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싸이올기로 표면개질된 실리카 나노입자; 상기 실리카 나노입자 표면에 결합된 니켈 나노입자; 상기 니켈 나노입자가 결합된 실리카 나노입자 표면을 둘러싸는 실리카 코팅층;을 포함하는 실리카로 코팅된 니켈 담지 촉매
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제1항에 있어서,상기 니켈 나노입자의 입경은 1-30 nm인 것을 특징으로 하는 실리카로 코팅된 니켈 담지 촉매
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제1항에 있어서,상기 실리카 담체의 입경은 10-1,000 nm인 것을 특징으로 하는 실리카로 코팅된 니켈 담지 촉매
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제1항에 있어서,상기 코팅되는 실리카의 두께는 1-100 nm인 것을 특징으로 하는 실리카로 코팅된 니켈 담지 촉매
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제1항에 있어서,상기 니켈 나노입자는 실리카로 코팅된 니켈 담지 촉매를 기준으로 0
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ⅰ) 니켈 전구체를 열분해하여 균일한 니켈 나노입자를 형성하는 단계;ⅱ) 실리카 전구체와 암모니아수를 혼합하여 가수분해/축합 반응을 통해 균일한 실리카 나노입자를 형성하는 단계;ⅲ) 상기 실리카 나노입자의 표면에 싸이올기를 결합시키는 단계;ⅳ) 상기 실리카 나노입자의 표면에 결합되어 있는 싸이올기에 니켈 나노입자가 결합되어 니켈 담지 촉매를 형성하는 단계; 및ⅴ) 상기 니켈 담지 촉매와 상기 실리카 전구체를 혼합하여 가수분해/축합반응 및 열처리를 통해 상기 니켈 담지 촉매 표면에 실리카 코팅층을 형성하는 단계;를 포함하는 실리카로 코팅된 니켈 담지 촉매의 제조방법
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제6항에 있어서,상기 ⅰ) 단계에서 열분해는 190-300 ℃에서 0
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제6항에 있어서,상기 ⅰ) 단계에서 상기 니켈 전구체는 니켈아세틸아세토네이트(nickel acetylacetonate), 니켈나이트레이트헥사하이드레이트(Nickel nitrate hecahydrate), 니켈아세테이트테트라하이드레이트(nickel acetate tertahydrate) 및 니켈클로라이드헥사하이드레이트(nickel choride hexahydrate)로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 실리카로 코팅된 니켈 담지 촉매의 제조방법
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제6항에 있어서, 상기 ⅱ) 단계에서 실리카 전구체는 테트라에틸오르소실리케이트(TEOS)인 것을 특징으로 하는 실리카로 코팅된 니켈 담지 촉매의 제조방법
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제6항에 있어서,상기 ⅱ) 단계에서 가수분해/축합 반응은 3-10 시간 동안 이루어지는 것을 특징으로 하는 실리카로 코팅된 니켈 담지 촉매의 제조방법
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제6항에 있어서,상기 ⅴ) 단계에서 혼합 후, 추가적으로 초음파 발생기에 의하여 분산시키는 것을 특징으로 하는 실리카로 코팅된 니켈 담지 촉매의 제조방법
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제6항에 있어서,상기 ⅰ), ⅱ) 및 ⅲ) 단계에서 생성물을 제조한 후, 에탄올로 세척하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 실리카로 코팅된 니켈 담지 촉매의 제조방법
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제6항에 있어서,상기 ⅳ) 및 ⅴ) 단계에서 60-100 ℃에서 7-20 시간 동안 건조하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 실리카로 코팅된 니켈 담지 촉매의 제조방법
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제6항에 있어서,상기 ⅴ) 단계에서 열처리는 500-700 ℃에서 0
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제1항에 따른 실리카로 코팅된 니켈 담지 촉매 하에서, 반응온도는 500-1000 ℃로 유지하고, 공간속도는 5,000 ml/h·gcat 내지 20,000 ml/h·gcat로 혼합가스를 반응시켜 건식 개질 반응을 수행하는 것을 특징으로 하는 합성가스의 제조방법
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제15항에 있어서,상기 혼합가스는 메탄, 이산화탄소, 질소로 구성되며,상기 혼합가스의 부피비가 9-2 : 9-2 : 2-16 인 것을 특징으로 하는 합성가스의 제조방법
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