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고순도 스폰지 티타늄을 제조하기 위한 반응기 내부 표면 처리방법

  • 기술번호 : KST2015128598
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 고순도 스폰지 티타늄을 제조하기 위한 반응기 내부 표면 처리방법에 관한 것으로, 구체적으로 반응기 내부 표면을 MgO로 코팅하는 단계를 포함하는 스폰지 티타늄 제조 반응기의 내부 표면 처리방법에 관한 것이다. 본 발명의 방법에 의하면, 반응기의 내부 표면을 용융점이 높은 MgO로 코팅함으로써 스폰지 티타늄 제조시 액상 마그네슘과 반응기 내벽의 직접 접촉을 차단하고 스폰지 티타늄과 반응기 내벽의 직접 접촉을 차단하여 Fe, Ni, Cr의 유입을 방지할 수 있으므로 스폰지 티타늄의 순도를 향상시킬 수 있다. 고순도 스폰지 티타늄, 반응기, 표면 처리, 산화마그네슘(MgO)
Int. CL C23C 4/12 (2006.01) C22B 34/12 (2006.01) C23C 4/10 (2006.01)
CPC C22B 34/1272(2013.01) C22B 34/1272(2013.01) C22B 34/1272(2013.01) C22B 34/1272(2013.01) C22B 34/1272(2013.01)
출원번호/일자 1020090038725 (2009.05.01)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2010-0119669 (2010.11.10) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.05.01)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이동원 대한민국 경상남도 창원시 성산구
2 김병기 대한민국 부산광역시 동래구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이원희 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 성지하이츠빌딩*차 ***호 (역삼동)

최종권리자

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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.05.01 수리 (Accepted) 1-1-2009-0266988-57
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2010.08.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2010.09.13 수리 (Accepted) 9-1-2010-0056780-10
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069919-31
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069914-14
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.05.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0267190-14
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.06.29 수리 (Accepted) 1-1-2011-0497327-19
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.06.29 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0497328-54
9 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2011.12.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0726884-70
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
반응기 내부 표면을 MgO로 코팅하는 단계를 포함하는 스폰지 티타늄 제조 반응기의 내부 표면 처리방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 MgO 코팅은 플라즈마 용사, 가스 용사, 아크 젯 용사 및 열차폐 코팅으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 코팅 방법으로 수행되는 것을 특징으로 하는 스폰지 티타늄 제조 반응기의 내부 표면 처리방법
3 3
제1항에 있어서, 상기 MgO는 반응기 내부에 20~100 ㎛의 두께로 코팅되는 것을 특징으로 하는 스폰지 티타늄 제조 반응기의 내부 표면 처리방법
4 4
제1항에 있어서, MgO 코팅 후 반응기 외벽에 묻은 MgO를 1~10% 염산 수용액으로 제거하는 단계를 더 포함하는 스폰지 티타늄 제조 반응기의 내부 표면 처리방법
5 5
제1항의 방법에 의해 반응기의 내부 표면이 MgO 코팅된 스폰지 티타늄 제조용 반응기
6 6
제5항의 내부 표면이 MgO 코팅된 반응기에서 스폰지 티타늄을 제조한 후 상기 스폰지 티타늄을 약산으로 세척하는 단계를 포함하는 스폰지 티타늄의 순도를 향상시키는 방법
7 7
제6항의 방법에 의해 제조된 고순도의 스폰지 티타늄
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.