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메조 기공 구조의 브래그 스택 전극, 이를 포함하는 염료감응 태양전지 및 이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015126596
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 굴절율이 상이한 복수 개의 메조 기공 이산화티타늄층과 이산화규소층 중에서 선택되는 굴절율이 상이한 두 층을 교대로 적층하여 제조한 브래그 스택 전극, 그 제조방법 및 이를 포함하는 염료감응 태양전지에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 브래그 스택 구조의 전극은 균일한 표면 구조, 넓은 표면적, 잘 정렬된 메조 기공 구조를 가져 우수한 광학적 특성을 갖는다. 또한, 이를 염료감응 태양전지의 전극으로 적용시 염료의 흡착이 향상되고 효율적인 전해질의 침투가 이루어져 광전변환 효율이 증가하는 효과가 있다.
Int. CL H01G 9/20 (2006.01) H01L 31/18 (2006.01) H01L 31/04 (2014.01) H01L 31/0224 (2006.01)
CPC H01G 9/209(2013.01) H01G 9/209(2013.01) H01G 9/209(2013.01) H01G 9/209(2013.01) H01G 9/209(2013.01)
출원번호/일자 1020130080508 (2013.07.09)
출원인 연세대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1540967-0000 (2015.07.27)
공개번호/일자 10-2015-0006951 (2015.01.20) 문서열기
공고번호/일자 (20150803) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.07.09)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김종학 대한민국 서울 도봉구
2 박정태 대한민국 서울 강남구
3 허성연 대한민국 서울 서대문구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인충현 대한민국 서울특별시 서초구 동산로 **, *층(양재동, 베델회관)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2013.07.09 수리 (Accepted) 1-1-2013-0618045-68
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2014.07.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0505689-15
3 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2014.09.24 수리 (Accepted) 1-1-2014-0908528-12
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.09.25 수리 (Accepted) 4-1-2014-5114224-78
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2014.10.23 수리 (Accepted) 1-1-2014-1014726-11
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2014.11.24 수리 (Accepted) 1-1-2014-1129228-48
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.12.26 수리 (Accepted) 1-1-2014-1265668-70
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2014.12.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-1265677-81
9 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2015.05.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0336871-33
10 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2015.06.19 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2015-0596327-02
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2015.06.19 수리 (Accepted) 1-1-2015-0596308-34
12 등록결정서
Decision to Grant Registration		 2015.07.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0464917-69
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번호 청구항
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(a1) 기공도가 상이한 복수 개의 메조 기공 고분자 지지체가 분산된 지지체 용액을 각각 제조하는 단계;(a2) 티타늄 전구체를 산성 수용액에서 교반하여 솔 용액을 제조하는 단계;(a3) 상기 솔 용액을 (a1) 단계의 지지체 용액에 첨가하여 굴절율이 상이하고, 규칙적으로 배열된 메조 기공 구조를 갖는 복수 개의 이산화티타늄층 제조용 용액을 각각 제조하는 단계;(b) 이산화규소 콜로이달 수용액과 pH 조절제를 중량비 10 : 0
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제6항에 있어서,상기 고분자 지지체는 친수성기와 소수성기를 포함하는 양쪽 친화성 가지형 공중합체로서,상기 친수성기는 폴리(옥시에틸렌)메타크릴레이트, 폴리(에틸렌글리콜) 메틸에테르 (메타)아크릴레이트, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 가수분해된 t-부틸 (메타)아크릴레이트, 아크릴아미드, N-비닐피롤리돈, 아미노스티렌, 스티렌 술폰산 (styrene sulfonic acid), 메틸프로펜 술폰산, 술포프로필(메타)아크릴레이트, 술포에틸(메타)아크릴레이트 및 술포부틸(메타)아크릴레이트 중에서 선택되고,상기 소수성기는 폴리비닐클로라이드, 폴리클로로트리플루오로에틸렌, 폴리디클로로디플루오로메탄, 폴리비닐리덴디클로라이드 및 폴리비닐리덴 플루오라이드-co-클로로트리플루오로에틸렌 중에서 선택되며,상기 친수성기와 상기 소수성기의 중량비가 1 : 0
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제6항에 있어서,상기 티타늄 전구체와 지지체 용액의 중량비가 1 : 1-10 인 것을 특징으로 하는 브래그 스택 구조 전극의 제조방법
10 10
제6항에 있어서,상기 티타늄 전구체는 티타늄-(n)부톡시드, 티타늄-(n)에톡시드, 티타늄-(n)이소프로폭시드, 티타늄-(n)프로폭시드 및 TiCl4 중에서 선택되고,상기 (a1) 단계 지지체 용액의 용매는 알코올, 테트라하이드로퓨란, 노말메틸피롤리돈, 디메틸포름알데히드, 디메틸설폭사이드 및 이들의 혼합물 중에서 선택되며,상기 (a2) 단계의 산성 수용액은 하이드로클로닉산(HCl), 하이드로브로믹산(HBr), 하이드로아이오닉산(HI), 하이포클로로스산(HClO), 클로로스산 (HClO2), 클로닉산(HClO3), 퍼크로릭산(HClO4), 설퓨릭산(H2SO4), 플로오루설퓨릭산(HSO3F), 니트릭산(HNO3), 포스포릭산(H3PO4), 플루로앤티모닉산(HSbF6), 플루로보닉산(HBF4), 헥사플로루포스포릭산(HPF6), 크로믹산(H2CrO4), 보릭산(H3BO3) 중에서 선택된 1종 이상을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 브래그 스택 구조 전극의 제조방법
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제6항에 있어서,상기 pH 조절제는 하이드로클로닉산(HCl), 하이드로브로믹산(HBr), 하이드로아이오닉산(HI), 하이포클로로스산 (HClO), 클로로스산(HClO2), 클로닉산(HClO3), 퍼크로릭산(HClO4), 설퓨릭산(H2SO4), 플로오루설퓨릭산(HSO3F), 니트릭산(HNO3), 포스포릭산(H3PO4), 플루로앤티모닉산(HSbF6), 플루로보닉산(HBF4), 헥사플로루포스포릭산(HPF6), 크로믹산(H2CrO4), 보릭산 (H3BO3), 포타슘 하이드록사이드(KOH), 바리움 하이드록사이드(Ba(OH)2), 세슘 하이드록사이드(CsOH), 소듐 하이드록사이드(NaOH), 스트론튬 하이드록사이드(Sr(OH)2), 칼슘 하이드록사이드(Ca(OH)2), 마그네슘 하이드록사이드 (Mg(OH)2), 리튬 하이드록사이드(LiOH) 및 루비듐하이드록사이드(RbOH) 중에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 브래그 스택 구조 전극의 제조방법
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제6항에 있어서,상기 (c) 단계는 나노결정 이산화티타늄 입자로 형성된 다공성 이산화티타늄 박막층 또는 백금 촉매 도포층 반대편에 도포하여 적층체를 제조하는 것을 특징으로 하는 브래그 스택 구조 전극의 제조방법
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1 교육과학기술부 연세대학교 산학협력단 선도연구센터 이공학분야 ERC/4-3세부/패턴집적형 능동폴리머 소재센터
2 교육과학기술부 연세대학교 산학협력단 미래유망 융합기술 파이오니어사업 나노접합 태양전지 기술