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제 1 신호의 진폭을 조정하여 제 2 신호를 생성하기 위한 레이져다이오드;상기 제 1 신호의 위상을 변환시켜 제 3 신호를 생성하기 위한 위상변환기;상기 제 3 신호를 입력받아 제 4 신호를 생성하며, 상기 제 2 신호를 입력받아 상기 제 4 신호와 상호이득변조시켜 제 5 신호를 생성하는 반도체 광증폭기;를 구비하되,상기 위상변환기는, 상기 제 4 신호에 포함되는 비선형 왜곡신호의 위상을 상기 제 2 신호에 포함된 비선형 왜곡신호의 위상과 같도록 조정하는 것을 특징으로 하는 광송신기용 비선형 왜곡 제거장치
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제 1 항에 있어서, 상기 레이져다이오드는, 입력되는 바이어스 전류량에 따라 신호의 크기가 조절되는 상기 제 2 신호를 생성하는 것을 특징으로 하는 광송신기용 비선형 왜곡 제거장치
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제 2 항에 있어서, 상기 레이져다이오드는, 상기 제 2 신호에 포함된 비선형 왜곡신호의 크기를 상기 제 4 신호에 포함되는 비선형 왜곡신호의 크기와 같도록 하는 것을 특징으로 하는 광송신기용 비선형 왜곡 제거장치
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제 1 신호의 위상을 변환하여 제 2 신호를 생성하기 위한 위상변환기;상기 제 2 신호의 진폭을 조정하여 제 3 신호를 생성하기 위한 레이져다이오드;상기 제 1 신호를 입력받아 제 4 신호를 생성하며, 상기 제 3 신호를 입력받아 상기 제 4 신호와 상호이득변조시켜 제 5 신호를 생성하는 반도체 광증폭기;를 구비하는 것을 특징으로 하는 광송신기용 비선형 왜곡 제거장치
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6
제 5 항에 있어서, 상기 레이져다이오드는, 입력 바이어스 전류량에 따라 신호의 크기가 조절되는 상기 제 3 신호를 생성하는 것을 특징으로 하는 광송신기용 비선형 왜곡 제거장치
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7
제 6 항에 있어서, 상기 레이져다이오드는, 상기 제 3 신호에 포함된 비선형 왜곡신호의 크기를 상기 제 4 신호에 포함되는 비선형 왜곡신호의 크기와 같도록 조절하는 것을 특징으로 하는 광송신기용 비선형 왜곡 제거장치
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8
제 5 항에 있어서, 상기 위상변환기는,상기 제 3 신호에 포함된 비선형 왜곡신호와 상기 제 4 신호에 포함된 비선형 왜곡신호의 위상과 같도록 조절하는 것을 특징으로 하는 광송신기용 비선형 왜곡 제거장치
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제 1 항, 제 2 항, 제 3 항 및 제 5 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 반도체 광증폭기는,반사형 반도체 광증폭기인 것을 특징으로 하는 광송신기용 비선형 왜곡 제거장치
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제 1 항, 제 2 항, 제 3 항 및 제 5 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 레이져다이오드는,분산 피드백 레이져 다이오드인 것을 특징으로 하는 광송신기용 비선형 왜곡 제거장치
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제 1 항, 제 2 항, 제 3 항 및 제 5 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,입력단을 더 구비하며,상기 입력단에서 입력된 RF신호를 같은 크기와 위상을 가진 두 개의 상기 제 1 신호로 분기하여 상기 위상변환기, 상기 레이져다이오드, 상기 반도체 광증폭기 중 적어도 하나의 장치에 공급하기 위한 커플러를 구비하는 것을 특징으로 하는 광송신기용 비선형 왜곡 제거장치
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제 1 항, 제 2 항, 제 3 항 및 제 5 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 반도체 광증폭기와 레이져다이오드 사이에 위치하여 신호를 분배하는 신호분배기를 더 구비하며,상기 신호분배기는 상기 레이져다이오드에서 출력된 신호를 상기 반도체 광증폭기로 공급하고, 상기 반도체 광증폭기에서 출력된 신호를 광링크를 통해 외부로 공급하는 것을 특징으로 하는 광송신기용 비선형 왜곡 제거장치
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메인신호가 입력되어 분기되는 제 1단계;분기 된 메인신호 간의 크기와 위상이 조정되는 제 2 단계;반도체 광증폭기 내에서 상호이득변조현상이 유도되는 제 3 단계;반도체 광증폭기의 출력신호를 송신하는 제 4 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 광송신기용 비선형 왜곡 제거방법
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제 13 항에 있어서, 제 1 단계는,반도체 광증폭기, 레이져다이오드, 위상변환기 중 적어도 하나에 메인신호가 공급되는 것을 특징으로 하는 광송신기용 비선형 왜곡 제거방법
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제 13 항에 있어서, 상기 제 2 단계는,상기 레이져다이오드에 인가되는 바이어스 전류량에 따라 입력된 상기 메인신호의 크기를 조절하여 제 1 광신호로 변환하는 제 1 부단계; 상기 위상변환기에 의해 상기 메인신호의 위상이 변환되어 상기 반도체 광증폭기에 인가되는 제 2 부단계;위상변환기에서 공급된 신호에 따라 반도체 광증폭기 내에서 제 2 광신호를 생성하는 제 3 부단계;상기 레이져다이오드에서 공급된 상기 제 1 광신호가 상기 반도체 광증폭기에 주입되는 제 4 부 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 광송신기용 비선형 왜곡 제거방법
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제 13 항에 있어서, 상기 제 2 단계는,상기 위상변환기에 의해 상기 메인신호의 위상이 변환되어 상기 레이져다이오드에 인가되는 제 1부단계;상기 레이져다이오드의 바이어스 전류량에 의해 상기 위상변환기로부터 공급된 신호의 크기가 조절되어 제 1 광신호로 변환되는 제 2 부단계; 공급된 메인신호에 따라 반도체 광증폭기 내에서 제 2 광신호를 생성하는 제 3 부단계;상기 레이져다이오드에서 공급된 상기 제 1 광신호가 상기 반도체 광증폭기에 주입되는 제 4 부 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 광송신기용 비선형 왜곡 제거방법
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제 15 항 또는 제 16 항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 광신호는,메인신호와는 별도의 비선형 왜곡신호를 포함하며, 상기 제 1 및 제 2 광신호의 비선형 왜곡신호들 간의 위상과 크기는 같고 메인신호들 간의 크기는 다르게 하여 상기 반도체 광증폭기 내부로 입력되는 것을 특징으로 하는 광송신기용 비선형 왜곡 제거방법
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제 17 항에 있어서, 상기 제 3 단계는,상기 반도체 광증폭기 내에서 두 광신호의 상호이득변조현상을 유도하여 크기와 위상이 같은 두 비선형 왜곡신호는 제거되고, 크기가 다른 두 메인신호는 제거되지 않고 출력되는 것을 특징으로 하는 광송신기용 비선형 왜곡 제거방법
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