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광촉매 입자를 산용액, 염기용액 및 초순수로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 용액에 투입하여 광촉매 입자 표면의 불순물을 제거하는 세척단계;상기 세척단계에서 세척된 광촉매 입자 표면에 개시촉매입자를 담지시키는 개시촉매입자 코팅단계; 및상기 광촉매 입자를 초순수로 세척한 다음, 진공-가열하는 열처리단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 코팅된 광촉매 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 열처리단계 이전에,상기 개시촉매입자가 담지된 광촉매 입자 표면의 불순물을 제거하는 촉진단계; 및상기 광촉매 입자를 무전해 금속코팅용액에 투입하여 상기 광촉매 입자 표면의 개시촉매입자 위로 금속 입자를 성장시키는 금속코팅단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 코팅된 광촉매 제조방법
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제 2항에 있어서,상기 금속코팅용액은 금속염 및 환원제를 포함하는 것을 특징으로 하는 금속 코팅된 광촉매 제조방법
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제 2항에 있어서,상기 금속 입자는 구리(Cu), 은(Ag), 니켈(Ni), 코발트(Co), 팔라듐(Pd) 및 금(Au)으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 금속 코팅된 광촉매 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 광촉매 입자는 이산화티타늄(TiO2), 산화텅스텐(WO3), 산화텅스텐-이산화티타늄(WO3-TiO2), 황화아연(ZnS), 산화니켈(NiO) 및 산화철(Fe2O3)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 금속 코팅된 광촉매 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 산용액은 염산(HCl), 황산(H2SO4), 질산(HNO3), 탄산(H2CO3), 붕산(H3BO3), 인산(H3PO4) 및 아세트산(CH3COOH)으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상의 용액이 0
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제 1항에 있어서,상기 염기용액은 수산화나트륨(NaOH), 수산화암모늄(NH4OH), 수산화칼륨(KOH), 수산화칼슘(Ca(OH)2), 수산화구리(Cu(OH)2), 수산화철(Fe(OH)3)으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상의 용액이 0
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제 1항에 있어서, 상기 개시촉매입자 코팅단계는, 상기 광촉매 입자를 금속코팅 개시제가 포함된 용액에 투입하여 응집되도록 하는 방법;상기 광촉매 입자와 개시촉매입자를 에어로졸 상태로 공존시켜 응집되도록 하는 방법; 또는에어로졸 상의 개시촉매입자가 수용화된 용액 또는 합성된 개시촉매입자 용액 내에 상기 광촉매 입자를 분산시킨 후 외력을 가해 응집되도록 하는 방법에서 선택된 어느 하나의 방법으로 코팅하는 것을 특징으로 하는 금속 코팅된 광촉매 제조방법
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제 8항에 있어서,상기 금속코팅 개시제는 예민화제 및 촉매화제를 포함하고,상기 예민화제로는 염화주석(SnCl2)을 사용하고, 상기 촉매화제로는 염화백금산(H2PtCl6), 염화팔라듐(PdCl2), 시안화 금칼륨(KAu(CN)2), 염화금산수화물(HAuCl4·4H2O), 염화금(AuCl3) 및 질산은(AgNO3)으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나를 사용한 것을 특징으로 하는 금속 코팅된 광촉매 제조방법
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제 1항 내지 제 9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 각 단계는 여과반응조 내에서 연속적으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 금속 코팅된 광촉매 제조방법
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