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패턴 제어 또는 입사광 제어를 이용한 반사광 제어 유닛 및 반사광 제어 방법과, 이를 이용한 광학적 디스플레이 장치 및 반사광 제어 시스템

  • 기술번호 : KST2015125526
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 패턴 제어 또는 입사광 제어를 이용한 반사광 제어 유닛 및 반사광 제어 방법과, 이를 이용한 광학적 디스플레이 장치 및 반사광 제어 시스템에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 본 발명은 i) 표면에 일정한 패턴이 형성되며, 외부 자극에 의해 상기 패턴의 피치 및 형상이 변화하는 매질, ii) 상기 매질에 자극을 가하는 자극수단 및 iii) 상기 매질 표면에 특정 파장 및 입사각을 가지는 입사광을 조사하는 조사수단을 포함하는 패턴 제어를 이용한 반사광 제어 유닛과, i) 표면에 일정한 피치 및 형상을 가지는 패턴이 형성된 매질; ii) 상기 매질 표면에 특정 파장 및 입사각을 가지는 입사광을 조사하는 조사수단 및 iii) 상기 조사수단에서 상기 매질 표면으로 조사되는 입사광의 파장 및 입사각을 조절하는 제어수단을 포함하는 입사광 제어를 이용한 반사광 제어 유닛, 및 이를 이용한 반사광 제어 방법, 광학적 디스플레이 장치 및 반사광 제어 시스템에 대한 것이다. 패턴, 피치, 형상, 입사광, 입사각, 파장, 반사광
Int. CL G02B 26/08 (2006.01)
CPC G02B 26/0858(2013.01) G02B 26/0858(2013.01) G02B 26/0858(2013.01) G02B 26/0858(2013.01) G02B 26/0858(2013.01)
출원번호/일자 1020090099961 (2009.10.20)
출원인 연세대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1078895-0000 (2011.10.26)
공개번호/일자 10-2011-0043038 (2011.04.27) 문서열기
공고번호/일자 (20111101) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.10.20)
심사청구항수 42

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 민병권 대한민국 서울 성북구
2 이상조 대한민국 경기 고양시 일산동구
3 한진 대한민국 서울 서대문구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인(유)화우 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로***길 **, *층 (대치동, 삼호빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2009.10.20 수리 (Accepted) 1-1-2009-0642747-81
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2009.12.16 수리 (Accepted) 1-1-2009-0776445-51
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2011.01.19 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2011.02.21 수리 (Accepted) 9-1-2011-0015638-85
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2011.03.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0163409-12
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2011.05.24 수리 (Accepted) 1-1-2011-0387486-57
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.05.24 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0387488-48
8 등록결정서
Decision to grant		 2011.09.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0521766-94
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2011-5252006-10
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2013-5062749-37
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.06.24 수리 (Accepted) 4-1-2013-5088566-87
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.09.25 수리 (Accepted) 4-1-2014-5114224-78
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
i) 표면에 일정한 패턴이 형성되며, 외부 자극에 의해 상기 패턴의 피치 및 형상이 변화하는 매질; ii) 상기 매질 표면에 형성된 패턴의 피치 및 형상을 조절하기 위하여 상기 매질에 자극을 가하는 자극수단; 및 iii) 상기 매질 표면에 특정 파장 및 입사각을 가지는 입사광을 조사하는 조사수단을 포함하며, 상기 매질 표면에 형성된 패턴의 피치 및 형상 변화에 의하여 상기 매질 표면에 조사되는 입사광의 반사 파장이 변화하고, 상기 매질 표면에 형성된 패턴이 일정한 피치로 형성된 라인(line) 또는 도트(dot) 형상인 것을 특징으로 하는 패턴 제어를 이용한 반사광 제어 유닛
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
제1항에 있어서, 상기 패턴이 형성된 매질 표면에 조사되는 입사광의 반사 파장이 하기식 (1)의 반사광 세기(IΦ) 통하여 결정되는 것을 특징으로 하는 패턴 제어를 이용한 반사광 제어 유닛
5 5
제1항에 있어서, 상기 자극 수단이 열적 또는 전기적 자극 수단이며, 상기 매질이 상기 열적 또는 전기적 자극 수단에 의하여 수축 또는 팽창하는 것을 특징으로 하는 패턴 제어를 이용한 반사광 제어 유닛
6 6
제5항에 있어서, 상기 매질이 열가소성(thermoplastic) 물질, 금속 물질 또는 피에조(piezo) 물질인 것을 특징으로 하는 패턴 제어를 이용한 반사광 제어 유닛
7 7
제1항에 있어서, 상기 자극 수단이 기계적 자극 수단이며, 상기 매질이 상기 기계적 자극 수단에 의하여 변형(transformation)이 일어나는 것을 특징으로 하는 패턴 제어를 이용한 반사광 제어 유닛
8 8
제7항에 있어서, 상기 매질이 신축성(elasticity)을 가지는 폴리머 물질인 것을 특징으로 하는 패턴 제어를 이용한 반사광 제어 유닛
9 9
i) 표면에 일정한 패턴이 형성되며, 외부 자극에 의해 상기 패턴의 피치 및 형상이 변화하는 매질, 및 상기 매질 표면에 형성된 패턴의 피치 및 형상을 조절하기 위하여 상기 매질에 자극을 가하는 자극수단으로 구성된 다수의 발광 유닛; ii) 상기 자극수단들에 의해 각각의 매질들에 가해지는 자극들을 제어하는 제어수단; 및 iii) 상기 매질들 표면에 특정 파장 및 입사각을 가지는 입사광을 조사하는 조사수단; 을 포함하는 패턴 제어를 이용한 광학적 디스플레이 장치
10 10
제9항에 있어서, 상기 매질들 표면에 형성된 패턴의 피치 및 형상 변화에 의하여 상기 매질들 표면에 조사되는 입사광의 반사 파장이 변화하는 것을 특징으로 하는 패턴 제어를 이용한 광학적 디스플레이 장치
11 11
제9항 또는 제10항에 있어서, 상기 매질들 표면에 형성된 패턴이 일정한 피치로 형성된 라인(line) 또는 도트(dot) 형상인 것을 특징으로 하는 패턴 제어를 이용한 광학적 디스플레이 장치
12 12
제11항에 있어서, 상기 패턴이 형성된 매질들 표면에 조사되는 입사광의 반사 파장이 하기식 (1)의 반사광 세기(IΦ) 통하여 결정되는 것을 특징으로 하는 패턴 제어를 이용한 광학적 디스플레이 장치
13 13
제9항 또는 제10항에 있어서, 상기 자극 수단이 열적 또는 전기적 자극 수단이며, 상기 매질이 상기 열적 또는 전기적 자극 수단에 의하여 수축 또는 팽창하는 것을 특징으로 하는 패턴 제어를 이용한 광학적 디스플레이 장치
14 14
제13항에 있어서, 상기 매질이 열가소성(thermoplastic) 물질, 금속 물질 또는 피에조(piezo) 물질인 것을 특징으로 하는 패턴 제어를 이용한 광학적 디스플레이 장치
15 15
제9항 또는 제10항에 있어서, 상기 자극 수단이 기계적 자극 수단이며, 상기 매질이 상기 기계적 자극 수단에 의하여 변형(transformation)이 일어나는 것을 특징으로 하는 패턴 제어를 이용한 광학적 디스플레이 장치
16 16
제15항에 있어서, 상기 매질이 신축성(elasticity)을 가지는 폴리머 물질인 것을 특징으로 하는 패턴 제어를 이용한 광학적 디스플레이 장치
17 17
표면에 일정한 패턴이 형성된 매질, 상기 매질에 자극을 가하는 자극수단, 및 상기 매질들 표면에 입사광을 조사하는 조사수단으로 구성된 광학 장치에 있어서, 상기 자극수단에 의해 상기 매질에 가해지는 자극을 조절하여 매질 표면에 형성된 패턴의 피치 및 형상을 제어함으로써, 상기 매질 표면에 조사되는 입사광의 반사 파장을 제어하는 단계를 포함하며, 상기 매질 표면에 형성된 패턴이 일정한 피치로 형성된 라인(line) 또는 도트(dot) 형상인 것을 특징으로 하는 패턴 제어를 이용한 반사광 제어 방법
18 18
삭제
19 19
제17항에 있어서, 상기 패턴이 형성된 매질 표면에 조사되는 입사광의 반사 파장이 하기식 (1)의 반사광 세기(IΦ) 통하여 결정되는 것을 특징으로 하는 패턴 제어를 이용한 반사광 제어 방법
20 20
제17항에 있어서, 상기 자극 수단이 열적 또는 전기적 자극 수단이며, 상기 매질이 상기 열적 또는 전기적 자극 수단에 의하여 수축 또는 팽창하는 것을 특징으로 하는 패턴 제어를 이용한 반사광 제어 방법
21 21
제20항에 있어서, 상기 매질이 열가소성(thermoplastic) 물질, 금속 물질 또는 피에조(piezo) 물질인 것을 특징으로 하는 패턴 제어를 이용한 반사광 제어 방법
22 22
제17항에 있어서, 상기 자극 수단이 기계적 자극 수단이며, 상기 매질이 상기 기계적 자극 수단에 의하여 변형(transformation)이 일어나는 것을 특징으로 하는 패턴 제어를 이용한 반사광 제어 방법
23 23
제22항에 있어서, 상기 매질이 신축성(elasticity)을 가지는 폴리머 물질인 것을 특징으로 하는 패턴 제어를 이용한 반사광 제어 방법
24 24
i) 표면에 일정한 패턴이 형성되며 외부 자극에 의해 상기 패턴의 피치 및 형상이 변화하는 매질, 및 상기 매질 표면에 형성된 패턴의 피치 및 형상을 조절하기 위하여 상기 매질에 자극을 가하는 자극수단으로 구성된 다수의 발광부; ii) 상기 다수의 발광부를 구성하는 각각의 매질 표면에 구현되는 색 및 매질 표면에서 반사되는 반사광의 파장들을 결정하고, 상기 결정된 색 및 반사광의 파장에 따라 특정한 패턴 피치 및 형상을 갖도록 각각의 매질에 가해지는 자극을 조절하는 제어부; 및 iii) 상기 매질들 표면에 특정 파장 및 입사각을 가지는 입사광을 조사하는 조사부; 를 포함하는 패턴 제어를 이용한 반사광 제어 시스템
25 25
제24항에 있어서, 상기 매질 표면에 형성된 패턴이 일정한 피치로 형성된 라인(line) 또는 도트(dot) 형상인 것을 특징으로 하는 패턴 제어를 이용한 반사광 제어 시스템
26 26
제25항에 있어서, 상기 패턴이 형성된 매질 표면에 조사되는 입사광의 반사 파장이 하기식 (1)의 반사광 세기(IΦ) 통하여 결정되는 것을 특징으로 하는 패턴 제어를 이용한 반사광 제어 시스템
27 27
제24항에 있어서, 상기 자극 수단이 열적 또는 전기적 자극 수단이며, 상기 매질이 상기 열적 또는 전기적 자극 수단에 의하여 수축 또는 팽창하는 것을 특징으로 하는 패턴 제어를 이용한 반사광 제어 시스템
28 28
제27항에 있어서, 상기 매질이 열가소성(thermoplastic) 물질, 금속 물질 또는 피에조(piezo) 물질인 것을 특징으로 하는 패턴 제어를 이용한 반사광 제어 시스템
29 29
제24항에 있어서, 상기 자극 수단이 기계적 자극 수단이며, 상기 매질이 상기 기계적 자극 수단에 의하여 변형(transformation)이 일어나는 것을 특징으로 하는 패턴 제어를 이용한 반사광 제어 시스템
30 30
제29항에 있어서, 상기 매질이 신축성(elasticity)을 가지는 폴리머 물질인 것을 특징으로 하는 패턴 제어를 이용한 반사광 제어 시스템
31 31
i) 표면에 일정한 피치 및 형상을 가지는 패턴이 형성된 매질; ii) 상기 일정한 피치 및 형상을 가지는 패턴이 형성된 매질 표면에 특정 파장 및 입사각을 가지는 입사광을 조사하는 조사수단; 및 iii) 상기 조사수단에서 상기 매질 표면으로 조사되는 입사광의 파장 및 입사각을 조절하는 제어수단을 포함하며, 상기 매질 표면에 조사되는 입사광의 파장 및 입사각 조절에 의하여 상기 매질 표면에 조사되는 입사광의 반사 파장이 변화하고, 상기 매질 표면에 형성된 패턴이 일정한 피치로 형성된 라인(line) 또는 도트(dot) 형상인 것을 특징으로 하는 입사광 제어를 이용한 반사광 제어 유닛
32 32
삭제
33 33
삭제
34 34
제31항에 있어서, 상기 패턴이 형성된 매질 표면에 조사되는 일정한 파장 및 입사각을 가지는 입사광의 반사 파장이 하기식 (1)의 반사광 세기(IΦ) 통하여 결정되는 것을 특징으로 하는 입사광 제어를 이용한 반사광 제어 유닛
35 35
제31항에 있어서, 상기 조사수단이 DMD(Digital Micro Mirror Device)인 것을 특징으로 하는 입사광 제어를 이용한 반사광 제어 유닛
36 36
i) 표면에 일정한 피치 및 형상을 가지는 패턴이 형성된 매질로 이루어진 다수의 발광 유닛; ii) 상기 다수의 발광 유닛을 이루는 매질들 표면에 각각 특정 파장 및 입사각을 가지는 입사광을 조사하는 조사수단; 및 iii) 상기 조사수단에서 각각의 매질들 표면으로 조사되는 입사광의 파장 및 입사각을 조절하는 제어수단; 을 포함하는 입사광 제어를 이용한 광학적 디스플레이 장치
37 37
제36항에 있어서, 상기 매질들 표면에 조사되는 입사광의 파장 및 입사각 조절에 의하여 상기 매질들 표면에 조사되는 입사광의 반사 파장들이 변화하는 것을 특징으로 하는 입사광 제어를 이용한 광학적 디스플레이 장치
38 38
제36항 또는 제37항에 있어서, 상기 매질 표면에 형성된 패턴이 일정한 피치로 형성된 라인(line) 또는 도트(dot) 형상인 것을 특징으로 하는 입사광 제어를 이용한 광학적 디스플레이 장치
39 39
제38항에 있어서, 상기 패턴이 형성된 매질 표면에 조사되는 일정한 파장 및 입사각을 가지는 입사광의 반사 파장이 하기식 (1)의 반사광 세기(IΦ) 통하여 결정되는 것을 특징으로 하는 입사광 제어를 이용한 광학적 디스플레이 장치
40 40
제36항에 있어서, 상기 조사수단이 DMD(Digital Micro Mirror Device)인 것을 특징으로 하는 입사광 제어를 이용한 광학적 디스플레이 장치
41 41
표면에 일정한 패턴이 형성된 매질 및 상기 매질들 표면에 입사광을 조사하는 조사수단으로 구성된 광학 장치에 있어서, 상기 조사수단에 의해 상기 매질 표면에 조사되는 입사광의 파장 및 입사각을 제어함으로써, 상기 매질 표면에 조사되는 입사광의 반사 파장을 제어하는 단계를 포함하며, 상기 매질 표면에 형성된 패턴이 일정한 피치로 형성된 라인(line) 또는 도트(dot) 형상인 것을 특징으로 하는 입사광 제어를 이용한 반사광 제어 방법
42 42
삭제
43 43
제41항에 있어서, 상기 패턴이 형성된 매질 표면에 조사되는 일정한 파장 및 입사각을 가지는 입사광의 반사 파장이 하기식 (1)의 반사광 세기(IΦ) 통하여 결정되는 것을 특징으로 하는 입사광 제어를 이용한 반사광 제어 방법
44 44
제41항에 있어서, 상기 조사수단이 DMD(Digital Micro Mirror Device)인 것을 특징으로 하는 입사광 제어를 이용한 반사광 제어 방법
45 45
i) 표면에 일정한 피치 및 형상을 가지는 패턴이 형성된 매질로 구성된 다수의 발광부; ii) 상기 다수의 발광부를 구성하는 각각의 매질 표면에 구현되는 색 및 매질 표면에서 반사되는 반사광의 파장들을 결정하고, 상기 결정된 색 및 반사광의 파장에 따라 각각의 매질에 입사되는 입사광의 파장 및 입사각을 조절하는 제어부; 및 iii) 상기 각각의 매질들 표면에 상기 제어부에서 조절되는 특정 파장 및 입사각을 가지는 입사광들을 조사하는 조사부; 를 포함하는 입사광을 이용한 반사광 제어 시스템
46 46
제45항에 있어서, 상기 매질 표면에 형성된 패턴이 일정한 피치로 형성된 라인(line) 또는 도트(dot) 형상인 것을 특징으로 하는 입사광 제어를 이용한 반사광 제어 시스템
47 47
제46항에 있어서, 상기 패턴이 형성된 매질 표면에 조사되는 일정한 파장 및 입사각을 가지는 입사광의 반사 파장이 하기식 (1)의 반사광 세기(IΦ) 통하여 결정되는 것을 특징으로 하는 입사광 제어를 이용한 반사광 제어 시스템
48 48
제45항에 있어서, 상기 조사부가 DMD(Digital Micro Mirror Device)를 이용하는 것을 특징으로 하는 입사광 제어를 이용한 반사광 제어 시스템
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 연세대학교 산학협력단 청정제조 기반산업 원천기술 개발사업 다중빔 방식의 고효율 이용빔 가공공정 및 인-라인 시스템 개발