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열인장 방법을 이용한 미세구조물 제조방법, 이를 이용하여 제조된 미세구조물, 및 미세구조물 제조장치

  • 기술번호 : KST2015127591
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 열인장 방법을 이용한 미세구조물 제조방법, 이를 이용하여 제조된 미세구조물, 및 미세구조물 제조장치가 게시된다. 본 발명의 실시예에 따른 미세구조물 제조방법은, a) 고분자 재료층(111)을 제 1 기판(110)에 도포, 코팅 또는 증착하는 제1기판 준비단계(S110); b) 소정 온도로 가열된 제 2 기판(120)을 준비하는 제2기판 준비단계(S120); c) 소정 온도로 가열된 마이크로 필러(micro pillar, 130)를 이용하여 제 1 기판(110) 표면의 고분자 재료를 액적 모양(112)으로 채취하는 액적채취단계(S130); d) 고분자 재료를 채취한 마이크로 필러(130)를 이용하여, 고분자 재료를 제 2 기판(120) 상부면에 접촉시킨 후, 제 2 기판(120) 상부면으로부터 마이크로 필러(130)를 이격시킴으로써 제 1 미세구조물(141)을 형성하는 제1구조물 형성단계(S140); e) 마이크로 필러(130)에 의해 형성된 미세구조물(140)을 고형화시키는 고형화단계(S150); 및 f) 소정 온도로 가열된 마이크로 필러(130)를 이용하여 고분자 재료를 액적 모양(112)으로 채취한 후, 기 형성된 미세구조물(140) 표면에 접촉시킨 후 또 다른 미세구조물(143)을 형성하는 미세구조물 추가형성단계(S160);를 포함하는 것을 구성의 요지로 한다.
Int. CL B81C 1/00 (2006.01) C08J 5/00 (2006.01)
CPC B81C 1/0038(2013.01) B81C 1/0038(2013.01) B81C 1/0038(2013.01) B81C 1/0038(2013.01)
출원번호/일자 1020140099257 (2014.08.01)
출원인 연세대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1507362-0000 (2015.03.25)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20150331) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.08.01)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 류원형 대한민국 경기도 고양시 일산서구
2 양다솜 대한민국 서울특별시 서대문구
3 홍현욱 대한민국 서울특별시 구로구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 윤병국 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***길, **, *층 (대치동, 삼호빌딩)(지성국제특허법률사무소)
2 이영규 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***길, **, *층 (대치동, 삼호빌딩)(지성국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2014.08.01 수리 (Accepted) 1-1-2014-0732929-90
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2014.08.06 수리 (Accepted) 1-1-2014-0743166-17
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2014.08.06 수리 (Accepted) 1-1-2014-0742774-99
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.09.25 수리 (Accepted) 4-1-2014-5114224-78
5 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2014.09.30 수리 (Accepted) 1-1-2014-0937357-81
6 [우선심사신청]선행기술조사의뢰서
[Request for Preferential Examination] Request for Prior Art Search
2014.10.01 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
7 [우선심사신청]선행기술조사보고서
[Request for Preferential Examination] Report of Prior Art Search
2014.10.08 수리 (Accepted) 9-1-2014-0077451-90
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.11.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0797971-01
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.01.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0065891-10
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.01.21 수리 (Accepted) 1-1-2015-0065892-66
11 등록결정서
Decision to grant
2015.03.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0181942-96
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번호 청구항
1 1
열인장 방법을 이용하여 미세구조물을 제조하는 미세구조물 제조방법(S100)으로서, a) 고분자 재료층(111)을 제 1 기판(110)에 도포, 코팅 또는 증착하는 제1기판 준비단계(S110); b) 소정 온도로 가열된 제 2 기판(120)을 준비하는 제2기판 준비단계(S120); c) 소정 온도로 가열된 마이크로 필러(micro pillar, 130)를 이용하여 제 1 기판(110) 표면의 고분자 재료를 액적 모양(112)으로 채취하는 액적채취단계(S130); d) 고분자 재료를 채취한 마이크로 필러(130)를 이용하여, 고분자 재료를 제 2 기판(120) 상부면에 접촉시킨 후, 제 2 기판(120) 상부면으로부터 마이크로 필러(130)를 이격시킴으로써 제 1 미세구조물(141)을 형성하는 제1구조물 형성단계(S140); e) 마이크로 필러(130)에 의해 형성된 미세구조물(140)을 고형화시키는 고형화단계(S150); 및 f) 소정 온도로 가열된 마이크로 필러(130)를 이용하여 고분자 재료를 액적 모양(112)으로 채취한 후, 기 형성된 미세구조물(140) 표면에 접촉시킨 후 또 다른 미세구조물(143)을 형성하는 미세구조물 추가형성단계(S160);를 포함하고, 상기 d) 제1구조물 형성단계(S140) 및 f) 미세구조물 추가형성단계(S160)에서, 마이크로 필러(130)를 제 2 기판(120)의 표면으로부터 소정 높이만큼 이격시켜 이동시키거나, 평면상 좌우상하로 이동시켜 다양한 형상의 미세구조물(140)을 형성시키는 것을 특징으로 하는 미세구조물 제조방법
2 2
삭제
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 마이크로 필러(130) 및 제 2 기판(120)은 섭씨 40 내지 300 도의 온도로 가열되는 것을 특징으로 하는 미세구조물 제조방법
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 고형화단계(S150)에서 고형화시키는 방법은, 대상으로 하는 미세구조물의 온도를 낮추는 방법, 열경화 방법 및 광경화 방법으로 이루어진 군에서 하나 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 미세구조물 제조방법
5 5
열인장 방법을 이용하여 미세구조물을 제조하는 미세구조물 제조방법(S200)으로서, a) 고분자 재료층(211)을 기판(210)의 상부면에 도포, 코팅 또는 증착하는 기판준비단계(S210); b) 소정 온도로 가열된 마이크로 필러(230)를 고분자 재료층(211) 표면에 접촉시킨 후 마이크로 필러(230)를 이동시키면서 제 1 미세구조물(241)을 형성하는 제1구조물 형성단계(S220); c) 제 1 미세구조물(241)을 고형화시킨 후, 제 1 미세구조물(241)에 가열된 마이크로 필러(230)를 재 접촉시켜 또 다른 제 2 미세구조물(242)을 형성하는 제2구조물 형성단계(S230); 및 d) 기 형성된 미세구조물(240)을 고형화시킨 후, 미세구조물(240)의 임의의 부분에 가열된 마이크로 필러(230)를 재 접촉시켜 또 다른 미세구조물(243)을 형성하는 미세구조물 추가형성단계(S240);를 포함하고, 상기 b) 제1구조물 형성단계(S220), c) 제2구조물 형성단계(S230) 및 d) 미세구조물 추가형성단계(S240)에서, 마이크로 필러(230)를 기판(210)의 표면으로부터 소정 높이만큼 이격시켜 이동시키거나, 평면상 좌우상하로 이동시켜 다양한 형상의 미세구조물(240)을 형성시키는 것을 특징으로 하는 미세구조물 제조방법
6 6
삭제
7 7
제 5 항에 있어서, 상기 마이크로 필러(230) 및 기판(210)은 섭씨 40 내지 300 도의 온도로 가열되는 것을 특징으로 하는 미세구조물 제조방법
8 8
제 5 항에 있어서, 상기 제2구조물 형성단계(S230) 및 미세구조물 추가형성단계(S240)에서 고형화시키는 방법은, 대상으로 하는 미세구조물의 온도를 낮추는 방법, 열경화 방법 및 광경화 방법으로 이루어진 군에서 하나 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 미세구조물 제조방법
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삭제
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제 1 항에 따른 미세구조물 제조방법을 이용하여 미세구조물을 제조하는 미세구조물 제조장치(300)로서, 고분자 재료층(311)이 도포, 코팅 또는 증착된 제 1 기판(310); 마이크로 필러(330)에 의해 미세구조물(140)이 형성되는 제 2 기판(320); 상기 제 1 기판(310)에 도포, 코팅 또는 증착된 고분자 재료를 액적 모양(112)으로 채취하여, 제 2 기판(320) 상부면에 접촉시킨 후, 제 2 기판(320) 상부면으로부터 마이크로 필러(330)를 이격시킴으로써 미세구조물(140)을 형성하고, 또 다시 고분자 재료를 액적 모양으로 채취한 후, 기 형성된 미세구조물 표면에 접촉시킨 후 또 다른 미세구조물을 형성하는 하나 이상의 마이크로 필러(330); 상기 마이크로 필러(330)와 인접하여 장착되고, 상기 마이크로 필러(330)에 평면상 좌우상하 구동력 및 측면상 상하 구동력을 제공하는 구동부(340); 기 설정된 마이크로 필러 이동경로에 따라 마이크로 필러(330)가 구동될 수 있도록, 구동부(340)를 제어하는 제어부(350); 및 상기 제어부(350)에 인접하여 장착되고, 구동부(340) 및 제어부(350)에 전원을 공급하는 전원공급부(360);를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세구조물 제조장치
11 11
제 10 항에 있어서, 상기 미세구조물 제조장치(300)는, 상기 마이크로 필러(330) 및 제 2 기판(320)을 소정온도로 가열하는 가열부재(370); 및 상기 마이크로 필러(330) 및 제 2 기판(320)의 온도를 감지하여 측정된 온도 데이터를 제어부(350)에 송신하는 온도측정부(380);를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미세구조물 제조장치
12 12
제 11 항에 있어서, 상기 마이크로 필러(330) 및 제 2 기판(320)은 섭씨 40 내지 300 도의 온도로 가열되는 것을 특징으로 하는 미세구조물 제조장치
13 13
제 5 항에 따른 미세구조물 제조방법을 이용하여 미세구조물을 제조하는 미세구조물 제조장치(400)로서, 고분자 재료(411)를 수납하고, 마이크로 필러(420)에 용융된 상태의 고분자 재료를 공급하는 고분자재료 공급부(410); 내부에 미세배관(421)이 형성되고, 고분자재료 공급부(410)로부터 미세배관(421)을 통해 용융된 상태의 고분자재료를 공급받아 기판(430) 상부면에 미세구조물(240)을 형성하고, 기 형성된 미세구조물의 임의의 부분에 가열된 마이크로 필러를 재 접촉시켜 또 다른 미세구조물을 형성하는 하나 이상의 마이크로 필러(420); 상기 마이크로 필러(420)와 인접하여 장착되고, 마이크로 필러(420)에 의해 상부면에 미세구조물(240)이 형성되는 기판(430); 상기 마이크로 필러(420)와 인접하여 장착되고, 상기 마이크로 필러(420)에 평면상 좌우상하 구동력 및 측면상 상하 구동력을 제공하는 구동부(440); 기 설정된 마이크로 필러 이동경로에 따라 마이크로 필러(420)가 구동될 수 있도록, 구동부(440)를 제어하는 제어부(450); 및 상기 제어부(450)에 인접하여 장착되고, 구동부(440) 및 제어부(450)에 전원을 공급하는 전원공급부(460);를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세구조물 제조장치
14 14
제 13 항에 있어서, 상기 미세구조물 제조장치(400)는, 상기 마이크로 필러(420) 및 기판(430)을 소정온도로 가열하는 가열부재(470); 및 상기 마이크로 필러(420) 및 기판(430)의 온도를 감지하여 측정된 온도 데이터를 제어부(450)에 송신하는 온도측정부(480);를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미세구조물 제조장치
15 15
제 14 항에 있어서, 상기 마이크로 필러(420) 및 기판(430)은 섭씨 40 내지 300 도의 온도로 가열되는 것을 특징으로 하는 미세구조물 제조장치
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1 미래창조과학부 연세대학교 산학협력단 기초연구사업-일반연구자지원사업-기본연구 나노 드로잉 기반 3차원 나노 프로토타이핑 기술 개발
2 미래창조과학부 연세대학교 산학협력단 기초연구사업-기초연구실지원사업-기초연구실지원사업 하이브리드 광합성 에너지 하베스팅 연구실