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기판(substrate) 상에 나노구조물(nanostructure)을 형성하기 위한 UV 나노임프린트 리소그래피(Ultraviolet Nanoimprint Lithography) 공정에 있어서, 상기 기판 상면에 레지스트(resist)를 도포하는 단계; 형성하고자 하는 나노구조물에 대응되는 나노구조물이 표면에 형성된 스탬프를 상기 레지스트 상면에 접촉시켜 상온에서 소정의 저압력으로 가압하는 단계; 불완전 가압된 레지스트 부분을 탐지하는 단계; 상기 불완전 가압된 레지스트 부분이 압착되도록 선택적으로 부가압력을 가하는 단계; 자외선을 상기 레지스트에 조사(照査)하는 단계; 상기 스탬프를 상기 레지스트로부터 분리하는 단계; 및 상기 레지스트가 도포된 기판의 상면을 식각(etching)하는 단계 를 포함하는 UV 나노임프린트 리소그래피 공정
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제 1 항에 있어서, 상기 스탬프는 나노구조물이 각인된 면이 평탄한 스탬프인 것을 특징으로 하는 UV 나노임프린트 리소그래피 공정
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제 1 항에 있어서, 상기 스탬프는 적어도 2개 이상의 요소(element) 스탬프들로 구성되며, 서로 이웃한 요소 스탬프들 사이에 상기 각각의 요소 스탬프 상에 각인된 나노구조물의 깊이보다 더 깊은 홈(groove)이 형성된 다중 양각 요소 스탬프인 것을 특징으로 하는 UV 나노임프린트 리소그래피 공정
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제 1 항에 있어서, 상기 불완전 가압된 레지스트 부분을 탐지하는 단계는 광학 측정장치를 이용하여 상기 기판 상면에 도포된 레지스트 층의 두께를 측정하는 것을 포함하는 UV 나노임프린트 리소그래피 공정
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제 1 항에 있어서, 상기 불완전 가압된 레지스트 부분을 탐지하는 단계는 상기 스탬프의 상면으로부터 광학 측정장치를 이용하여 스탬프에 각인된 나노구조물의 면적보다 가압된 레지스트 액적이 적게 펴진 부분을 탐지하는 것을 포함하는 UV 나노임프린트 리소그래피 공정
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제 1 항에 있어서, 상기 부가압력을 가하는 단계는 상기 기판의 배면으로부터 부가압력을 가하는 것을 포함하는 UV 나노임프린트 리소그래피 공정
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제 6 항에 있어서, 상기 기판의 배면으로부터 부가압력을 가하는 단계는 상기 기판이 놓이는 기판 테이블에 적어도 하나 이상의 구멍을 형성하고 이 구멍에 부가압력 작동기를 설치하여 부가압력을 가하는 것을 포함하는 UV 나노임프린트 리소그래피 공정
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제 7 항에 있어서, 상기 부가압력 작동기는 압전소자 작동기인 것을 특징으로 하는 UV 나노임프린트 리소그래피 공정
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제 7 항에 있어서, 상기 부가압력 작동기는 공압 작동기인 것을 특징으로 하는 UV 나노임프린트 리소그래피 공정
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제 7 항에 있어서, 상기 부가압력 작동기는 스프링-나사 메카니즘 작동기인 것을 특징으로 하는 UV 나노임프린트 리소그래피 공정
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제 7 항에 있어서, 상기 부가압력 작동기는 상기 기판의 배면에 면접촉(surface contact)하는 플런저(plunger)를 포함하는 UV 나노임프린트 리소그래피 공정
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제 7 항에 있어서, 상기 부가압력 작동기는 상기 기판의 배면에 점접촉(point contact)하는 플런저(plunger)를 포함하는 UV 나노임프린트 리소그래피 공정
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제 1 항에 있어서, 상기 부가압력을 가하는 단계는 상기 스탬프의 상면으로부터 부가압력을 가하는 것을 포함하는 UV 나노임프린트 리소그래피 공정
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제 13 항에 있어서, 상기 스탬프의 상면으로부터 부가압력을 가하는 단계는 상기 스탬프의 모서리에 부가압력 작동기를 이용하여 부가압력을 가하는 것을 포함하는 UV 나노임프린트 리소그래피 공정
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제 14 항에 있어서, 상기 부가압력 작동기는 상기 스탬프의 상면에 점접촉(point contact)하는 플런저(plunger)를 포함하는 UV 나노임프린트 리소그래피 공정
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제 14 항에 있어서, 상기 부가압력 작동기는 상기 스탬프의 상면에 면접촉(surface contact)하는 플런저(plunger)를 포함하는 UV 나노임프린트 리소그래피 공정
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기판(substrate) 상에 나노구조물(nanostructure)을 형성하기 위한 UV 나노임프린트 리소그래피(ultraviolet nanoimprint lithography) 공정에 있어서, 레지스트가 도포된 기판을 하부에서 지지하며, 상기 기판과 접하는 면에 적어도 하나 이상의 구멍이 형성되어 있는 기판 테이블; 상기 기판의 상부에 위치하면서 상기 기판 상의 레지스트의 가압상태를 탐지하는 광학 측정장치; 상기 기판 테이블에 형성되는 구멍 내에 배치되어 상기 기판의 배면으로부터 부가압력을 가하는 부가압력 작동기; 상기 부가압력 작동기와 연결되어 작동을 제어하는 작동기 컨트롤러; 및 상기 광학 측정장치 및 상기 작동기 컨트롤러에 각각 연결되어, 상기 광학 측정장치로부터 전달되는 레지스트의 가압상태에 따라 상기 부가압력 작동신호를 상기 작동기 컨트롤러로 전송하는 피드백 컨트롤러 를 포함하는 선택적 부가압력 작동 시스템
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기판(substrate) 상에 나노구조물(nanostructure)을 형성하기 위한 UV 나노임프린트 리소그래피(ultraviolet nanoimprint lithography) 공정에 있어서, 레지스트가 도포된 기판을 하부에서 지지하며, 상기 기판과 접하는 면에 적어도 하나 이상의 구멍이 형성되어 있는 기판 테이블; 상기 기판의 상부에 위치하면서 상기 기판 상의 레지스트의 가압상태를 탐지하는 광학 측정장치; 상기 기판 테이블에 형성되는 구멍 내에 배치되어 상기 기판의 배면으로부터 부가압력을 가하는 부가압력 작동기; 상기 부가압력 작동기와 연결되어 작동을 제어하는 작동기 컨트롤러; 및 상기 광학 측정장치 및 상기 작동기 컨트롤러에 각각 연결되어, 상기 광학 측정장치로부터 전달되는 레지스트의 가압상태에 따라 상기 부가압력 작동신호를 상기 작동기 컨트롤러로 전송하는 피드백 컨트롤러 를 포함하는 선택적 부가압력 작동 시스템
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