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1
약 40 nm 이하의 제어된 직경을 갖고 약 0
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2
청구항 1에 있어서, 상기 나노와이어의 직경은 약 15~25 nm의 범위에 있는 것을 특징으로 하는 열전소자용 단결정 나노와이어
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3 |
3
청구항 1에 있어서, 상기 나노와이어의 열전성능지수는 약 0
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4 |
4
청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서, 상기 단결정 나노와이어는 Bi, Te, Se, Pb, Sb 및 Sn으로 이루어진 그룹 중 선택된 단일 또는 두 개 이상의 합금으로 이루어진 것을 특징으로 하는 열전소자용 단결정 나노와이어
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5 |
5
청구항 4에 있어서, 상기 나노와이어는 Bi 단결정 나노와이어인 것을 특징으로 하는 열전소자용 단결정 나노와이어
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6 |
6
청구항 4에 있어서, 상기 합금으로는 Bi-Se, Bi-Te, Pb-Te, Bi-Sb, Bi-Sb-Te, Bi-Se-Te 중 선택된 1종의 합금인 것을 특징으로 하는 열전소자용 단결정 나노와이어
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7 |
7
청구항 6에 있어서, 상기 Bi-Se합금은 Bi2Se, Bi-Te 합금은 Bi2Te3, 그리고 Pb-Te 합금은 PbTe나 Pb2Te3인 것을 특징으로 하는 열전소자용 단결정 나노와이어
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8 |
8
기판 상에 직경이 40 nm 이하의 제어된 직경을 갖고 0
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9 |
9
청구항 8에 있어서, 상기 나노와이어의 표면 산화층은 Ar가스의 플라즈마를 이용하여 에칭하는 것을 특징으로 하는 열전 나노와이어를 포함하는 열전 나노소자의 제조 방법
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10 |
10
청구항 9에 있어서, 상기 오믹 컨텍트를 형성하는 단계는 상기 나노와이어 상에 Cr 박막을 증착하는 단계 및 상기 Cr 박막 상에 Au 또는 Pt중 선택된 하나의 박막을 증착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 열전 나노와이어를 포함하는 열전 나노소자의 제조 방법
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11 |
11
청구항 8에 있어서, 상기 나노와이어의 표면 산화층의 제거시, He 가스를 상기 챔버 내로 주입하는 단계를 더 포함하는 열전 나노와이어를 포함하는 열전 나노소자의 제조 방법
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12 |
12
청구항 8 내지 청구항 11 중 어느 한 항에 있어서, 상기 나노와이어의 직경은 15~25 nm의 범위에 있는 것을 특징으로 하는 열전 나노와이어를 포함하는 열전 나노소자의 제조 방법
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13 |
13
청구항 8 내지 청구항 11 중 어느 한 항에 있어서, 상기 나노와이어의 열전성능지수는 0
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14 |
14
청구항 8 내지 청구항 11 중 어느 한 항에 있어서, 상기 단결정 나노와이어는 Bi, Te, Se, Pb, Sb 및 Sn으로 이루어진 그룹 중 선택된 단일 또는 두 개 이상의 합금으로 이루어진 것을 특징으로 하는 열전 나노와이어를 포함하는 열전 나노소자의 제조 방법
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15
청구항 14에 있어서, 상기 나노와이어는 Bi 단결정 나노와이어인 것을 특징으로 하는 열전 나노와이어를 포함하는 열전 나노소자의 제조 방법
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16 |
16
청구항 14에 있어서, 상기 합금으로는 Bi-Se, Bi-Te, Pb-Te, Bi-Sb, Bi-Sb-Te, Bi-Se-Te 중 선택된 1종의 합금인 것을 특징으로 하는 열전 나노와이어를 포함하는 열전 나노소자의 제조 방법
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17
청구항 16에 있어서, 상기 Bi-Se합금은 Bi2Se, Bi-Te 합금은 Bi2Te3, 그리고 Pb-Te 합금은 PbTe나 Pb2Te3인 것을 특징으로 하는 열전 나노와이어를 포함하는 열전 나노소자의 제조 방법
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