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고분자 복합체, 이의 제조방법, 상기를 포함하는 조성물 및 고분자 분리막

  • 기술번호 : KST2015125764
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 양친매성 고분자 매트릭스; 및 상기 고분자 매트릭스에 분산되어 있는 금속 할로겐 나노입자를 포함하는 고분자 복합체, 이의 제조방법, 상기를 포함하는 조성물 및 분리막에 관한 것으로서, 본 발명에 의하면, 양친매성 고분자 매트릭스의 친수성 영역에 균일하게 분산되어 있는 금속 할로겐 나노입자를 포함하는 고분자 복합체를 제공함으로써, 이를 이용하여 제조된 분리막은 금속 할로겐 나노입자를 활성화시킬 필요가 없고, 환원의 우려도 없으므로, 기타 첨가제를 부가하지 않아도 올레핀 촉진 수송 분리막으로서 우수한 선택도 및 투과도를 가질 수 있다. 고분자 복합체, 촉진 수송, 분리막, 올레핀, 금속 할로겐 나노입자, 양친매성
Int. CL C08K 9/02 (2006.01) C08K 3/10 (2006.01) C08K 3/16 (2006.01) C08J 5/22 (2006.01)
CPC C08K 3/10(2013.01) C08K 3/10(2013.01) C08K 3/10(2013.01) C08K 3/10(2013.01) C08K 3/10(2013.01) C08K 3/10(2013.01) C08K 3/10(2013.01)
출원번호/일자 1020090049505 (2009.06.04)
출원인 연세대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2010-0130803 (2010.12.14) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.06.04)
심사청구항수 20

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김종학 대한민국 서울특별시 도봉구
2 고주환 대한민국 서울특별시 서초구
3 박정태 대한민국 서울특별시 강남구
4 서진아 대한민국 충청북도 청주시 흥덕구
5 강용수 대한민국 서울특별시 성북구
6 강상욱 대한민국 서울특별시 동대문구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인다나 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 *길 **, 신관 *층~*층, **층(역삼동, 광성빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.06.04 수리 (Accepted) 1-1-2009-0339413-17
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2009.07.07 수리 (Accepted) 1-1-2009-0412593-63
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2010.08.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2010.09.13 수리 (Accepted) 9-1-2010-0056887-07
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.04.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0207014-02
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.06.20 수리 (Accepted) 1-1-2011-0466933-41
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.06.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0466941-17
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2011-5252006-10
9 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2011.12.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0774095-22
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2013-5062749-37
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.06.24 수리 (Accepted) 4-1-2013-5088566-87
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.09.25 수리 (Accepted) 4-1-2014-5114224-78
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
양친매성 고분자 매트릭스; 및 상기 고분자 매트릭스에 분산되어 있는 금속 할로겐 나노입자를 포함하는 고분자 복합체
2 2
제 1 항에 있어서, 양친매성 고분자 매트릭스는 소수성 고분자 주쇄에 친수성 고분자 측쇄가 결합된 고분자; 또는 친수성 고분자 주쇄에 소수성 고분자 측쇄가 결합된 고분자인 것을 특징으로 하는 고분자 복합체
3 3
제 2 항에 있어서, 소수성 고분자는 지방족 탄화수소, 방향족 탄화수소, 할로겐화 알킬 및 유기 규소로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 복합체
4 4
제 2 항에 있어서, 소수성 고분자는 염소계 고분자; 또는 하기 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 반복단위를 포함하는 고분자인 것을 특징으로 하는 고분자 복합체: [화학식 1] [화학식 2] 상기 식에서, R1 내지 R3은 각각 독립적으로 수소, 할로겐 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기이고, R4는 수소, 할로겐, 시아노기, 탄소수 1 내지 8의 알킬기, 탄소수 1 내지 4의 알킬기로 치환되거나 비치환된 탄소수 6 내지 12의 아릴기, 탄소수 1 내지 8의 알콕시기 또는 -C(O)-X이며, 상기 X는 탄소수 1 내지 8의 알콕시기 또는 아미노기이고, R5는 수소 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기이며, n은 1 내지 4의 정수이다
5 5
제 2 항에 있어서, 소수성 고분자는 폴리염화비닐, 폴리비닐리덴 플루오라이드-co-클로로트리플루오로에틸렌, 폴리클로로트리플루오로에틸렌, 폴리디클로로디플루오로메탄, 폴리비닐리덴디클로라이드, 폴리스티렌, 폴리알킬스티렌, 폴리메타크릴레이트, 폴리아크릴레이트, 폴리이소프렌, 폴리부타디엔, 폴리아크릴아미드 및 폴리비닐에테르로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 복합체
6 6
제 2 항에 있어서, 친수성 고분자는 술포기, 카르복시기, 아미노기, 암모늄기, 아민기 및 하기 화학식 3으로 표시되는 작용기로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 복합체: [화학식 3] COOM1 상기 식에서, M1은 알칼리금속 또는 NH4이다
7 7
제 2 항에 있어서, 친수성 고분자는 폴리4-비닐피리딘, 폴리2-비닐피리딘, 폴리디에틸 아미노에틸(메타)아크릴레이트, 폴리디에틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 폴리도데실(메타)아크릴아미드, 폴리2비닐피리딘옥사이드, 폴리아미노스티렌, 폴리알릴아민히드로클로라이드, 폴리메틸비닐아민 및 폴리에틸이민으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 복합체
8 8
제 2 항에 있어서, 양친매성 고분자 매트릭스는 소수성 고분자 20 내지 80 중량부 및 친수성 고분자 80 내지 20 중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 복합체
9 9
제 2 항에 있어서, 소수성 영역 및 친수성 영역의 몰비가 20:80 내지 80:20인 것을 특징으로 하는 고분자 복합체
10 10
제 2 항에 있어서, 양친매성 고분자 매트릭스의 친수성 영역에 평균 입경이 20 내지 200nm인 금속 할로겐 나노입자가 분산되어 있는 것을 특징으로 하는 고분자 복합체
11 11
제 1 항에 있어서, 양친매성 고분자 매트릭스 100 중량부에 대하여 1 내지 50 중량부의 금속 할로겐 나노입자를 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 복합체
12 12
제 1 항에 있어서, 금속 할로겐은 하기 화학식 4로 표시되는 것을 특징으로 하는 고분자 복합체: [화학식 4] M2X 상기 식에서, M2은 Au, Pt, Pd, Cu, Ag, Co, Fe, Ni, Mn, Sm, Nd, Pr, Gd, Ti, Zr, Si 및 In로 이루어진 군으로부터 선택된 금속, 상기 금속 중 2이상을 포함하는 금속 화합물, 상기 금속의 합금 또는 이들의 혼합물이고, X는 F, Cl, Br 또는 I이다
13 13
제 1 항에 있어서, 양친매성 고분자 매트릭스 100 중량부에 대하여 1 내지 25 중량부의 전자 수용체를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 복합체
14 14
제 13 항에 있어서, 전자 수용체는 p-벤조퀴논, 안트라센, 아조벤젠, 벤조페논, 페로센, 니트로벤젠, 테트라시아노퀴노디메탄, N,N,N'N'-테트라메틸-p-페닐렌디아민, 테트라티아풀발렌, 티안트렌 및 트리-N-p-톨릴아민으로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 고분자 복합체
15 15
양친매성 고분자 매트릭스를 이용하여 고분자 성형체를 제조하는 제 1 단계; 및 상기 고분자 성형체에 금속 할로겐 나노입자를 분산시키는 제 2 단계를 포함하는 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 따른 고분자 복합체의 제조방법
16 16
제 15 항에 있어서, 제 1 단계는, 소수성 고분자 및 친수성 고분자를 중합하여 양친매성 고분자 매트릭스를 제조하는 단계 (1); 및 상기 단계 (1)에서 제조된 고분자 매트릭스에 양전하 및 음이온을 도입하는 단계 (2)를 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 복합체의 제조방법
17 17
제 16 항에 있어서, 상기 단계 (2)에서, 양전하 및 음이온은 고분자 매트릭스와 할로겐화 알킬을 반응시킴으로써 도입되는 것을 특징으로 하는 고분자 복합체의 제조방법
18 18
제 15 항에 있어서, 제 2 단계는, a) 고분자 성형체 및 금속 할로겐 전구체 용액을 혼합하여 상기 고분자 성형체에 금속 할로겐 전구체를 분산시키는 단계; 및 b) 상기 단계 a)에서 얻어진 고분자 성형체에서 금속 할로겐 나노입자를 성장시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 복합체의 제조방법
19 19
제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 따른 고분자 복합체를 포함하는 고분자 분리막용 조성물
20 20
다공성 지지체; 및 상기 다공성 지지체 상에 형성되고, 제 19 항에 따른 조성물을 이용하여 형성된 코팅층을 포함하는 고분자 분리막
21 21
제 20 항에 있어서, 올레핀 촉진 수송용 분리막인 것을 특징으로 하는 고분자 분리막
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 연세대학교 산학협력단 선도연구센터육성 패턴집적형 능동 폴리머 소재센터