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다층 평판 전극을 구비한 유전체 장벽 방전방식 평판형 저온 플라즈마 반응기를 구성하는데 있어서, 글래스 페이스트를 이용하여 세라믹 판 사이의 접합을 하는 공정에서 상호 접합에 앞서 100 내지 200℃에서 0
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다층 평판 전극을 구비한 유전체 장벽 방전방식 평판형 저온 플라즈마 반응기를 구성하는데 있어서, 금속 전극을 세라믹 판의 일측면의 내부에 스크린 인쇄 처리하는 단계와, 금속 전극을 상기 세라믹 판의 가장자리까지 연결되어 외부의 전극이 통전할 수 있는 전극 접촉부를 스크린 인쇄 처리하되 이웃하는 세라믹 평판 전극의 전극 접촉부와 서로 반대 방향으로 엇갈리도록 배열되도록 형성된 단계와, 금속전극의 프린팅 면이 노출된 상태에서 100 내지 200℃에서 0
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다층 평판 전극을 구비한 유전체 장벽 방전방식 평판형 저온 플라즈마 반응기를 구성하는데 있어서, 세라믹 판의 일측면 내부와 이에 대응하는 타 세라믹 판의 일측면의 내부에 각각 금속전극으로 스크린 인쇄 처리하는 단계와, 금속 전극을 상기 세라믹 판의 가장자리까지 연결되어 외부의 전극이 통전할 수 있는 전극 접촉부를 스크린 인쇄 처리하되 이웃하는 세라믹 평판 전극의 전극 접촉부와 서로 반대 방향으로 엇갈리도록 배열되도록 형성된 단계와, 금속전극의 프린팅 면이 노출된 상태에서 100 내지 200℃에서 0
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다층 평판 전극을 구비한 유전체 장벽 방전방식 평판형 저온 플라즈마 반응기를 구성하는데 있어서, 금속 전극을 세라믹 판의 일 측면의 내부에 스크린 인쇄 하고, 상기 세라믹 판의 가장자리까지 연결되어 외부의 전극이 통전할 수 있는 전극접촉부를 형성하되 이웃하는 세라믹 평판 전극의 전극 접촉부와 서로 반대 방향으로 엇갈리도록 배열되도록 형성된 단계와, 금속전극의 프린팅 면이 노출된 상태에서 100 내지 200℃에서 0
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다층 평판 전극을 구비한 유전체 장벽 방전방식 평판형 저온 플라즈마 반응기를 구성하는데 있어서, 세라믹 판의 일면에 글래스 페이스트를 스크린 인쇄 하는 단계와 글래스 페이스트로 프린팅 면이 노출된 상태에서 100 내지 200℃에서 0
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제2항 내지 제5항중 어느 한 항에 있어서, 금속전극의 형상은 모든 모서리가 둥글게 처리되는 단계를 특징으로 하는 다층 평판 전극을 구비한 유전체 장벽 방전방식 평판형 저온 플라즈마 반응기의 제조방법
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제2항 내지 제5항중 어느 한 항에 있어서, 금속전극의 재질은 전도성 금속인 것을 특징으로 하는 다층 평판 전극을 구비한 유전체 장벽 방전방식 평판형 저온 플라즈마 반응기의 제조방법
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제2항 내지 제5항중 어느 한 항에 있어서, 복수개의 세라믹 평판 전극의 일측에는 상기 전극 접촉부와 대응되는 위치에 금속전극 노출부가 마련하도록 처리하는 단계를 특징으로 하는 다층 평판 전극을 구비한 유전체 장벽 방전방식 평판형 저온 플라즈마 반응기의 제조방법
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