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레이저 빔을 발사하는 광원부(100);상기 광원부(100)에서 발사된 레이저빔을 분할하는 제1광분할기(200);상기 분할된 레이저빔의 경로를 변경하는 제1조절미러(300);자유곡면(400)의 하부 및 측면에 위치하며 자유곡면(400)의 틸팅 정도를 감지하는 틸팅감지부(500);상기 틸팅감지부(500)에서 감지한 틸팅정도에 따라 제1조절미러(300)를 제어하는 제어부(600)를 포함하는 자유곡면 상면 레이저 간섭 리소그라피 장치
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제 1 항에 있어서,제2조절미러(800); 및상기 제2조절미러(800)에서 반사되는 광을 분할하는 제2광분할기(700)를 더 포함하는 자유곡면 상면 레이저 간섭 리소그라피 장치
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레이저 빔을 발사하는 광원부(100);상기 광원부(100)에서 발사된 레이저빔을 분할하는 제1광분할기(200);상기 분할된 레이저빔의 경로를 변경하는 제1조절미러(300);상기 제1조절미러(300)에 의하여 변경된 레이저빔의 광 경로를 자유곡면(400) 방향으로 변경하는 제2조절미러(800);상기 자유곡면(400)의 하부 및 측면에는 자유곡면(400)의 틸팅 정도를 감지하는 틸팅감지부(500);상기 틸팅감지부(500)에서 감지한 틸팅정도에 따라 제1조절미러(300) 및 제2조절미러(800)를 제어하는 제어부(600)를 포함하는 자유곡면 상면 레이저 간섭 리소그라피 장치
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4
제 3 항에 있어서,상기 틸팅감지부(500)는 자유곡면(400)의 하부에서 자유곡면(400)의 상하틸팅 정도를 감지하는 하부틸팅감지부(510)와자유곡면(400)의 측면에서 자유곡면(400)의 좌우틸팅 정도를 감지하는 측면틸팅감지부(520)를 포함하는 자유곡면 상면 레이저 간섭 리소그라피 장치
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제 4 항에 있어서,상기 제어부(600)는 상기 하부틸팅감지부(510)와 상기 측면틸팅감지부(520)에서 감지한 자유곡면(400)의 틸팅정도에 따라 제1조절미러(300) 및 제2조절미러(800)를 제어하는 것을 특징으로 하는 자유곡면 상면 레이저 간섭 리소그라피 장치
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6
제 3 항에 있어서,상기 제2조절미러(800)에서 반사되는 광을 분할하는 제2광분할기(700)를 더 포함하는 자유곡면 상면 레이저 간섭 리소그라피 장치
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제 6 항에 있어서,상기 제2광분할기(700)는 광의 일부는 자유곡면(400)으로 보내고 다른 일부는 제어부(600)로 보내는 것을 특징으로 하는 자유곡면 상면 레이저 간섭 리소그라피 장치
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8
제 7 항에 있어서,상기 틸팅감지부(500)는 자유곡면(400)의 하부에서 자유곡면(400)의 상하틸팅 정도를 감지하는 하부틸팅감지부(510)와 자유곡면(400)의 측면에서 자유곡면(400)의 좌우틸팅 정도를 감지하는 측면틸팅감지부(520)를 포함하되,상기 제어부(600)는 상기 하부틸팅감지부(510)와 상기 측면틸팅감지부(520)에서 감지한 자유곡면(400)의 틸팅정도와 상기 제2광분할기(700)에서 보내진 광의 위치정보에 따라 제1조절미러(300) 및 제2조절미러(800)를 제어하는 것을 특징으로 하는 자유곡면 상면 레이저 간섭 리소그라피 장치
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9
제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,상기 광원부(100)에서 발사되는 레이저빔의 진폭 변조를 위하여 광 페이즈 조절장치(900)를 더 포함하는 자유곡면 상면 레이저 간섭 리소그라피 장치
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10
제 9 항에 있어서,상기 광 페이즈 조절장치(900)는 상기 광원부(100)에서 발사되는 레이저빔의 진행방향 및 상기 제1광분할기(200)에서 분할된 레이저빔의 진행방향에 위치하는 것을 특징으로 하는 자유곡면 상면 레이저 간섭 리소그라피 장치
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11
제 1항에 있어서,상기 자유곡면은 롤(410), 구면(420), 비구면(430)을 포함하는 자유곡면 상면 레이저 간섭 리소그라피 장치
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12
광원부(100)에서 레이저 빔을 발사하는 레이저빔발사단계(S100);상기 레이저빔발사단계(S100)에서 발사된 레이저빔을 분할하는 제1광분할단계(S200);틸팅감지부(500)에서 자유곡면(400)의 하부 및 측면에서 자유곡면(400)의 틸팅정도를 감지하는 틸팅감지단계(S300);상기 틸팅감지단계(S300)에서 감지한 틸팅정도에 따라 제어부(600)에서 제1조절미러(300)의 각도를 제어하는 제어단계(S400);상기 제어단계(S400)에서 제어된 각도로 제1조절미러(300)의 각도가 조절되어 상기 레이저빔발사단계(S100)에서 발사된 레이저빔이 자유곡면(400)에 입사하여 패턴을 형성하는 패턴형성단계(S500)를 포함하는 자유곡면 상면 레이저 간섭 리소그라피 방법
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13
광원부(100)에서 레이저 빔을 발사하는 레이저빔발사단계(S100);상기 레이저빔발사단계(S100)에서 발사된 레이저빔을 분할하는 제1광분할단계(S200);틸팅감지부(500)에서 자유곡면(400)의 하부 및 측면에서 자유곡면(400)의 틸팅정도를 감지하는 틸팅감지단계(S300);상기 틸팅감지단계(S300)에서 감지한 틸팅정도에 따라 제어부(600)에서 제1조절미러(300) 및 제2조절미러(800)의 각도를 제어하는 제어단계(S400);상기 제어단계(S400)에서 제어된 각도로 제1조절미러(300) 및 제2조절미러(800)의 각도가 조절되어 상기 레이저빔발사단계(S100)에서 발사된 레이저빔이 자유곡면(400)에 입사하여 패턴을 형성하는 패턴형성단계(S500)를 포함하는 자유곡면 상면 레이저 간섭 리소그라피 방법
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제 13 항에 있어서,상기 틸팅감지단계(S300)는 자유곡면(400)의 하부에서 자유곡면(400)의 상하틸팅 정도를 감지하는 하부틸팅감지단계(S300)와자유곡면(400)의 측면에서 자유곡면(400)의 좌우틸팅 정도를 감지하는 측면틸팅감지단계(S300)를 포함하는 자유곡면 상면 레이저 간섭 리소그라피 방법
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15
제 13 항에 있어서,상기 틸팅감지부(500)는 자유곡면(400)의 하부에서 자유곡면(400)의 상하틸팅 정도를 감지하는 하부틸팅감지부(510)와 자유곡면(400)의 측면에서 자유곡면(400)의 좌우틸팅 정도를 감지하는 측면틸팅감지부(520)를 포함하되,상기 제어단계(S400)는 상기 하부틸팅감지부(510)와 상기 측면틸팅감지부(520)에서 감지한 자유곡면(400)의 틸팅정도에 따라 제1조절미러(300) 및 제2조절미러(800)를 제어하는 것을 특징으로 하는 자유곡면 상면 레이저 간섭 리소그라피 방법
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16
제 13 항에 있어서,상기 제2조절미러(800)에서 반사되는 광을 분할하는 제2광분할단계(S250)를 더 포함하는 자유곡면 상면 레이저 간섭 리소그라피 방법
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제 16 항에 있어서,상기 제2광분할단계(S250)는 광의 일부는 자유곡면(400)으로 보내고 다른 일부는 제어부(600)로 보내는 것을 특징으로 하는 자유곡면 상면 레이저 간섭 리소그라피 방법
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제 15 항에 있어서,상기 제2조절미러(800)에서 반사되는 광을 분할하는 제2광분할단계(S250)를 더 포함하는 자유곡면 상면 레이저 간섭 리소그라피 방법
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제 18 항에 있어서,상기 제2광분할단계(S250)는 광의 일부는 자유곡면(400)로 보내고 다른 일부는 제어부(600)로 보내는 것을 특징으로 하는 자유곡면 상면 레이저 간섭 리소그라피 방법
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20
제 14 항 또는 제 15 항에 있어서,상기 광원부(100)에서 발사되는 레이저빔을 광 페이즈 조절장치(900)을 이용하여 진폭 변조를 하는 진폭변조단계를 더 포함하는 자유곡면 상면 레이저 간섭 리소그라피 방법
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