| 1 |
1
플라즈마 반응장치에 있어서,원료유입관체(20)를 통해 플라즈마 반응을 위한 원료를 공급받고, 그 상단에는 플라즈마 반응물을 배출시키기 위한 배출구(25)가 형성되며, 길이방향으로 일정 구간은 원료의 플라즈마 반응시 생성되는 플라즈마 반응대가 확장될 수 있도록 그 내경이 상기 배출구(25) 측으로 갈수록 증가되는 중공의 반응로(10)와;상기 반응로(10) 내부에 공급된 원료의 플라즈마 반응을 위한 방전전압을 발생시키기 위해 상기 반응로(10)의 벽면과 이격되도록 상기 반응로(10)의 저면을 통해 상기 반응로(10) 상에 내입되는 전극(30)과;상기 플라즈마 반응대를 상기 배출구(25) 측으로의 진행방향에 수직한 횡방향으로 유도하여 체류시키기 위해 상기 반응로(10)의 내벽에 돌출형성되며 그 끝단에는 모서리(41)가 형성된 돌출부(40);를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
|
| 2 |
2
제 1 항에 있어서,상기 반응로(10)는 상기 전극(30)보다 상측에 위치한 구간에서 그 내경이 증가하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
|
| 3 |
3
제 1 항에 있어서,상기 원료유입관체(20)는 상기 반응로(10)의 길이방향에 수직하도록 연통되는 제1유입관(21)과;상기 제1유입관(21)과 일정 각을 이루도록 상기 반응로(10)의 저면에 연통되는 제2유입관(23);을 포함하여 구성되어 상기 제1유입관(21) 및 제2유입관(23)을 통해 유입되는 원료가 상호 혼합되어 상기 전극(30) 측을 향하여 상향 진행되도록 한 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
|
| 4 |
4
제 3 항에 있어서,상기 제1유입관(21)과 제2유입관(23)이 이루는 각은 90°인 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
|
| 5 |
5
제 3 항 또는 제 4 항에 있어서,상기 반응로(10)의 내벽에는 상기 제1유입관(21)과의 연통을 위한 유입홀(19)이 다수 형성되며, 상기 유입홀(19)들은 상기 반응로(10)의 내부로 유입되는 원료가 회전류를 형성하며 진행될 수 있도록 상기 반응로(10) 내벽의 법선방향과 일정각을 유지하며 경사지게 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
|
| 6 |
6
제 1 항에 있어서,상기 돌출부(40)는 상기 모서리(41)를 중심으로 양면이 이루는 내각이 90°인 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
|
| 7 |
7
제 1 항에 있어서,상기 돌출부(40)는 상기 반응로(10)의 길이방향으로 상호 연속되도록 다수 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
|
| 8 |
8
제 1 항에 있어서,상기 돌출부(40)에는 그 끝단이 더욱 날카롭게 이루어지도록 링 형상의 첨단부(45)가 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응장치
|
