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기판; 및
요철표면을 가지며 상기 기판상에 형성된 아나타제(anatase)상의 이산화티탄 코팅층;을 포함하며,
상기 아나타제(anatase)상의 이산화티탄 코팅층은 메쉬(mesh)형상의 요철표면을 가지며,
상기 아나타제(anatase)상의 이산화티탄 코팅층은 아나타제(anatase)상이지만 광촉매 역할을 하는 흡광특성이 없는 입경이 1~10㎛인 산화티탄(TiO2)을 원료로 사용하여 형성되며,
상기 아나타제상 이산화티탄 (TiO2) 코팅층의 평균 두께는 3 내지 10 μm인 것을 특징으로 하는 광촉매 막
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제1 항에 있어서,
상기 아나타제(anatase)상의 이산화티탄 코팅층은
평균 표면조도(Ra)가 200nm 내지 1000nm인 것을 특징으로 하는 광촉매 막
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3
제1 항 또는 제2 항에 있어서,
상기 아나타제(anatase)상의 이산화티탄 코팅층은
평균입경이 50nm 이하의 결정립을 가진 것을 특징으로 하는 광촉매 막
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제1 항 또는 제2 항에 있어서,
상기 아나타제(anatase)상의 이산화티탄 코팅층은
95% 이상의 고밀도로 형성된 것을 특징으로 하는 광촉매 막
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삭제
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제1 항 또는 제2 항에 있어서,
상기 기판은
금속, 세라믹, 고경도 고분자재료, 스테인리스스틸, 유리(Glass), 타일(Tile) 중 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 광촉매 막
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삭제
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원료를 분말 에어로졸(aerosol)로 만드는 단계; 및
상기 분말 에어로졸을 기판상에 분사하여 아나타제(anatase)상의 이산화티탄 (TiO2) 코팅층을 만드는 단계;를 포함하며,
상기 아나타제(anatase)상의 이산화티탄 코팅층을 만드는 단계는,
메쉬(mesh)형상의 요철표면을 가지는 아나타제(anatase)상의 이산화티탄 코팅층을 만들며,
상기 아나타제(anatase)상의 이산화티탄 코팅층은 아나타제(anatase)상이지만 광촉매 역할을 하는 흡광특성이 없는 입경이 1~10㎛인 산화티탄(TiO2)을 원료로 사용하여 형성되며,
상기 아나타제상 이산화티탄 (TiO2) 코팅층의 평균 두께는 3 내지 10 μm인 것을 특징으로 하는 광촉매 막의 제조방법
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9
제8 항에 있어서,
상기 아나타제(anatase)상의 이산화티탄 코팅층은
평균 표면조도(Ra)가 200nm 내지 1000nm인 것을 특징으로 하는 광촉매 막의 제조방법
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삭제
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제8 항 또는 제9 항에 있어서,
상기 원료는
이송기체와 원료분말이 혼합되어 에어로졸 생성되는 것을 특징으로 하는 광촉매 막의 제조방법
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제8 항 또는 제9 항에 있어서,
상기 원료를 에어로졸로 만드는 단계에는,
상기 에어로졸에 진동을 인가하여 에어로졸화 촉진 및 에어로졸 분말 간 응집을 방지하는 것을 특징으로 하는 광촉매 막의 제조방법
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제8 항 또는 제9 항에 있어서,
상기 에어로졸의 유량은 5 ~ 500 L/min인 것을 특징으로 하는 광촉매 막의 제조방법
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14
제8 항 또는 제9 항에 있어서,
상기 기판은 XYZ 테이블에 장착되어 이동되는 것을 특징으로 하는 광촉매 막의 제조방법
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15
제14 항에 있어서,
상기 테이블은
상기 기판의 이송속도가 10~0
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제8 항 또는 제9 항에 있어서,
상기 기판은
금속, 세라믹, 고경도 고분자재료, 스테인리스스틸, 유리, 타일(Tile) 중 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 광촉매 막의 제조방법
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제8 항 또는 제9 항에 있어서,
상기 기판에의 상기 에어로졸의 증착속도는 0
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제8 항 또는 제9 항에 있어서,
상기 에어로졸을 기판상에 분사하여 아나타제(anatase)상의 이산화티탄 코팅층을 만드는 단계는 -200℃ 내지 +100℃에서 진행되는 것을 특징으로 하는 광촉매 막의 제조방법
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