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광이 입사되는 나노 스케일의 개구가 형성된 나노어퍼쳐;상기 나노어퍼쳐 표면에 결합되어 나노어퍼쳐를 보호하는 유전층; 및상기 나노어퍼쳐의 상기 개구가 형성된 면과 인접하여 배치되되, 상기 나노어퍼쳐와 상호작용하여 플라즈몬 커플링을 발생하도록, 상기 나노어퍼쳐의 초점 또는 상기 초점의 근방에 배치되는 금속 나노 입자;를 포함하는 플라즈모닉 광 도파로
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제 1항에 있어서, 상기 금속 나노 입자는 원통, 정육면체, 직육면체, 구, 반구, 삼각뿔, 삼각기둥, 사각뿔 중 어느 한가지 형태로 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈모닉 광 도파로
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제 1항에 있어서, 상기 금속 나노 입자는, 지름의 크기가 20nm 미만인 것을 특징으로 하는 플라즈모닉 광 도파로
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제 1항에 있어서, 상기 유전층의 두께는 상기 금속 나노 입자의 크기와 비례하는 것을 특징으로 하는 플라즈모닉 광 도파로
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제 1항에 있어서, 상기 유전층은 SiO2로 이루어진 것을 특징으로 하는 플라즈모닉 광 도파로
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광이 입사되는 나노 스케일의 개구가 형성된 나노어퍼쳐;상기 나노어퍼쳐 표면에 결합되어 나노어퍼쳐를 보호하는 유전층; 및상기 나노어퍼쳐의 상기 개구가 형성된 면과 인접하여 배치되되, 상기 나노어퍼쳐와 상호작용하여 플라즈몬 커플링을 발생하도록, 상기 나노어퍼쳐의 초점 또는 상기 초점의 근방에 배치되는 금속 나노 입자;를 포함하는 플라즈모닉 광 도파로를 이용하는 광 정보 저장장치
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제 6항에 있어서, 상기 금속 나노 입자는 원통, 정육면체, 직육면체, 구, 반구, 삼각뿔, 삼각기둥, 사각뿔 중 어느 한가지 형태로 형성된 것을 특징으로 하는 광 정보 저장장치
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8
제 6항에 있어서, 상기 금속 나노 입자는, 지름의 크기가 20nm 미만인 것을 특징으로 하는 광 정보 저장장치
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9
제 6항에 있어서, 상기 유전층의 두께는 상기 금속 나노 입자의 크기와 비례하는 것을 특징으로 하는 광 정보 저장장치
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10
제 6항에 있어서, 상기 유전층은 SiO2로 이루어진 것을 특징으로 하는 광 정보 저장장치
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나노어퍼쳐에 형성된 나노 스케일의 개구에 빛이 입사되는 단계;상기 나노어퍼쳐에 입사된 빛에 의하여, 상기 나노어펴쳐와 상기 나노어퍼쳐의 초점 또는 상기 초점의 근방에 배치되는 금속 나노 입자가 상호작용하여 플라즈몬 커플링을 생성하여 에너지를 발생하는 단계; 및상기 발생한 에너지를 상기 금속 나노 입자로 전달하여 광 스팟을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈모닉 광 증폭방법
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제 11항에 있어서, 상기 금속 나노 입자는 원통, 정육면체, 직육면체, 구, 반구, 삼각뿔, 삼각기둥, 사각뿔 중 어느 한가지 형태로 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈모닉 광 도파로를 이용한 광 증폭방법
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제 11항에 있어서, 상기 금속 나노 입자는, 지름의 크기가 20nm 미만인 것을 특징으로 하는 플라즈모닉 광 도파로를 이용한 광 증폭방법
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14
제 11항에 있어서, 상기 유전층의 두께는 상기 금속 나노 입자의 크기와 비례하는 것을 특징으로 하는 플라즈모닉 광 도파로를 이용한 광 증폭방법
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제 11항에 있어서, 상기 유전층은 SiO2로 이루어진 것을 특징으로 하는 플라즈모닉 광 도파로를 이용한 광 증폭방법
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광이 통과하도록, 일면에 나노 스케일의 개구가 형성된 나노어퍼쳐; 및상기 개구가 형성된 상기 일면 상에 위치하되, 상기 나노어퍼쳐와 상호작용하여 플라즈몬 커플링을 발생하도록, 상기 나노어퍼쳐의 초점 또는 상기 초점의 근방에 위치하는 금속 나노 입자;를 포함하는 플라즈모닉 광 도파로
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