맞춤기술찾기

홈으로 가기
맞춤기술찾기
이전대상기술
프린트하기

이전대상기술

동심원 좌굴을 이용한 수직형 프로브 및 그 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015128428
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
상담신청 PDF 받기
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은, 수직형 프로브가 동심원 형상을 가지도록 함으로써 큰 수직방향 탄성변형이 가능한 동시에 제작 공정이 단순하게 된 수직형 프로브 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 본 발명에 의하면, 전기신호를 인가함으로써 반도체 소자의 정상작동 여부를 테스트하기 위한 수직형 프로브로서, 상기 수직형 프로브는 하나 혹은 둘 이상의 실린더형 구조물이 동심원으로 배치되어 이루어지며, 길이방향 하중이 가해질 때 탄성적인 동심원 좌굴을 일으키는 것을 특징으로 하는 수직형 프로브가 제공된다. 수직형 프로브, 실린더형 구조물, 동심원, 좌굴, 탄성변형
Int. CL H01L 21/66 (2006.01)
CPC G01R 1/06738(2013.01) G01R 1/06738(2013.01) G01R 1/06738(2013.01)
출원번호/일자 1020070074570 (2007.07.25)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-0952195-0000 (2010.04.02)
공개번호/일자 10-2009-0011206 (2009.02.02) 문서열기
공고번호/일자 (20100415) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 발송처리완료
심판사항 심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.07.25)
심사청구항수 6

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 김재현 대한민국 대전광역시 유성구
2 이학주 대한민국 대전광역시 유성구
3 김정엽 대한민국 대전광역시 유성구
4 최병익 대한민국 대전광역시 유성구
5 한승우 대한민국 대전광역시 유성구
6 현승민 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 이수완 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 **-*(역삼동, AIP빌딩)(특허법인에이아이피)
2 이성규 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 **-*(역삼동, AIP빌딩)(특허법인에이아이피)
3 조진태 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 **-*(역삼동, AIP빌딩)(특허법인에이아이피)
4 윤종섭 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 **-*(역삼동, AIP빌딩)(특허법인에이아이피)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 인텔렉추얼디스커버리 주식회사 서울특별시 강남구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2007.07.25 수리 (Accepted) 1-1-2007-0540187-84
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2008.05.02 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2008.05.30 수리 (Accepted) 9-1-2008-0032438-11
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2008.06.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0321248-26
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2008.08.08 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0570663-98
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2008.08.08 수리 (Accepted) 1-1-2008-0570664-33
7 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2008.12.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0631044-57
8 명세서 등 보정서(심사전치)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2009.02.13 보정승인 (Acceptance of amendment) 7-1-2009-0006672-00
9 심사전치출원의 심사결과통지서
Notice of Result of Reexamination		 2009.03.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0095434-66
10 보정각하결정서
Decision of Rejection for Amendment		 2009.03.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0094695-97
11 심사관의견요청서
Request for Opinion of Examiner		 2009.04.23 수리 (Accepted) 7-8-2009-0013724-58
12 심결등본송달서
Written Transmittal of Certified Copy of Trial Decision		 2010.03.25 수리 (Accepted) 7-7-2010-0024568-24
13 거절결정불복에 대한 심결
Trial Decision on Objection to Refusal Decision		 2010.03.25 수리 (Accepted) 7-8-2010-0008982-16
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069914-14
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069919-31
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
전기신호를 인가함으로써 반도체 소자의 정상작동 여부를 테스트하기 위한 수직형 프로브로서, 상기 수직형 프로브는 하나 이상의 실린더형 구조물이 프로브 카드 상에 동심원으로 배치됨으로써 다중벽 실린더형 구조를 이루며, 일단이 상기 프로브 카드 상에 부착된 상기 수직형 프로브의 타단에 상기 반도체 소자가 접촉되어 상기 수직형 프로브에 길이방향 하중이 가해질 때 다중벽 실린더형 구조를 갖는 상기 수직형 프로브는 다중벽 사이의 상호작용으로 탄성적인 동심원형 좌굴을 일으키며, 상기 수직형 프로브의 말단에는 하나 이상의 프로브 팁이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 수직형 프로브
2 2
청구항 1에 있어서, 상기 실린더형 구조물은 속이 빈 중공의 원통체이며, 복수의 상기 중공 원통체가 서로 일정한 간격을 두고 동심원으로 배치되는 것을 특징으로 하는 수직형 프로브
3 3
청구항 2에 있어서, 각각의 상기 중공 원통체는 일정한 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 수직형 프로브
4 4
청구항 1에 있어서, 상기 실린더형 구조물은, 중앙에 위치되며 속이 찬 중실의 원통체인 내부 원통체와, 상기 내부 원통체의 주위에 동심원으로 배치되며 속이 빈 중공의 원통체인 외부 원통체로 이루어지는 것을 특징으로 하는 수직형 프로브
5 5
삭제
6 6
삭제
7 7
삭제
8 8
전기신호를 인가함으로써 반도체 소자의 정상작동 여부를 테스트하기 위한 수직형 프로브의 제조방법으로서, 기판 상에 시드 층과 포토레지스트 층을 적층 형성하는 단계와; 사진 식각 공정에 의해 설계된 프로브의 형상 및 배치를 상기 포토레지스트 층에 형성하는 단계와; 프로브를 이루도록 동심원으로 배치되어 다중벽 실린더형 구조를 가짐으로써 탄성적인 동심원형 좌굴을 일으킬 수 있는 하나 이상의 실린더형 구조물을 도금 공정과 CMP 공정에 의해 형성하는 단계와; 불필요한 상기 포토레지스트 층을 제거하는 단계; 를 포함하며, 하나 이상의 상기 실린더형 구조물을 형성하는 단계 이후에, 또 다른 시드 층 및 또 다른 포토레지스트 층을 적층 형성하고 사진 식각 공정, 도금 공정 및 CMP 공정을 실시하는 단계를 1회 이상 반복하여 상기 실린더형 구조물의 끝단에 프로브 팁을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 수직형 프로브의 제조방법
9 9
삭제
10 10
전기신호를 인가함으로써 반도체 소자의 정상작동 여부를 테스트하기 위한 수직형 프로브의 제조방법으로서, 기판 상에 시드 층과 포토레지스트 층을 적층 형성하는 단계와; 사진 식각 공정에 의해 설계된 프로브의 형상 및 배치를 상기 포토레지스트 층에 형성하는 단계와; 프로브를 이루도록 동심원으로 배치되어 다중벽 실린더형 구조를 가짐으로써 탄성적인 동심원형 좌굴을 일으킬 수 있는 하나 이상의 실린더형 구조물을 도금 공정과 CMP 공정에 의해 형성하는 단계와; 불필요한 상기 포토레지스트 층을 제거하는 단계; 를 포함하며, 상기 실린더형 구조물의 끝단에 하나 이상의 프로브 팁을 부착하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 수직형 프로브의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - 패밀리정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 WO2009014357 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY
2 WO2009014357 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - DOCDB 패밀리 정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 WO2009014357 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
2 WO2009014357 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.