다. |
---|
특허 등록번호 | 10-0856873-0000 |
---|
표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20070105 출원 번호 : 1020070001631 공고 연월일 : 20080904 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20080825 청구범위의 항수 : 12 유별 : B22F 1/02 발명의 명칭 : 무전해도금용 촉매활성 방법 존속기간(예정)만료일 : 20170830 |
순위번호 | 사항 |
---|---|
1 |
(권리자) 연세대학교 산학협력단 서울특별시 서대문구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 303,000 원 | 2008년 09월 01일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 304,000 원 | 2011년 06월 21일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 304,000 원 | 2012년 08월 27일 | 납입 |
제 6 년분 | 금 액 | 304,000 원 | 2013년 08월 30일 | 납입 |
제 7 년분 | 금 액 | 556,000 원 | 2014년 09월 01일 | 납입 |
제 8 년분 | 금 액 | 556,000 원 | 2015년 09월 01일 | 납입 |
제 9 년분 | 금 액 | 389,200 원 | 2016년 08월 30일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | 특허출원서 | 2007.01.05 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0013981-03 |
2 | 의견제출통지서 | 2008.02.29 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0118275-42 |
3 | [명세서등 보정]보정서 | 2008.04.14 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2008-0265260-25 |
4 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2008.04.14 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0265261-71 |
5 | 등록결정서 | 2008.08.25 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0439619-40 |
6 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2011.12.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5252006-10 |
7 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5062749-37 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.06.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5088566-87 |
9 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.09.25 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5114224-78 |
기술정보가 없습니다 |
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과제고유번호 | 1345071048 |
---|---|
세부과제번호 | 과C6A1805 |
연구과제명 | 나노,마이크로 응용기계기술 인력양성사업단 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국학술진흥재단 |
연구주관기관명 | 연세대학교 |
성과제출연도 | 2008 |
연구기간 | 200603~201302 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | 기타 |
과제고유번호 | 1340013829 |
---|---|
세부과제번호 | 과C6A1805 |
연구과제명 | 나노마이크로응용기계기술인력양성사업단 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국학술진흥재단 |
연구주관기관명 | 연세대학교 |
성과제출연도 | 2006 |
연구기간 | 200603~201202 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | 기타 |
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