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플라즈마 반응장치에 있어서,중공의 반응로(10)와; 상기 반응로(10)의 내부에 돌출되는 전극(20)을 포함하며, 상기 반응로(10)에는 플라즈마 반응을 위한 원료를 공급하도록 원료공급로(30)가 연통형성되고, 반응물질을 배출하기 위한 배출구(40)가 상측에 형성되며, 상기 원료의 반응시 열을 공급하기 위한 가열수단이 설치되는 것을 특징으로 하는 가열수단을 구비하는 플라즈마 반응장치
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제 1 항에 있어서,상기 가열수단은 상기 반응로의 벽체(11)에 내설된 전열히터(51)인 것을 특징으로 하는 가열수단을 구비하는 플라즈마 반응장치
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제 1 항에 있어서,상기 가열수단은 상기 반응로(10)의 외벽면을 순환하는 가스순환로(52)와; 상기 가스순환로(52)의 내부로 고온의 가스를 분출시키기 위해 상기 가스순환로(52)와 노즐부(53a)가 연통되는 버너(53);를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 가열수단을 구비하는 플라즈마 반응장치
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제 3 항에 있어서,상기 가스순환로(52)는 가스를 유입하기 위해 버너(53)의 노즐부(53a)와 연통되는 입구(52a)와 내부의 가스를 배출하기 위한 출구(52b)를 포함하며, 상기 입구(52a)와 출구(52b)는 상호 높이차를 두고 형성되되, 상기 입구(52a)는 상측에 상기 출구(52b)는 하측에 각각 형성된 것을 특징으로 하는 가열수단을 구비하는 플라즈마 반응장치
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제 1 항에 있어서,상기 원료공급로(30)는 상기 반응로(10)의 벽체(11) 내부를 순환하며 상기 반응로(10) 내부로 원료를 유입시키기 위한 유입구(31)가 형성되되, 상기 유입구(31)는 유입되는 원료가 회전류를 형성하며 진행될 수 있도록 경사지게 형성된 것을 특징으로 하는 가열수단을 구비하는 플라즈마 반응장치
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제 1 항 또는 제 5 항에 있어서,상기 원료공급로(30)는 2개 이상 형성되며, 각각의 원료공급로(30)는 상기 반응로(10)의 횡방향으로 분리, 배열되어 독립적인 유로를 형성하는 것을 특징으로 하는 가열수단을 구비하는 플라즈마 반응장치
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제 1 항에 있어서,상기 전극(20)은 상협하광의 원추 형태로 저면에는 원기둥이 연장 형성되고, 원추의 꼭지점과, 원추와 원기둥의 연결부분은 라운드 형성되되, 상기 원추와 원기둥의 연결지점은 길이 상향방향으로 점차 넓게 형성된 것을 특징으로 하는 가열수단을 구비하는 플라즈마 반응장치
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