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순도가 98% 이하인 저품질 스폰지 티타늄을 반응기 하단부에 장입하는 단계(단계 1);
반응기를 밀폐시키고 진공 상태를 유지하면서 가열하는 단계(단계 2);
반응기를 진공 상태를 유지하면서 상온까지 냉각시키는 단계(단계 3); 및
상온에서 반응기 내부에 공기를 주입하여 대기압을 유지시킨 후, 스폰지 티타늄을 제거하는 단계(단계 4)를 포함하는 스폰지 티타늄 제조 반응기의 내부 표면 개질방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 1의 저품질 표면부 스폰지 티타늄의 장입량은 반응기 전체 용적의 1/4~1/2인 것을 특징으로 하는 스폰지 티타늄 제조 반응기의 내부 표면 개질방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 2의 가열은 900~1100 ℃에서 10~30시간 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 스폰지 티타늄 제조 반응기의 내부 표면 개질방법
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4
제1항에 있어서, 상기 반응기의 내부 표면 개질은 티타늄 원소가 일부 기화하여 반응기 내벽과 반응하여 반응기 내벽에 티타늄 합금화가 일어나는 것을 특징으로 하는 스폰지 티타늄 제조 반응기의 내부 표면 개질방법
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순도가 98% 이하인 저품질 스폰지 티타늄을 반응기 하단부에 장입하는 단계(단계 1);
반응기를 밀폐시키고 진공 상태를 유지하면서 가열하는 단계(단계 2);
반응기를 진공 상태를 유지하면서 상온까지 냉각시키는 단계(단계 3); 및
상온에서 반응기 내부에 공기를 주입하여 대기압을 유지시킨 후, 스폰지 티타늄을 제거하는 단계(단계 4)를 포함하는 반응기 내부의 내식성을 향상시키는 방법
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제1항의 방법에 의해 반응기의 내부 표면이 개질된 스폰지 티타늄 제조용 반응기
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7 |
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제6항의 내부 표면이 개질된 반응기에서 스폰지 티타늄을 제조하는 단계를 포함하는 스폰지 티타늄의 순도를 향상시키는 방법
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8
제6항의 내부 표면이 개질된 스폰지 티타늄 제조용 반응기에 의해 제조된 고순도의 스폰지 티타늄
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