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주사 전자현미경에서 전자빔 전류를 제어하기 위한 장치에 있어서,
사용자 화면의 스팟 사이즈 범위에 대응하는 전자빔의 제1 전류량과 주사 전자현미경의 스팟 사이즈 제어신호에 대응하는 제2 전류량을 공급하고, Focal Length 조정에 따른 클로스오버의 이동에 근거하여, 전자빔 전류제어 신호를 공급하기 위한 스위칭 신호를 생성하며, 상기 전자빔 전류제어 신호에 대응하는 제3 전류량을 기 설정된 테이블 정보에 기초하여 공급하는 렌즈 컨트롤러;
상기 스위칭 신호에 응답하여 상기 제2 전류량 또는 제3 전류량을 갖는 각각의 신호를 집속렌즈 2(Condenser lens 2)로 제공하고, 상기 제1 전류량을 갖는 신호를 집속렌즈1(Condenser lens 1)로 제공하는 스위치 컨트롤러; 및
상기 렌즈 컨트롤러의 테이블 정보를 저장 관리하는 메모리로 구성되는 것을 특징으로 하는 포컬 렌스를 활용한 전자빔 전류 제어 장치
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제 1 항에 있어서,
상기 스위치 컨트롤러는 상기 스위칭 신호에 응답하여 접점을 전환 시키는 릴레이를 포함하는 것을 특징으로 하는 포컬 렌스를 활용한 전자빔 전류 제어 장치
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제 1 항에 있어서,
상기 메모리로 저장되는 상기 테이블 정보는 전자빔의 가속전압에 비례하고, 가공 재질의 종류에 따라 기 설정된 전자빔 전류 제어 데이터로서, 시편을 가공할 수 없는 전류량으로 한정되는 것을 특징으로 하는 포컬 렌스를 활용한 전자빔 전류 제어 장치
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제 3 항에 있어서,
상기 전자빔 전류 제어 데이터는 0
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제 3 항 또는 제 4 항에 있어서,
상기 전자빔 전류 제어 데이터는 소정 주파수를 갖는 펄스 신호인 것을 특징으로 하는 포컬 렌스를 활용한 전자빔 전류 제어 장치
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주사 전자현미경에서 전자빔 전류를 제어하기 위한 방법에 있어서,
a) focal length 조정을 기반으로 크로스오버를 렌즈의 중심 방향으로 이동시키는 단계; 및
b) 전자빔의 전류량을 시편 가공에 필요한 전류량 이하로 공급하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 포컬 렌스를 활용한 전자빔 전류 제어 방법
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7
제 6 항에 있어서,
상기 전자빔의 전류량은 기 설정된 적어도 하나 이상의 데이터를 갖는 테이블 정보에 기반하여 설정되는 것을 특징으로 하는 포컬 렌스를 활용한 전자빔 전류 제어 방법
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8
제 7 항에 있어서,
상기 테이블 정보는 전자빔의 가속전압에 비례하고, 가공 재질의 종류에 따라 기 설정된 전자빔 전류 제어 데이터인 것을 특징으로 하는 포컬 렌스를 활용한 전자빔 전류 제어 방법
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제 8 항에 있어서,
상기 전자빔 전류 제어 데이터는 0
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제 8 항 또는 제 9 항에 있어서,
상기 전자빔 전류 제어 데이터는 소정 주파수를 갖는 펄스 신호인 것을 특징으로 하는 포컬 렌스를 활용한 전자빔 전류 제어 방법
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