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하기 화학식 1의 화합물:[화학식 1]상기 식에서, X 는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 4의 알킬렌기를 나타내고,n은 1 내지 12의 정수를 나타낸다
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제 1 항에 있어서,n은 5 내지 9인 화합물
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제 1 항에 있어서,X는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 2의 알킬렌기를 나타내는 화합물
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제 1 항에 있어서,페닐기에 치환된 하이드록시기는 파라 위치에서 치환된 화합물
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제 1 항에 있어서, 화학식 1의 화합물은 하기 화학식 2인 화합물인 화합물
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하기 화학식 3의 화합물을 하기 화학식 4의 화합물의 염과 반응시켜 반응물을 수득하는 제 1 단계;상기 제 1 단계의 반응물을 탈보호화하는 제 2 단계를 포함하는 하기 화학식 1의 화합물의 제조방법:[화학식 3][화학식 4][화학식 1]상기 식에서, X 는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 4의 알킬렌기를 나타내고,n은 1 내지 12의 정수를 나타내며,Y는 보호기를 나타낸다
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제 6 항에 있어서,화학식 4의 화합물의 염은 p-톨루엔설포네이트 염인 화학식 1의 화합물의 제조방법
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8
제 6 항에 있어서, 제 1 단계는 카보디이미드 화합물의 존재 하에 수행되는 화학식 1의 화합물의 제조방법
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제 8 항에 있어서,카보디이미드 화합물은 N,N'-디사이클로헥실카보디이미드(DCC), N,N'-디이소프로필카보디이미드(DIC) 또는 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카보디이미드(EDAC)인 화학식 1의 화합물의 제조방법
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제 8 항에 있어서, 제 1 단계는 추가로 N-하이드록시벤조트리아졸 (hydroxybenzotriazole; HOBt) 1-하이드록시-7-아자벤조트리아졸(1-Hydroxy-7-azabenzotriazole; HOAt), 설포-N-하이드록시숙신이미드(Sulfo-NHS) 및 N-하이드록시숙신이미드(NHS)로 이루어진 그룹 중에서 선택된 하나 이상의 커플링제의 존재 하에 수행되는 화학식 1의 화합물의 제조방법
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제 6 항에 있어서,제 1 단계의 반응물을 건조시키는 단계를 추가로 포함하는 화학식 1의 화합물의 제조방법
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제 11 항에 있어서,건조시키는 단계는 동결 건조 및 진공 건조하는 화학식 1의 화합물의 제조방법
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제 1 항의 화학식 1의 화합물이 자기 조립되어 형성된 자기 조립체
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제 13 항에 있어서,자기 조립체의 형상은 구형인 자기 조립체
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제 13 항의 자기 조립체를 포함하는 약물전달체
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제 13 항의 자기 조립체를 포함하는 무기 재료용 주형
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