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유기 화합물, 전도성 고분자, 다차원 전도성 고분자 패턴의제조 방법, 및 이를 이용하여 제조된 다차원 전도성 고분자 패턴

  • 기술번호 : KST2015127501
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 신규한 티오펜(thiophene) 또는 피롤(pyrrole) 화합물, 이로부터 제조된 전도성 고분자, 및 이를 이용하여 다차원 전도성 고분자 패턴을 제조하는 방법에 관한 것으로서, 상기 유기 화합물은 분자 내에 티오펜 또는 피롤 구조를 포함하고, 비닐기, 메타크릴레이트기 또는 아크릴레이트기를 포함한다.상기 유기 화합물로부터 화학적 중합, 전기적 중합, 또는 광 중합 방법을 이용하여 전도성 고분자를 제조할 수 있고, 특히 홀로그램 기록방법을 이용하여 광 중합을 유도함으로써 다차원 고분자 패턴을 형성한 후, 화학적 중합을 일으켜 전도성을 갖는 다차원 고분자 패턴을 제조하는 것이 가능하다.상기 유기 화합물을 이용하여 제조된 전도성 고분자는 응답성이 빠르고, 전기변색성이 좋으며, 안정성이 우수하고, 상기 다차원 전도성 패턴의 제조 방법을 이용하면 수 나노미터 내지 수 마이크로미터 크기의 작은 패턴을 형성할 수 있고, 공정 수를 단축시킬 수 있다.티오펜, 피롤, 에스테르, 카보닐, 에테르, 비닐기, 메타크릴레이트, 아크릴레이트, 화학적중합, 전기적중합, 광중합, UV, 마스크, 홀로그램, 레이저, 간섭, 전도성, 패턴, 다차원, 응답성, 전기변색성, 안정성
Int. CL C07D 491/04 (2006.01) C07D 495/04 (2006.01)
CPC C07D 491/04(2013.01) C07D 491/04(2013.01) C07D 491/04(2013.01) C07D 491/04(2013.01) C07D 491/04(2013.01) C07D 491/04(2013.01)
출원번호/일자 1020090014556 (2009.02.20)
출원인 연세대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1173914-0000 (2012.08.08)
공개번호/일자 10-2010-0095326 (2010.08.30) 문서열기
공고번호/일자 (20120816) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.02.20)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김은경 대한민국 서울특별시 용산구
2 김정훈 대한민국 서울특별시 금천구
3 서석재 대한민국 경상북도 구미시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 천지 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층(역삼동, 신한빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 서울특별시 서대문구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2009.02.20 수리 (Accepted) 1-1-2009-0108180-12
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2011.03.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0136365-68
3 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2011.05.11 수리 (Accepted) 1-1-2011-0349123-19
4 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2011.06.13 수리 (Accepted) 1-1-2011-0441908-80
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2011.07.08 수리 (Accepted) 1-1-2011-0526101-78
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.07.08 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0526102-13
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2011-5252006-10
8 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal		 2012.01.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0038260-31
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2012.03.16 수리 (Accepted) 1-1-2012-0215130-10
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2012.03.16 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2012-0215131-66
11 등록결정서
Decision to grant		 2012.08.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0448035-25
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2013-5062749-37
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.06.24 수리 (Accepted) 4-1-2013-5088566-87
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.09.25 수리 (Accepted) 4-1-2014-5114224-78
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번호 청구항
1 1
하기 화학식 1 내지 3으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나의 화학식으로 표시되는 유기 화합물
2 2
하기 화학식 1 내지 3으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나의 화학식으로 표시되는 유기 화합물
3 3
제1 항 또는 제2 항에 있어서,상기 유기 화합물은 하기 화학식 8 내지 56로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나의 화학식으로 표시되는 것인 유기 화합물
4 4
제1 항 또는 제2 항에 있어서,상기 유기 화합물은 산화준위(Ag/AgCl 기준)가 0
5 5
제1 항 또는 제2 항에 따른 유기 화합물을 전기적 중합, 화학적 중합, 광 중합, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나의 방법으로 중합시켜 제조된 전도성 고분자
6 6
제1 항 또는 제2 항에 따른 유기 화합물을 포함하는 조성물을 기재 위에 코팅하여 박막을 제조하는 단계,홀로그램 기록방법을 이용하여 상기 박막을 광 중합시켜 다차원 고분자 패턴을 형성하는 단계, 그리고상기 다차원 고분자 패턴을 화학적 중합시켜 다차원 전도성 고분자 패턴을 제조하는 단계를 포함하는 다차원 전도성 고분자 패턴의 제조 방법
7 7
제6 항에 있어서,상기 화학적 중합은 상기 다차원 고분자 패턴을 증기화시킨 산화제에 노출시켜 이루어지는 것인 다차원 전도성 고분자 패턴의 제조 방법
8 8
제7 항에 있어서,상기 다차원 고분자 패턴을 증기화시킨 산화제에 노출시키는 시간은 5초 내지 2시간 동안 이루어지는 것인 다차원 전도성 고분자 패턴의 제조 방법
9 9
제7 항에 있어서,상기 산화제는 철(III) 클로라이드, 철(III) 술페이트, 철(III) 톨루엔술포네이트, 알루미늄(III) 클로라이드, 티타늄(IV) 클로라이드, 알루미늄(III) 톨루엔술포네이트, 망간(II) 클로라이드, 아연(II) 술페이트, 구리 술페이트, 알칼리 금속의 퍼옥소디술페이트, 암모늄 퍼옥소디술페이트, 알칼리 금속의 퍼카보네이트, 망간 디옥시드, 망간(II)염, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나인 것인 다차원 전도성 고분자 패턴의 제조 방법
10 10
제6 항에 있어서,상기 다차원 전도성 고분자 패턴의 제조 방법은 다차원 고분자 패턴을 제조한 후 에칭하는 단계를 더 포함하는 것인 다차원 전도성 고분자 패턴의 제조 방법
11 11
제10 항에 있어서,상기 에칭하는 단계에서 사용되는 에칭 용매는 클로로포름, 에틸아세테이트, 알코올, 알킬 에테르, 톨루엔, 메틸렌클로라이드, 아세톤, 테트라하이드로퓨란, 에틸 락테이트, 디아세톤 알코올, 시클로펜탄온, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것인 다차원 전도성 고분자 패턴의 제조 방법
12 12
제6 항에 따른 다차원 전도성 고분자 패턴의 제조 방법을 이용하여 제조된 다차원 전도성 고분자 패턴
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부(한국과학재단)/ 서울특별시(서울시정개발연구원) 연세대학교/ 연세대학교 산학협력단 우수연구센터육성(SRCERC)/ 서울시 산학연 협력사업(2006년기술기반구축사업) 패턴집적형 능동 폴리머 소재센터/나노 기술을 이용한 바이오 융합산업 혁신 클러스터