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포르피린, 프탈로시아닌, 푸르푸린, 클로린, 벤조포르피린, 나프탈로시아닌, 테트라사이클린 및 아미노레뷰리닉산으로 이루어진 군에서 선택된 광감작제(photosensitizer)를 포함하는 음전하성의 덴드리머층과 양전하성의 고분자층을 포함하는 다층 박막 구조의 중공구; 및상기 중공구에 약물이 내포되어 있는 표적지향형 약물전달체
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제 1 항에 있어서, 상기 양전하성의 고분자는 폴리알릴아민 하이드로클로라이드, 폴리에틸렌이민, 폴리라이신, 폴리디메틸다이알릴암모늄 클로라이드, 또는 키토산인 약물전달체
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제 1 항에 있어서, 상기 약물은 항암제인 약물전달체
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제 5 항에 있어서, 상기 항암제는 독소루비신, 파클리탁셀, 에토포사이드, 빈카알칼로이드, 빈블라스틴 또는 콜히친인 약물전달체
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제 1 항에 있어서, 상기 음전하성의 덴드리머와 양전하성의 고분자는 1 : 1 내지 10의 중량비로 혼합 결합된 약물전달체
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제 1 항에 있어서, 상기 약물전달체의 입자 크기는 50 내지 400 nm인 약물전달체
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음전하성 형판용 나노입자 상에 양전하성의 고분자를 적층시키는 단계;상기 양전하성의 고분자층에, 포르피린, 프탈로시아닌, 푸르푸린, 클로린, 벤조포르피린, 나프탈로시아닌, 테트라사이클린 및 아미노레뷰리닉산으로 이루어진 군에서 선택된 광감각제를 포함하는 음전하성의 덴드리머를 적층시켜 상기 음전하성 형판용 나노입자를 코어로 하여 덴드리머 및 고분자의 다층박막 구조의 나노입자를 제조하는 단계; 상기 다층박막 구조의 나노입자에서 코어의 음전하성 형판용 나노입자를 제거하여 다층박막 구조의 중공구를 형성시키는 단계; 및상기 중공구 내에 약물을 주입시키는 단계를 포함하는 표적지향형 약물전달체의 제조방법
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제 9 항에 있어서, 상기 음전하성의 덴드리머층과 양전하성의 고분자층을 정전기적 인력에 의한 층상 자기조립법으로 음전하성의 덴드리머층, 양전하성의 고분자층을 반복하여 박막의 층 수를 조절하는 약물전달체의 제조방법
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제 9 항에 있어서, 상기 음전하성 형판용 나노입자는 폴리스티렌, 실리카 또는 탄산칼슘인 약물전달체의 제조방법
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제 9 항에 있어서, 상기 양전하성 고분자와 음전하성 형판용 나노입자는 1 : 1 내지 10 중량비로 반응하여 적층되는 약물전달체의 제조방법
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제 9 항에 있어서, 상기 양전하성 고분자층 또는 음전하성 덴드리머층은 10 내지 60 분 반응시켜 적층시키는 약물전달체의 제조방법
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제 9 항에 있어서, 상기 양전하성 고분자와 음전하성 덴드리머는 1 : 1 내지 10의 중량비로 반응하여 적층되는 약물전달체의 제조방법
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제 9 항에 있어서, 상기 중공구 형성 시 음전하성 형판용 나노입자는 클로로포름, 테트라하이드로퓨란 또는 톨루엔에 의해 제거되는 약물전달체의 제조방법
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제 9 항에 있어서, 상기 약물 주입은 농도 차에 의한 확산으로 실시하는 약물전달체의 제조방법
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제 1 항, 제 4 항 내지 제 8 항 중에서 선택된 어느 한 항에 따른 약물전달체를 유효성분으로 함유하는 약학 조성물
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