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글라스기판 상에 전극, 격벽, 유전막, 형광체 등의 패턴을 형성하기 위한 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel)용 패터닝 장치에 있어서, 패터닝물질을 수용하는 패터닝헤드와; 상기 패터닝헤드의 하부와 상기 글라스기판 사이에 설치되며, 상기 패턴에 대응하는 분사홀을 갖는 패터닝마스크와; 상기 매니폴더에 수용된 패터닝물질을 표면탄성파 분사방식으로 상기 패터닝마스크의 분사홀을 통해 상기 글라스기판상에 분사유도하는 분사유도유닛과; 패터닝 대상의 패터닝 데이터에 근거하여 상기 패터닝헤드와 상기 분사유도유닛의 구동을 제어하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 패터닝 장치
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제1항에 있어서, 상기 분사유도유닛은 상기 패터닝헤드의 패터닝물질 분사영역에 설치되는 진동판과, 상기 진동판을 구동시키는 진동발생액츄에이터와, 상기 진동발생엑츄에이터에 고주파를 인가하는 고주파발생기와, 상기 진동판에 고전압을 인가하여 전원공급전극을 형성하는 고전압발생기와, 상기 글라스기판을 사이에 두고 상기 전원공급전극에 대향하는 전극을 형성하는 대향전극을 갖는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 패터닝 장치
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제2항에 있어서, 상기 전원공급전극은 양전하이며, 상기 대향전극은 음전하인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 패터닝 장치
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제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 글라스기판 하부에 마련되는 샘플홀더를 포함하며, 상기 대향전극은 상기 샘플홀더에 접지되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 패터닝 장치
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제1항에 있어서, 상기 분사홀은 상기 패턴에 대응하는 상기 패터닝마스크의 판면에 다공상으로 형성되며, 상기 각 분사홀의 직경은 10μm 내지 100nm 인 것을 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 패터닝 장치
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패터닝물질이 수용되어 있는 패터닝헤드로부터 상기 패터닝물질을 분사하여 글라스기판 상에 전극, 격벽, 유전막, 형광체 등의 패턴을 형성하는 플라즈마 디스플레이 패널의 패터닝 방법에 있어서, 상기 패터닝헤드의 하부와 상기 글라스기판 사이에 상기 패턴에 대응하는 분사홀을 갖는 패터닝마스크를 개재하는 단계와, 상기 프린팅헤드에 수용된 패터닝물질을 표면탄성파 분사방식으로 상기 패터닝마스크의 분사홀을 통해 상기 글라스기판상에 분사유도하는 단계와, 패터닝 대상의 패터닝 데이터에 근거하여 상기 패터닝헤드와 상기 분사유도유닛의 구동을 제어하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 패터닝 방법
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제6항에 있어서, 상기 분사유도 단계는 상기 패터닝헤드의 패터닝물질 분사영역에 설치되는 진동판을 진동시키는 단계와; 상기 진동판에 고전압을 인가하여 전원공급전극을 형성하는 단계와, 상기 글라스기판을 사이에 두고 상기 전원공급전극에 대향하는 대향전극을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 패터닝 방법
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제7항에 있어서, 상기 전원공급전극은 양전하이며, 상기 대향전극은 음전하인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 패터닝 방법
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제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 글라스기판 하부에 마련되는 샘플홀더를 포함하며, 상기 대향전극은 상기 샘플홀더에 접지되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의용 패터닝 방법
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제6항에 있어서, 상기 분사홀은 상기 패턴에 대응하는 상기 패터닝마스크의 판면에 다공상으로 형성되며, 상기 각 분사홀의 직경은 10μm 내지 100nm 인 것을 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 패터닝 방법
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제6항에 있어서, 상기 분사홀은 상기 패턴에 대응하는 상기 패터닝마스크의 판면에 다공상으로 형성되며, 상기 각 분사홀의 직경은 10μm 내지 100nm 인 것을 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 패터닝 방법
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