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아미노실란 및 가교결합 가능한 작용기로 표면개질된 다공성 중공 이산화티타늄 나노입자; 및 공중합체 고분자 매트릭스;를 포함하고,상기 가교결합 가능한 작용기는 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 에피클로로히드린, 메틸글리시딜에테르, 페닐글리시딜에테르, 라우릴알콜글리시딜에테르, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 1,4-부타디올디글리시딜에테르 및 에틸렌글리콜디글리시딜에테르로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나이고,상기 가교결합 가능한 작용기는 아미노실란 말단에 위치하는 것을 특징으로 하는 이산화탄소 분리막
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제1항에 있어서,상기 아미노실란은 3-아미노프로필트리에톡시실란, n-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란 및 n-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디에톡시실란으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 이산화탄소 분리막
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제1항에 있어서,상기 공중합체 고분자 매트릭스는 할로겐화 고분자 주쇄에 친수성 단량체가 그래프팅된 고분자이고,상기 할로겐화 고분자는 폴리비닐리덴 플루오라이드-co-클로로트리플루오로에틸렌, 폴리비닐클로라이드, 폴리클로로트리플루오로에틸렌, 폴리디클로로디플루오로메탄, 폴리비닐리덴디클로라이드 및 이들의 공중합체 중에서 선택되고,상기 친수성 단량체는 폴리옥시에틸렌 (메타)아크릴레이트, 폴리(에틸렌글리콜) 메틸에테르(메타)아크릴레이트, 히드록시에틸 (메타)아크릴레이트, 가수분해된 t-부틸 (메타)아크릴레이트, 아크릴아미드, N-비닐피롤리돈, 아미노스티렌, 스티렌 술폰산, 메틸프로펜 술폰산, 술포프로필 (메타)아크릴레이트, 술포에틸(메타)아크릴레이트 및 술포부틸 (메타)아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 이산화탄소 분리막
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제1항에 있어서,상기 이산화탄소 분리막은 공중합체 고분자 매트릭스 총 중량을 기준으로 상기 다공성 중공 이산화티타늄 나노입자가 2 내지 99 중량%로 혼합되는 것을 특징으로 하는 이산화탄소 분리막
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제1항에 있어서,상기 다공성 중공 이산화티타늄 나노입자의 외경은 50 내지 800 ㎚이고, 표면 기공 크기는 3 내지 15 ㎚이며,상기 다공성 중공 이산화티타늄 나노입자의 비표면적은 25 내지 35 ㎡/g인 것을 특징으로 하는 이산화탄소 분리막
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제1항에 있어서,상기 다공성 중공 이산화티타늄 나노입자의 밀도는 1
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제1항에 있어서,상기 이산화탄소 분리막은 이산화탄소 투과도가 80 내지 1000 barrer이고, 이산화탄소 선택도가 20 내지 100 barrer인 것을 특징으로 하는 이산화탄소 분리막
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Ⅰ) 티타늄 전구체와 폴리에틸렌글리콜의 혼합액을 수열합성하여 다공성 중공 이산화티타늄 나노입자를 제조하는 단계;Ⅱ) 상기 다공성 중공 이산화티타늄 나노입자와 아미노실란을 용매에 녹인 후, 상기 다공성 중공 이산화티타늄 나노입자의 표면을 아미노실란으로 처리하는 단계;Ⅲ) 상기 아미노실란으로 표면개질된 다공성 중공 이산화티타늄 나노입자에 가교결합 가능한 작용기를 반응시키는 단계;를 포함하는 이산화탄소 분리막용 다공성 중공 이산화티타늄 나노입자의 제조방법
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제9항에 있어서,상기 Ⅰ) 단계는 100 내지 200 ℃에서 5 내지 20 시간동안 수행되고,상기 Ⅱ) 및 Ⅲ) 단계는 40 내지 100 ℃에서 1 내지 10 시간동안 수행되는 것을 특징으로 하는 이산화탄소 분리막용 다공성 중공 이산화티타늄 나노입자의 제조방법
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제9항에 있어서,상기 티타늄 전구체는 포타슘타이타늄옥사이드옥살레이트다이하이드레이트(PTO)인 것을 특징으로 하는 이산화탄소 분리막용 다공성 중공 이산화티타늄 나노입자의 제조방법
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제9항에 있어서,상기 용매는 테트라하이드로퓨란, 노말메틸피롤리돈, 디메틸포름알데히드, 디메틸설포사이드, 알콜류 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나의 것을 특징으로 하는 이산화탄소 분리막용 다공성 중공 이산화티타늄 나노입자의 제조방법
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