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액상 수용액을 이용한 전지층의 제조방법 및 이를 이용한적층형 실리콘 태양전지의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015125180
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 액상 수용액을 이용한 전지층의 제조방법 및 이를 이용한 적층형 실리콘 태양전지의 제조방법에 관한 것으로, 기판 상에 적어도 하나의 전지층을 포함하는 적층형 실리콘 태양전지를 형성하기 위한 상기 전지층을 제조하는 방법에 있어서, 기판 상에 p형 불순물이 혼합된 액상 수용액을 도포한 후, 가열 및 건조 공정을 통해 p형 도핑막을 형성하는 단계와, 상기 p형 도핑막의 상면에 비 도핑된 액상 수용액을 도포한 후, 가열 및 건조 공정을 통행 i형 진성막을 형성하는 단계와, 상기 i형 진성막의 상면에 n형 불순물이 혼합된 액상 수용액을 도포한 후, 가열 및 건조 공정을 통해 n형 도핑막을 형성하는 단계와, 열처리 공정을 통해 p-i-n형의 비정질 실리콘막을 형성하는 단계를 포함함으로써, 적층형 실리콘 태양전지를 제조함에 있어서, 제조 비용을 절감할 수 있는 효과가 있다. 태양전지, 비정질 실리콘, 액상 수용액, 다결정질 실리콘
Int. CL H01L 31/075 (2014.01) H01L 31/04 (2014.01)
CPC H01L 31/1804(2013.01) H01L 31/1804(2013.01) H01L 31/1804(2013.01) H01L 31/1804(2013.01) H01L 31/1804(2013.01)
출원번호/일자 1020080007510 (2008.01.24)
출원인 연세대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2009-0081569 (2009.07.29) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.01.24)
심사청구항수 13

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김현재 대한민국 서울 종로구
2 정태훈 대한민국 서울 서대문구
3 허건의 대한민국 서울 서대문구
4 모조드 압데라피 캐나다 캐나다, 퀘백, 로렌트 스트리트

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 정태훈 대한민국 서울특별시 송파구 법원로 ***, A동 ****호(문정동, 엠스테이트)(특허법인 티앤아이)
2 오용수 대한민국 서울특별시 송파구 법원로 ***, A동 ****호(문정동, 엠스테이트)(특허법인 티앤아이)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.01.24 수리 (Accepted) 1-1-2008-0060182-65
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2008.02.05 수리 (Accepted) 1-1-2008-0095884-17
3 [대리인해임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Dismissal of Sub-agent] Report on Agent (Representative)
2008.08.26 수리 (Accepted) 1-1-2008-0608986-54
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2009.08.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2009.09.15 수리 (Accepted) 9-1-2009-0051813-54
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2009.10.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0442351-15
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2009.12.22 수리 (Accepted) 1-1-2009-0792593-75
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2009.12.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0792591-84
9 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2010.04.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0167791-86
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2011-5252006-10
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2013-5062749-37
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.06.24 수리 (Accepted) 4-1-2013-5088566-87
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.09.25 수리 (Accepted) 4-1-2014-5114224-78
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판 상에 적어도 하나의 전지층을 포함하는 적층형 실리콘 태양전지를 형성하기 위한 상기 전지층을 제조하는 방법에 있어서, (a) 기판 상에 p형 불순물이 혼합된 액상 수용액을 도포한 후, 가열 및 건조 공정을 통해 p형 도핑막을 형성하는 단계; (b) 상기 p형 도핑막의 상면에 비 도핑된 액상 수용액을 도포한 후, 가열 및 건조 공정을 통해 i형 진성막을 형성하는 단계; (c) 상기 i형 진성막의 상면에 n형 불순물이 혼합된 액상 수용액을 도포한 후, 가열 및 건조 공정을 통해 n형 도핑막을 형성하는 단계; 및 (d) 열처리 공정을 통해 p-i-n형의 비정질 실리콘막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액상 수용액을 이용한 전지층의 제조방법
2 2
기판 상에 적어도 하나의 전지층을 포함하는 적층형 실리콘 태양전지를 형성하기 위한 상기 전지층을 제조하는 방법에 있어서, (a') 기판 상에 p형 불순물이 혼합된 액상 수용액을 도포한 후, 가열, 건조 및 열처리 공정을 통해 p형 비정질 실리콘막을 형성하는 단계; (b') 상기 p형 비정질 실리콘막의 상면에 비 도핑된 액상 수용액을 도포한 후, 가열, 건조 및 열처리 공정을 통해 i형 비정질 실리콘막을 형성하는 단계; 및 (c') 상기 i형 비정질 실리콘막의 상면에 n형 불순물이 혼합된 액상 수용액을 도포한 후, 가열, 건조 및 열처리 공정을 통해 n형 비정질 실리콘막을 형성하여, p-i-n형의 비정질 실리콘막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액상 수용액을 이용한 전지층의 제조방법
3 3
제1 항 또는 제2 항에 있어서, 상기 단계(d) 또는 단계(c')이후에, 상기 p-i-n형의 비정질 실리콘막에 대한 결정화 공정을 수행하여 p-i-n형의 다결정질 실리콘막으로 변환하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액상 수용액을 이용한 전지층의 제조방법
4 4
제3 항에 있어서, 상기 결정화 공정은 고에너지 레이저광에 노출시켜 결정화하는 것을 특징으로 하는 액상 수용액을 이용한 전지층의 제조방법
5 5
제3 항에 있어서, 상기 p-i-n형의 다결정질 실리콘막의 상면에 p형 불순물이 혼합된 액상 수용액을 도포한 후, 가열 및 건조 공정을 통해 p형 도핑막을 형성하는 단계; 상기 p형 도핑막의 상면에 비 도핑된 액상 수용액을 도포한 후, 가열 및 건조 공정을 통해 i형 진성막을 형성하는 단계; 상기 i형 진성막의 상면에 n형 불순물이 혼합된 액상 수용액을 도포한 후, 가열 및 건조 공정을 통해 n형 도핑막을 형성하는 단계; 및 열처리 공정을 통하여 p-i-n형의 비정질 실리콘막을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액상 수용액을 이용한 전지층의 제조방법
6 6
제3 항에 있어서, 상기 p-i-n형의 다결정질 실리콘막의 상부에 p형 불순물이 혼합된 액상 수용액을 도포한 후, 가열, 건조 및 열처리 공정을 통해 p형 비정질 실리콘막을 형성하는 단계; 상기 p형 비정질 실리콘막의 상면에 비 도핑된 액상 수용액을 도포한 후, 가열, 건조 및 열처리 공정을 통해 i형 비정질 실리콘막을 형성하는 단계; 및 상기 i형 비정질 실리콘막의 상면에 n형 불순물이 혼합된 액상 수용액을 도포한 후, 가열, 건조 및 열처리 공정을 통해 n형 비정질 실리콘막을 형성하여 p-i-n형의 비정질 실리콘막을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액상 수용액을 이용한 전지층의 제조방법
7 7
제1 항, 제2 항, 제5 항 또는 제6 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 p형 불순물 및 n형 불순물은 각각 붕소(B) 및 인(P)인 것을 특징으로 하는 액상 수용액을 이용한 전지층의 제조방법
8 8
제1 항, 제2 항, 제5 항 또는 제6 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 가열 공정은 120℃ 내지 170℃로 가열하는 것을 특징으로 하는 액상 수용액을 이용한 전지층의 제조방법
9 9
제1 항, 제2 항, 제5 항 또는 제6 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 열처리 공정은 350℃ 내지 550℃로 가열하는 것을 특징으로 하는 액상 수용액을 이용한 전지층의 제조방법
10 10
적층형 실리콘 태양전지의 제조방법에 있어서, (a") 기판 상에 액상 수용액을 이용하여 p-i-n형의 다결정질 실리콘막으로 이루어진 제1 전지층을 형성하는 단계; (b") 상기 제1 전지층의 상면에 액상 수용액을 이용하여 p-i-n형의 비정질 실리콘막으로 이루어진 제2 전지층을 형성하는 단계; 및 (c") 상기 기판 및 제2 전지층의 노출면에 각각 제1 및 제2 전극을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액상 수용액을 이용한 적층형 실리콘 태양전지의 제조방법
11 11
제10 항에 있어서, 상기 단계(a")에서, 상기 제1 전지층은, (a"-1) 기판 상에 p형 불순물이 혼합된 액상 수용액을 도포한 후, 가열 및 건조 공정을 통해 p형 도핑막을 형성하는 단계; (a"-2) 상기 p형 도핑막의 상면에 비 도핑된 액상 수용액을 도포한 후, 가열 및 건조 공정을 통해 i형 진성막을 형성하는 단계; (a"-3) 상기 i형 진성막의 상면에 n형 불순물이 혼합된 액상 수용액을 도포한 후, 가열 및 건조 공정을 통해 n형 도핑막을 형성하는 단계; (a"-4) 열처리 공정을 통하여 p-i-n형의 비정질 실리콘막을 형성하는 단계; 및 (a"-5) 상기 p-i-n형의 비정질 실리콘막에 대한 결정화 공정을 통해 p-i-n형의 다결정질 실리콘막으로 변환하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액상 수용액을 이용한 적층형 실리콘 태양전지의 제조방법
12 12
제10 항에 있어서, 상기 단계(a")에서, 상기 제1 전지층은, (a"-1') 기판 상에 p형 불순물이 혼합된 액상 수용액을 도포한 후, 가열, 건조 및 열처리 공정을 통해 p형 비정질 실리콘막을 형성하는 단계; (a"-2') 상기 p형 비정질 실리콘막의 상면에 비 도핑된 액상 수용액을 도포한 후, 가열, 건조 및 열처리 공정을 통해 i형 비정질 실리콘막을 형성하는 단계; (a"-3') 상기 i형 비정질 실리콘막의 상면에 n형 불순물이 혼합된 액상 수용액을 도포한 후, 가열, 건조 및 열처리 공정을 통해 n형 비정질 실리콘막을 형성하는 단계; 및 (a"-4') 상기 p-i-n형의 비정질 실리콘막에 대한 결정화 공정을 통해 p-i-n형의 다결정질 실리콘막으로 변환하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액상 수용액을 이용한 적층형 실리콘 태양전지의 제조방법
13 13
제10 항에 있어서, 상기 단계(b")에서, 상기 제2 전지층은, (b"-1) 상기 제1 전지층의 상면에 p형 불순물이 혼합된 액상 수용액을 도포한 후, 가열 및 건조 공정을 통해 p형 도핑막을 형성하는 단계; (b"-2) 상기 p형 도핑막의 상면에 비 도핑된 액상 수용액을 도포한 후, 가열 및 건조 공정을 통해 i형 진성막을 형성하는 단계; (b"-3) 상기 i형 진성막의 상면에 n형 불순물이 혼합된 액상 수용액을 도포한 후, 가열 및 건조 공정을 통해 n형 도핑막을 형성하는 단계; 및 (b"-4) 열처리 공정을 통해 p-i-n형의 비정질 실리콘막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액상 수용액을 이용한 적층형 실리콘 태양전지의 제조방법
14 14
제10 항에 있어서, 상기 단계(b")에서, 상기 제2 전지층은, (b"-1') 상기 제1 전지층의 상면에 p형 불순물이 혼합된 액상 수용액을 도포한 후, 가열, 건조 및 열처리 공정을 통해 p형 비정질 실리콘막을 형성하는 단계; (b"-2') 상기 p형 비정질 실리콘막의 상면에 비 도핑된 액상 수용액을 도포한 후, 가열, 건조 및 열처리 공정을 통해 i형 비정질 실리콘막을 형성하는 단계; 및 (b"-3') 상기 i형 비정질 실리콘막의 상면에 n형 불순물이 혼합된 액상 수용액을 도포한 후, 가열, 건조 및 열처리 공정을 통해 n형 비정질 실리콘막을 형성하여 p-i-n형의 비정질 실리콘막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액상 수용액을 이용한 적층형 실리콘 태양전지의 제조방법
15 15
제10 항에 있어서, 상기 단계(a")이후에, 상기 제1 및 제2 전지층의 사이에 개제되도록, 상기 제1 전지층의 상면에 투명한 전도성 박막을 적층하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액상 수용액을 이용한 적층형 실리콘 태양전지의 제조방법
16 16
제15 항에 있어서, 상기 전도성 박막은 백금, 티타늄 또는 염화니켈 중 선택된 어느 하나의 금속 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 액상 수용액을 이용한 적층형 실리콘 태양전지의 제조방법
17 17
제10 항에 있어서, 상기 단계(b") 이후, 상기 제2 전지층 및 제2 전극의 사이에 개제되도록 상기 제2 전지층의 상면에 반사방지막 또는 나노 실리콘층을 적층하거나, 반사방지막 및 나노 실리콘층을 순차적으로 적층하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액상 수용액을 이용한 적층형 실리콘 태양전지의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.