요약 | 본 발명은 평활가공장치에 관한 것이다. 본 발명에서는 고정전극(30)과 회전전극(40)의 사이에 전원공급부(20)에서 가해지는 전원으로 전계(Field strength)를 형성하고, 상기 고정전극(40)과 회전전극(40)의 사이에 이알(Electro-Rheological)유체(50)를 공급한다. 상기 이알유체(50)는 상기 전계에 의해 회전전극(40)의 반경방향 임의의 위치에서도 동일한 전단응력을 가지게 된다. 그리고 상기 이알유체(50)에는 연마재(54)가 함유되어 있어 이알유체(50)에 형성되는 전단응력에 의해 피가공물(33)의 표면을 연마하게 된다. 이때 상기 회전전극(40)의 반경방향 위치에 따른 이알유체(50)의 전단응력을 동일하게 하기 위해, 회전전극(40)을 다수개로 구성하여 위치에 따른 전계를 달리 형성한다. 또한 회전전극(40')과 고정전극(30) 사이의 간극을 조절하여 상기 이알유체(50)의 전단응력이 회전전극(40') 전체에 대해 동일하게 형성되도록 할 수 있다. 이와 같은 본 발명에 의하면 피가공물의 보다 넓은 평면을 단번에 평활하게 가공할 수 있다.평활가공 |
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Int. CL | H01L 21/304 (2006.01) |
CPC | B24B 37/04(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020010033981 (2001.06.15) |
출원인 | 한국기계연구원 |
등록번호/일자 | 10-0396052-0000 (2003.08.16) |
공개번호/일자 | 10-2002-0095779 (2002.12.28) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20030827) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 소멸 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2001.06.15) |
심사청구항수 | 3 |