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고분자 나노 섬유-금속 나노 입자 복합체 패턴의 형성 방법

  • 기술번호 : KST2015127199
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 일 측면에 따라 고분자 나노 섬유-금속 나노 입자 복합체의 패턴 형성 방법을 제공한다. 상기 고분자 나노 섬유-금속 나노 입자 복합체의 패턴 형성 방법은 (a) 기재 위에 헤테로 아릴기를 갖는 고분자 나노 섬유로 이루어진 고분자 나노 섬유층을 형성하는 단계; (b) 개구부를 갖는 마스크를 사용하여 상기 고분자 나노 섬유층 중 상기 마스크의 상기 개구부에 의하여 노출된 부분을 선택적으로 UV-오존에 노출시키는 단계; (c) 상기 고분자 나노 섬유층으로부터 상기 UV-오존에 노출되지 않은 부분을 선택적으로 제거하여 고분자 나노 섬유층 패턴을 형성하는 단계; (d) 상기 고분자 나노 섬유층 패턴 위에 금속 전구체를 침적시키는 단계; 및 (e) 상기 금속 전구체를 금속으로 환원시키는 단계; 를 포함한다.
Int. CL D06M 10/00 (2006.01.01) D06M 11/83 (2006.01.01) D04H 1/70 (2006.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020130053392 (2013.05.10)
출원인 삼성전자주식회사, 연세대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-2056903-0000 (2019.12.11)
공개번호/일자 10-2014-0133746 (2014.11.20) 문서열기
공고번호/일자 (20191218) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.05.10)
심사청구항수 20

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 삼성전자주식회사 대한민국 경기도 수원시 영통구
2 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 임정균 대한민국 경기 용인시 수지구
2 박민우 대한민국 서울특별시 서대문구
3 박종진 대한민국 경기 화성
4 정운룡 대한민국 서울특별시 서대문구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 리앤목특허법인 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, *층, **층, **층, **층(도곡동, 대림아크로텔)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 삼성전자주식회사 경기도 수원시 영통구
2 연세대학교 산학협력단 서울특별시 서대문구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2013.05.10 수리 (Accepted) 1-1-2013-0416259-49
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.06.24 수리 (Accepted) 4-1-2013-5088566-87
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.09.25 수리 (Accepted) 4-1-2014-5114224-78
4 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2018.05.10 수리 (Accepted) 1-1-2018-0458750-13
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2018.10.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2018.12.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2019-0009919-72
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2019.03.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0158103-15
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2019.04.24 수리 (Accepted) 1-1-2019-0422701-33
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2019.04.24 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-0422702-89
10 등록결정서
Decision to grant
2019.09.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0699004-93
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
(a) 기재 위에 헤테로 아릴기를 갖는 고분자 나노 섬유로 이루어진 고분자 나노 섬유층을 형성하는 단계; (b) 개구부를 갖는 마스크를 사용하여 상기 고분자 나노 섬유층 중 상기 마스크의 상기 개구부에 의하여 노출된 부분을 선택적으로 UV-오존에 노출시키는 단계;(c) 상기 고분자 나노 섬유층으로부터 상기 UV-오존에 노출되지 않은 부분을 선택적으로 제거하여 고분자 나노 섬유층 패턴을 형성하는 단계;(d) 상기 고분자 나노 섬유층 패턴 위에 금속 전구체를 침적시키는 단계; 및 (e) 상기 금속 전구체를 금속으로 환원시키는 단계; 를 포함하는 고분자 나노 섬유-금속 나노 입자 복합체 패턴의 형성 방법
2 2
제1 항에 있어서, 상기 헤테로 아릴기는 질소 원자를 함유한 헤테로 아릴기인 고분자 나노 섬유-금속 나노 입자 복합체 패턴의 형성 방법
3 3
제1 항에 있어서, 상기 헤테로 아릴기를 갖는 고분자는 폴리(4-비닐피리딘)(poly(4-vinylpyridine)), 폴리(2-비닐피리딘)(poly(2-vinylpyridine)), 폴리(4-비닐피리디늄)(poly(4-vinylpyridinium)) 염, 폴리(2-비닐피리디늄)(poly(2-vinylpyridinium)) 염, 폴리(4-비닐-2-메틸피리딘)(poly(4-vinyl-2-methylpyridine)), 또는 폴리(2-비닐-4-메틸피리딘)(poly(2-vinyl-4-methylpyridine))를 포함하는 고분자 나노 섬유-금속 나노 입자 복합체 패턴의 형성 방법
4 4
제1 항에 있어서, 상기 고분자 나노 섬유는 신축성 고분자인 고분자 나노 섬유-금속 나노 입자 복합체 패턴의 형성 방법
5 5
제1 항에 있어서, 상기 고분자 나노 섬유층을 전기방사(electrospinning), 습식방사(wet spinning), 용융방사(melt spinning), 또는 용매방사(solvent spinning) 방법으로 형성하는 고분자 나노 섬유-금속 나노 입자 복합체 패턴의 형성 방법
6 6
제1 항에 있어서, 상기 고분자 나노 섬유의 직경은 1 ㎚ 내지 1 ㎛ 크기인 고분자 나노 섬유-금속 나노 입자 복합체 패턴의 형성 방법
7 7
제1 항에 있어서, 상기 고분자 나노 섬유층의 두께는 10-100㎛ 인 고분자 나노 섬유-금속 나노 입자 복합체 패턴의 형성 방법
8 8
제1 항에 있어서, 상기 UV-오존에 노출된 상기 고분자 나노 섬유층의 부분은 상기 UV-오존에 의하여 산화되어 상기 헤테로 아릴기에 카보닐기를 포함하는 고분자 나노 섬유-금속 나노 입자 복합체 패턴의 형성 방법
9 9
제1 항에 있어서, 상기 UV-오존에 노출되지 않은 상기 고분자 나노 섬유층의 부분을 선택적으로 제거하는 단계는 상기 UV-오존에 노출되지 않은 상기 고분자 나노 섬유층의 부분을 용매에 선택적으로 용해시키는 것을 포함하는 고분자 나노 섬유-금속 나노 입자 복합체 패턴의 형성 방법
10 10
제9 항에 있어서, 상기 용매는 알코올을 포함하는 고분자 나노 섬유-금속 나노 입자 복합체 패턴의 형성 방법
11 11
제1 항에 있어서, 상기 고분자 나노 섬유층 패턴에 상기 금속 전구체를 침적시키는 단계는 상기 금속 전구체를 용매에 용해시켜서 금속 전구체 용액을 형성하는 단계;상기 금속 전구체 용액에 상기 고분자 나노 섬유층 패턴을 침지시키는 단계를 포함하는 고분자 나노 섬유-금속 나노 입자 복합체 패턴의 형성 방법
12 12
제1 항에 있어서, 상기 고분자 나노 섬유층 패턴에 상기 금속 전구체를 침적시키는 단계는 상기 금속 전구체를 용매에 용해시켜서 금속 전구체 용액을 형성하는 단계;상기 고분자 나노 섬유층 패턴 위에 상기 금속 전구체 용액을 코팅하는 단계를 포함하는 고분자 나노 섬유-금속 나노 입자 복합체 패턴의 형성 방법
13 13
제11 항에 있어서, 상기 금속 전구체는 AgNO3, AgCl, HAuCl4, CuCl2, PtCl2, PtCl4 또는 PdCl2를 포함하는 고분자 나노 섬유-금속 나노 입자 복합체 패턴의 형성 방법
14 14
제11 항에 있어서, 상기 금속 전구체가 상기 고분자 나노 섬유층의 고분자와 착이온을 형성하는 고분자 나노 섬유-금속 나노 입자 복합체 패턴의 형성 방법
15 15
제14 항에 있어서, 상기 금속 전구체가 상기 고분자의 질소 원자와 결합하는 고분자 나노 섬유-금속 나노 입자 복합체 패턴의 형성 방법
16 16
제1 항에 있어서, 상기 금속 전구체를 금속으로 환원시키는 단계는 환원제를 사용하는 것을 포함하는 고분자 나노 섬유-금속 나노 입자 복합체 패턴의 형성 방법
17 17
제16 항에 있어서, 상기 환원제는 히드라진(hydrazine), 히드라진 수화물, 붕수소나트륨(sodium borohydride), 포름산(formic acid), 옥살산(oxalic acid), 아스코르빈산(ascorbic acid), 또는 리튬 알루미늄 히드라이드(lithium aluminum hydride)를 포함하는 고분자 나노 섬유-금속 나노 입자 복합체 패턴의 형성 방법
18 18
제17 항에 있어서, 상기 고분자 나노 섬유 위에 히드라진 증기를 배출하여 상기 금속 전구체를 금속으로 환원시키는 고분자 나노 섬유-금속 나노 입자 복합체 패턴의 형성 방법
19 19
제1 항에 있어서, 상기 고분자 나노 섬유층 패턴 위에 금속 전구체를 침적시킨 후 상기 금속 전구체를 금속으로 환원시킨 후에 열처리하는 단계를 더 포함하는 고분자 나노 섬유-금속 나노 입자 복합체 패턴의 형성 방법
20 20
제19항에 있어서, 상기 열처리하는 단계는 100-140℃의 온도에서 수행되는 고분자 나노 섬유-금속 나노 입자 복합체 패턴의 형성 방법
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US08975007 US 미국 FAMILY
2 US20140335459 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2014335459 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US8975007 US 미국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.