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무선 주파수를 이용한 센싱 장치 및 이의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015126332
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 측정 센서에 관한 것으로서, 무선 주파수를 이용한 측정 장치는 무선 주파수가 제1 전극 및 제2 전극에 인가됨에 따라 발생하는 전자의 이동으로부터 기판을 보호하는 보호층, 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 사이에 형성된 필드(field)에 기초하여 분극화된 탄소 소재의 나노 물질을 이용하여 채널을 형성하는 채널 형성층 및 상기 탄소 소재의 나노 물질의 표면에 부착된 매개물질을 이용하여 글루코스를 센싱하는 센싱층을 포함한다.
Int. CL G01N 27/447 (2006.01) G01N 33/66 (2006.01) G01N 27/00 (2006.01) G01N 33/483 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020120030096 (2012.03.23)
출원인 삼성전자주식회사, 연세대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2013-0107915 (2013.10.02) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2017.03.21)
심사청구항수 14

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 삼성전자주식회사 대한민국 경기도 수원시 영통구
2 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김덕환 대한민국 경기 고양시 일산동구
2 전성찬 대한민국 서울 종로구
3 김철수 대한민국 경기 화성시 영통로**번길 **,
4 송인상 대한민국 경기 오산시 양산로***번길 **
5 신제식 대한민국 경기 화성시 영통로**번길 **,

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 무한 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, *층(역삼동,화물재단빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 삼성전자주식회사 경기도 수원시 영통구
2 연세대학교 산학협력단 서울특별시 서대문구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.03.23 수리 (Accepted) 1-1-2012-0236736-15
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.06.21 수리 (Accepted) 4-1-2012-5132663-40
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2013-5062749-37
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.06.24 수리 (Accepted) 4-1-2013-5088566-87
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.09.25 수리 (Accepted) 4-1-2014-5114224-78
6 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2017.03.21 수리 (Accepted) 1-1-2017-0278733-24
7 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2017.09.18 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
8 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2017.11.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2017-0166168-14
9 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2017.11.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0808478-65
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.01.19 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0068884-29
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.01.19 수리 (Accepted) 1-1-2018-0068877-10
12 등록결정서
Decision to grant
2018.05.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0338024-49
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
무선 주파수가 제1 전극 및 제2 전극에 인가됨에 따라 발생하는 전자의 이동으로부터 기판을 보호하는 보호층;상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 사이에 형성된 필드(field)에 기초하여 분극화된 탄소 소재의 나노 물질을 이용하여 채널을 형성하는 채널 형성층; 및상기 탄소 소재의 나노 물질의 표면에 부착된 매개물질과 기 설정된 시간 이상 결합된 글루코스의 농도를 센싱하는 센싱층을 포함하고,상기 글루코스의 농도는상기 제1 전극 및 상기 제2 전극에 인가되는 고주파의 전기적인 신호로부터 획득된 S 파라미터와 RLGC 수치에 기초하여 센싱되는 무선 주파수를 이용한 센싱 장치
2 2
제1항에 있어서,상기 보호층은상기 기판의 상부에 위치하며, 저항이 큰 실리콘 옥사이드(Silicon Oxide) 계열의 물질로 형성되는무선 주파수를 이용한 센싱 장치
3 3
제1항에 있어서,상기 채널 형성층은상기 제1 전극 및 상기 제2 전극에 직류 전압 또는 교류 전압이 인가되어 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 사이에 전기 장(field)이 형성되면, 유전 영동(Dielectric Phoresis) 방식을 이용하여 상기 채널을 형성하는무선 주파수를 이용한 센싱 장치
4 4
제1항에 있어서,상기 분극화된 탄소 소재의 나노 물질은적어도 한 층의 그래핀(grapheme) 또는 탄소 나노 튜브(CNT, Carbon Nano Tube)를 포함하는 무선 주파수를 이용한 센싱 장치
5 5
삭제
6 6
제1항에 있어서,상기 매개 물질은폴리 아미노페닐 보로닉 산(Poly Aminophenyl Boronic Acid)을 포함하는 무선 주파수를 이용한 센싱 장치
7 7
제1항에 있어서,인가되는 상기 무선 주파수의 범위에서 상기 전자의 유전 손실을 줄이기 위해 상기 채널 형성층과 상기 보호층 사이에 위치하는 헥사고날 보론 나이트라이드(h-BN, hexagonal-Boron Nitride)층을 더 포함하는 무선 주파수를 이용한 센싱 장치
8 8
제1 전극 및 제2 전극에서 측정되는 전기적 특성 값에 기초하여 탄소 소재의 나노 물질의 표면에 부착된 매개물질과 기 설정된 시간 이상 결합된 글루코스의 농도를 센싱하는 센싱부; 및상기 제1 전극 및 상기 제2 전극에 인가하는 무선 주파수 신호를 제어하는 제어부를 포함하고,상기 글루코스의 농도는상기 제1 전극 및 상기 제2 전극에 인가되는 고주파의 전기적인 신호로부터 획득된 S 파라미터와 RLGC 수치에 기초하여 센싱되는 무선 주파수를 이용한 센싱 장치
9 9
제8항에 있어서,상기 센싱부는상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 사이에 형성된 필드(field)에 기초하여 분극화된 탄소 소재의 나노 물질을 이용하여 채널을 형성하는 채널 형성부; 및상기 채널을 통해 이동하는 전자의 흐름에 기초하여 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극에서 에스 파라미터(S parameter), 레지스턴스(resistance), 인덕턴스(inductance), 컨덕턴스(conductance) 및 캐패시턴스(capacitance)를 측정하는 측정부를 포함하는 무선 주파수를 이용한 센싱 장치
10 10
제8항에 있어서,상기 탄소 소재의 나노 물질은적어도 한 층의 그래핀(grapheme) 또는 탄소 나노 튜브(CNT, Carbon Nano Tube)를 포함하는 무선 주파수를 이용한 센싱 장치
11 11
제8항에 있어서,상기 매개 물질은폴리 아미노페닐 보로닉 산(Poly Aminophenyl Boronic Acid)을 포함하는 무선 주파수를 이용한 센싱 장치
12 12
제8항에 있어서,상기 제1 전극 및 상기 제2 전극은그라운드-시그널-그라운드(GSG, Ground-Signal-Ground) 전극의 구조로 형성되는무선 주파수를 이용한 센싱 장치
13 13
무선 주파수를 이용한 센싱 장치의 제조 방법에 있어서,기판의 상부에 무선 주파수가 제1 전극 및 제2 전극에 인가됨에 따라 발생하는 전자의 이동으로부터 기판을 보호하는 보호층을 적층하는 단계;상기 보호층의 상부에 접착 테이프를 이용하여 헥사고날 보론 나이트라이드(h-BN, hexagonal-Boron Nitride)층을 부착하는 단계;상기 헥사고날 보론 나이트라이드층의 상부 및 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 형성된 장을 이용하여 탄소 소재의 나노 물질을 적층하는 단계; 및상기 탄소 소재의 나노 물질의 상부에 매개 물질을 부착하는 단계를 포함하고,상기 센싱 장치는상기 탄소 소재의 나노 물질의 표면에 부착된 매개물질과 기 설정된 시간 이상 결합된 글루코스의 농도를 센싱하고,상기 글루코스의 농도는상기 제1 전극 및 상기 제2 전극에 인가되는 고주파의 전기적인 신호로부터 획득된 S 파라미터와 RLGC 수치에 기초하여 센싱되는 무선 주파수를 이용한 센싱 장치의 제조 방법
14 14
제13항에 있어서,상기 탄소 소재의 나노 물질은적어도 한 층의 그래핀(grapheme) 또는 탄소 나노 튜브(CNT, Carbon Nano Tube)를 포함하는 무선 주파수를 이용한 센싱 장치의 제조 방법
15 15
제13항에 있어서,상기 매개 물질은폴리 아미노페닐 보로닉 산(Poly Aminophenyl Boronic Acid)을 포함하는 무선 주파수를 이용한 센싱 장치의 제조 방법
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US09594055 US 미국 FAMILY
2 US20130248368 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2013248368 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US9594055 US 미국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.