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도전성 패턴 형성 방법 및 그 패턴

  • 기술번호 : KST2015128548
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 제한된 폭 범위 내에서 도전성 패턴의 두께를 충분히 두껍게 형성하는 도전성 패턴 형성 방법에 관한 것이다. 본 발명의 도전성 패턴 형성 방법은, 비도전성을 가지는 필름의 표면에 미세 요철을 형성하는 표면 처리 단계, 상기 필름의 표면에 소수성 물질을 코팅하여 소수층을 형성하는 코팅 단계, 상기 소수층과 상기 필름의 일부 두께를 레이저로 제거하여, 상기 소수층에 비하여 상대적으로 친수성을 가지는 홈을 패터닝 하는 레이저 패터닝 단계, 상기 필름을 도전성 물질 수용액에 딥핑하여 상기 홈에 상기 도전성 물질 수용액을 충전하는 딥핑 단계, 및 상기 필름을 꺼내어 건조 및 소성하여 상기 도전성 물질에 의한 제1 도전층을 상기 홈에 형성하는 건조/소성 단계를 포함한다. 도전층, 홈, 미세 요청, 코팅, 딥핑, 레이저
Int. CL H01L 21/3205 (2006.01) H01L 21/288 (2006.01)
CPC H01L 21/268(2013.01) H01L 21/268(2013.01) H01L 21/268(2013.01)
출원번호/일자 1020090014864 (2009.02.23)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2010-0095851 (2010.09.01) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.02.23)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 노지환 대한민국 대전 유성구
2 이제훈 대한민국 대전 유성구
3 나종주 대한민국 경남 창원시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 팬코리아특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, 역삼***빌딩 (역삼동)

최종권리자

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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.02.23 수리 (Accepted) 1-1-2009-0110365-65
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2010.08.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2010.09.14 수리 (Accepted) 9-1-2010-0058590-99
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2010.11.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0517562-03
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2010.12.08 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0808657-32
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2010.12.08 수리 (Accepted) 1-1-2010-0808656-97
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069914-14
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069919-31
9 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2011.07.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0416365-58
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
비도전성을 가지는 필름의 표면에 미세 요철을 형성하는 표면 처리 단계; 상기 필름의 표면에 소수성 물질을 코팅하여 소수층을 형성하는 코팅 단계; 상기 소수층과 상기 필름의 일부 두께를 레이저로 제거하여, 상기 소수층에 비하여 상대적으로 친수성을 가지는 홈을 패터닝 하는 레이저 패터닝 단계; 상기 필름을 도전성 물질 수용액에 딥핑하여 상기 홈에 상기 도전성 물질 수용액을 충전하는 딥핑 단계; 및 상기 필름을 꺼내어 건조 및 소성하여 상기 도전성 물질에 의한 제1 도전층을 상기 홈에 형성하는 건조/소성 단계를 포함하는 도전성 패턴 형성 방법
2 2
제1 항에 있어서, 상기 표면 처리 단계는, 상기 필름으로 폴리이미드 필름을 사용하고, 상기 폴리이미드 필름의 표면을 소수성으로 처리하여 1 내지 10㎛의 미세 요철을 형성하며, 상기 코팅 단계는, 상기 소수성 물질로 CF2 및 CF3 중 하나를 사용하는 도전성 패턴 형성 방법
3 3
제1 항에 있어서, 상기 소성/건조 단계는, 상기 제1 도전층 형성 후, 상기 소수층 중 일부를 제거하는 단계를 더 포함하는 도전성 패턴 형성 방법
4 4
제1 항에 있어서, 상기 딥핑 단계 및 상기 건조/소성 단계는, 적어도 2회 이상 반복적으로 수행하여, 상기 제1 도전층 상에 적어도 하나 이상의 제2 도전층을 더 형성하는 도전성 패턴 형성 방법
5 5
제1 항에 있어서, 일측에 구비되는 공급롤에서 상기 필름을 공급하고, 다른 일측에 구비되는 회수롤에서 상기 제1 도전층이 형성된 상기 필름을 회수하면서, 상기 공급롤과 상기 회수롤 사이에서, 상기 표면 처리 단계, 상기 코팅 단계, 상기 레이저 패터닝 단계, 상기 딥핑 단계 및 상기 건조/소성 단계를 순차적으로 수행하는 도전성 패턴 형성 방법
6 6
제1 항에 있어서, 상기 제1 도전층 형성 후, 무전해 도금으로 상기 제1 도전층에 제2 도전층을 형성하는 무전해 도금 단계를 더 포함하는 도전성 패턴 형성 방법
7 7
제6 항에 있어서, 상기 건조/소성 단계 및 상기 무전해 도금 단계는
8 8
제7 항에 있어서, 일측에 구비되는 공급롤에서 상기 필름을 공급하고, 다른 일측에 구비되는 회수롤에서 상기 제1 도전층이 형성된 상기 필름을 회수하면서, 상기 공급롤과 상기 회수롤 사이에서, 상기 표면 처리 단계, 상기 코팅 단계, 상기 레이저 패터닝 단계, 상기 딥핑 단계, 상기 건조/소성 단계 및 무전해 도금 단계를 순차적으로 수행하는 도전성 패턴 형성 방법
9 9
표면에 미세 요철을 형성하고, 상기 미세 요철보다 크게 패터닝된 홈을 가지는 비도전성 필름; 및 상기 홈에 채워지는 도전성 물질로 형성되는 도전층을 포함하는 도전성 패턴
10 10
제9 항에 있어서, 상기 도전층은, 상기 홈에 채워지는 충전부와 상기 충전부에서 연장되어 상기 홈 밖으로 돌출되는 돌출부를 포함하는 도전성 패턴
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부, 지식경제부 한국기계연구원, 한국기계연구원 산업핵심기술개발사업, 청정기반전략기술개발사업 레이저 다이렉트 패터닝 공정 및 광학모듈 개발, 초발수 표면 제작을 위한 레이저 미세 가공 기술 개발