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하기 단계를 포함하는, 표면개질된 실리카 입자의 제조방법:(A) 알콜 100 체적부 및 알콕시실란 8
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제 1 항에 있어서, 상기 단계 (E) 이후에, (F) 상기 실리카 입자를 산 용액에 첨가한 후 18 내지 36 시간 동안 반응시키는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는, 표면개질된 실리카 입자의 제조방법
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 마지막 단계로서, (G) 알콜 또는 물에 상기 입자를 첨가하고, 초음파 처리한 후, 원심분리하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는, 표면개질된 실리카 입자의 제조방법
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 마지막 단계로서, (H) 상기 입자를 건조하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는, 표면개질된 실리카 입자의 제조방법
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 단계 (A) 또는 (B)의 알콜은 탄소수 1 내지 5인 것을 특징으로 하는, 표면개질된 실리카 입자의 제조방법
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제 5 항에 있어서, 상기 단계 (A) 또는 (B)의 알콜은 에탄올인 것을 특징으로 하는, 표면개질된 실리카 입자의 제조방법
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제 3 항에 있어서, 상기 단계 (G)의 알콜은 탄소수 1 내지 5인 것을 특징으로 하는, 표면개질된 실리카 입자의 제조방법
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제 7 항에 있어서, 상기 단계 (G)의 알콜은 에탄올인 것을 특징으로 하는, 표면개질된 실리카 입자의 제조방법
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 단계 (A)의 알콕시실란은 테트라알콕시실란인 것을 특징으로 하는, 표면개질된 실리카 입자의 제조방법
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10
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 단계 (A)의 알콕시실란은 탄소수 1 내지 5인 것을 특징으로 하는, 표면개질된 실리카 입자의 제조방법
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 단계 (A)의 알콕시실란은 테트라에톡시실란인 것을 특징으로 하는, 표면개질된 실리카 입자의 제조방법
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 화학식 1에서 M은 말단의 수소가 아민기로 치환된 탄소수 1 내지 10의 알킬기 또는 페닐기인 것을 특징으로 하는, 표면개질된 실리카 입자의 제조방법
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제 12 항에 있어서, 상기 화학식 1에서 M은 아미노프로필기 또는 페닐기인 것을 특징으로 하는, 표면개질된 실리카 입자의 제조방법
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 화학식 1에서 L은 에톡시기인 것을 특징으로 하는, 표면개질된 실리카 입자의 제조방법
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 단계 (A)의 알콕시실란의 양은 알콜 100 체적부 당 10
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 단계 (B)의 암모니아수의 양은 알콜 100 체적부 당 2
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 단계 (B)의 물의 양은 알콜 100 체적부 당 30
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 단계 (D)의 화학식 1의 화합물의 양은 알콕시실란 100 몰부 당 3
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 단계 (E)의 고액분리는 원심분리인 것을 특징으로 하는, 표면개질된 실리카 입자의 제조방법
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