| 요약 |
본 발명은 슬롯형(slot type) 저온 플라즈마 반응기에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 대면적에 플라즈마를 발생시키도록 "ㄷ" 형상으로 길게 형성된 2개의 세라믹 유전체판을 상호 대향되도록 설치하여, 이격된 슬롯형상으로 형성시키며, 슬롯형상사이로 투입 공정가스가 통과하도록 하며, 상기 세라믹 유전체판의 일측에는 고전압 전극이 장착되며, 이에 대응되는 다른 세라믹 유전체판의 일측에는 상기 고전압 전극에 대응되는 플라즈마 발생용 접지 전극이 장착되어, 두 유전체 판 사이에 글로우 모드로 운전되는 저온 플라즈마를 발생시키도록 하며, 상기 세라믹 유전체판의 내부에는 강제 냉각을 위한 채널을 포함하여 절연물질로 충진시키며, 외부에는 외부 세라믹 판을 부착하여 밀봉시키도록 이루어진 슬롯형 리모트 플라즈마 반응기에 관한 것이다. 이는 교류전원을 사용한 유전체 장벽 방전 방식(dielectric barrier discharge)으로 구성되어 있으며, 대기압 상태에서도 적절한 교류전원의 주파수와 방전 간극을 선정하여 발생되는 플라즈마의 상태를 글로우(glow) 모드로 운전할 수 있으며, 이 때 사용되는 가스를 고속으로 분사하여 발생된 플라즈마를 반응기 외부로 분출시켜 리모트(remote) 플라즈마 상태로 최종 이용하게 된다. 본 발명에 따른 슬롯형 리모트 플라즈마 반응기는 반도체, 디스플레이 등 각종 IT 산업은 물론 폴리머 필름 등을 포함한 각종 산업의 세정, 표면개질, 식각 공정에 응용될 수 있으며, 다양한 적용 분야에 따라 필요한 조건인 1 cm 이하의 소형에서부터 3 m 이상의 대면적을 뛰어난 편평도를 유지하며 용이하게 구현할 수 있고, 도선 등 회로가 구성된 표면에 전기장의 영향이 미치지 않도록 고안되었으며, 폴리머 표면 등을 처리할 때 열적 변형을 막기 위하여 플라즈마 온도를 조절할 수 있도록 구성할 수 있는 효과를 포함하고 있는 것이다.리모트 플라즈마, 슬롯형, 저온 플라즈마, 대기압
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