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하기 화학식 1로 표시되는 덴드리머:[화학식 1]상기 식중, L은 덴드리머의 코어방향인 이전 세대로의 연결체를 의미하고, TT는 각각 덴드리머의 말단 방향인 다음 세대로의 연결체를 의미하고, K는 방향족 탄화수소를 의미한다
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제1항에 있어서, 상기 K는 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 비페닐, 테레프탈산, 나프탈렌, 또는 안트라센인 것을 특징으로 하는 덴드리머
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제1항에 있어서, 세대수가 3 내지 100인 것을 특징으로 하는 덴드리머
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제1항에 있어서, 상기 덴드리머의 코어는 메틸트리페놀에 의하여 형성된 아세탈 그룹인 것을 특징으로 하는 덴드리머
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제1항에 있어서, 덴드리머의 말단 표면이 술폰산기, 시아노기, 이소시아네이트기, 카르복실기, 아실기, 포르밀기, 아미녹, 알케닐기, 알키닐기, 및 히드록실기로 이루어진 군에서 선택된 하나로 치환된 것을 특징으로 하는 덴드리머
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제1항에 있어서, 하기 화학식 9로 표시되는 것을 특징으로 하는 덴드리머:[화학식 9]
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1) 하기 화학식 2로 표시되는 화합물과 화학식 3으로 표시되는 화합물의 반응에 의하여 제1세대 덴드론을 형성하는 단계;2) 상기 제1세대 덴드론을 아미노화 공정을 통하여 제1세대 디아미노 덴드론을 형성하는 단계;3) 상기 제1세대 디아미노 덴드론을 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물과 반응시켜 제2세대 덴드론을 형성하는 단계;4) 상기 제2세대 덴드론을 아미노화 공정을 통하여 제2세대 디아미노 덴드론을 형성하는 단계;5) 상기 제2세대 디아미노 덴드론을 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물과 반응시켜 제3세대 덴드론을 형성하는 단계; 및6) 상기 제3세대 덴드론을 메틸트리페놀과 반응시켜 덴드리머를 형성하는 단계;를 포함하는 화학식 1로 표시되는 덴드리머의 제조방법:[화학식 1][화학식 2][화학식 3]상기 식중, L은 덴드리머의 코어방향인 이전 세대로의 연결체를 의미하고, TT는 각각 덴드리머의 말단 방향인 다음 세대로의 연결체를 의미하고, K는 방향족 탄화수소를 의미하고, X는 할로겐 원자를 의미하고, A는 아미노기이다
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제7항에 있어서, 상기 K는 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 비페닐, 테레프탈산, 나프탈렌, 또는 안트라센인 것을 특징으로 하는 덴드리머의 제조방법
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제7항에 있어서, 제n세대 디아미노 덴드론을 형성하는 단계와 제(n+1)세대 덴드론을 형성하는 단계가 교대로 반복되는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 덴드리머의 제조방법[여기서, n은 4 내지 9임]
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제7항에 있어서, 상기 덴드리머의 코어는 메틸트리페놀에 의하여 형성된 아세탈 그룹인 것을 특징으로 하는 덴드리머의 제조방법
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제7항에 있어서, 상기 덴드리머의 말단 표면이 술폰산기, 시아노기, 이소시아네이트기, 카르복실기, 아실기, 포르밀기, 아미녹, 알케닐기, 알키닐기, 및 히드록실기로 이루어진 군에서 선택된 하나로 치환된 것을 특징으로 하는 덴드리머의 제조방법
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제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 따른 덴드리머를 고분자 전해질 막으로 채용한 것을 특징으로 하는 고분자 전해질 막 연료전지
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