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화학 공장 설비의 재질선택도를 확립하는 단계로서, (1) 화학 공장에서 수행되는 공정에 대한 공정흐름도를 확립하는 단계; 및 (2) 단계 (1)에서 확립된 공정흐름도에 각 설비별 재질을 구분하여 지정하는 단계를 포함하는 제 1 단계; 제 1 단계에서 확립된 재질선택도에 근거하여, 화학 공장의 단위 설비의 세부 부위별로 손상 메커니즘을 규명하는 단계로서, (a) 화학 공장 공정과 관련된 설계 정보 및 운전 데이터 정보를 수집하는 단계; (b) 공정 스트림 내에 포함된 부식성 물질 정보를 수집하는 단계; 및 (c) 단계 (a)와 (b)에서 수집된 정보에 근거하여 단위 설비의 세부 부위별로 손상메커니즘을 규정하는 단계를 포함하는 제 2 단계; 및 제 2 단계에서 규명된 손상 메커니즘을 근거로 화학 공장 설비의 부식에 영향을 주는 주요 변수로서, pH, Cl- 함량, Fe 함량, 황화수소 함량, 암모니아 함량, TAN 함량, 수소분압, 온도, 압력 및 부식률로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 주요 변수를 도출하고, 이를 근거로 화학 공장의 각 설비별 검사 방법, 검사 위치, 주요 변수의 최대 또는 최소 허용치 또는 검사 주기에 대한 정보를 포함하는 화학 공장의 검사 가이드라인을 확립하는 제 3 단계를 포함하는 화학 공장의 부식 방지 방법
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제 1 항에 있어서, 화학 공장은 정유 공장 또는 석유화학 공장인 방법
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제 1 항에 있어서, 공정흐름도는 공정 파이프, 공정 장치 아이템, 공정 주요 밸브, 공정 시스템간의 연결 관계, 바이패스 흐름, 재순환 흐름, 공정 온도, 공정 압력, 공정의 질량흐름속도, 공정 밀도 및 공정 스트림명으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상에 관한 정보를 포함하는 방법
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제 1 항에 있어서, 단계 (a)에서 수집된 설계 정보 및 운전 데이터를 근거로 공정 온도, 공정 압력 또는 공정 열처리 여부를 확인하는 단계를 추가로 수행하는 방법
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제 1 항에 있어서, 부식성 물질이 황, 나프텐산, 폴리티온산, 염화물, 이산화탄소, 암모니아, 시아나이드, 염화수소, 황화수소, 불산, 황산, 수소, 페놀류, 산소 및 탄소로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 방법
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제 1 항에 있어서, 주요 변수는 미국석유협회규격 571, 미국석유협회규격 580 및 미국석유협회규격 581으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상에 근거하여 산출되는 방법
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제 1 항에 있어서, 검사 가이드라인은 미국석유협회규격 571, 미국석유협회규격 580 및 미국석유협회규격 581로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상에 근거하여 확립되는 방법
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제 1 항, 제 2 항, 제 4 항, 제 6 항, 제 7 항, 제 9 항 또는 제 11 항에 따른 방법을 수행하는 프로그램이 기록되고, 전자 장치로 판독 가능한 기록 매체
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제 1 항, 제 2 항, 제 4 항, 제 6 항, 제 7 항, 제 9 항 또는 제 11 항에 따른 방법으로 산출된 주요 변수에 관한, 화학 공장 검사 가이드라인을 제시할 수 있는 처리부; 상기 처리부와 연동되어 있으며, 상기 처리부에서 제시된 가이드라인에 따라 화학 공장의 설비에 대한 주요 변수를 모니터링할 수 있는 측정부; 및 상기 측정부 및 처리부와 연동되어 있으며, 상기 측정부에서 모니터링된 주요 변수가 상기 처리부에서 제시된 가이드라인을 벗어날 경우, 화학 공장의 가동 상태 또는 주요 변수의 모니터링 조건을 조절할 수 있는 제어부를 포함하는 화학 공장의 관리 장치
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제 13 항에 있어서, 검사 가이드라인은 설비 검사의 우선 순위, 검사 방법, 주요 변수의 최대 허용치, 주요 변수의 최소 허용치, 검사 주기 및 검사 일정 계획으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상에 관한 정보를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치
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