맞춤기술찾기

이전대상기술

투습방지막이 구비된 기판

  • 기술번호 : KST2015128619
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 플라즈마화학증기증착법(PECVD:Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)으로 투명모재상에 실리콘계 유기화합물박막과, 실리콘계 무기화합물박막을 포함하는 투습방지막이 구비되도록 한 기판에 관한 것이다. 본 발명에 의한 투습방지막이 구비된 기판은, 폴리머로 이루어지며 이온빔에 의해 표면이 전처리된 투명모재와; 상기 투명모재 일측에 플라즈마화학증기증착법(PECVD:Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)을 통해 3 내지 100㎚의 두께로 증착된 실리콘계 유기화합물박막과, 상기 실리콘계 유기화합물박막 일측에 PECVD법을 통해 1000㎚ 이하의 두께를 갖도록 형성되어 실리콘계 유기화합물박막 입자의 경계면을 채우며 실리콘계 무기화합물로 구성된 실리콘계 무기화합물박막으로 이루어져 1 × 10-3g/㎡/day 이하의 투습도를 가지는 투습방지막;을 포함하여 구성되며, 상기 실리콘계 유기화합물박막과 실리콘계 무기화합물박막은 순차적으로 1층 이상 형성됨을 특징으로 한다. 이와 같은 본 발명에 따르면, 투명성은 유지하면서 투습도 및 투산소도가 획기적으로 감소하는 이점이 있다. 투습, 산화물 투명 박막, 방지막, 증착법, 플라즈마 중합법
Int. CL G02F 1/1339 (2006.01) H01L 21/205 (2006.01)
CPC H01L 21/02274(2013.01) H01L 21/02274(2013.01) H01L 21/02274(2013.01) H01L 21/02274(2013.01) H01L 21/02274(2013.01)
출원번호/일자 1020090081612 (2009.08.31)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-0965847-0000 (2010.06.16)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20100628) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.08.31)
심사청구항수 5

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 이건환 대한민국 경기도 평택시
2 윤정흠 대한민국 경상남도 김해시
3 이성훈 대한민국 경상남도 마산시 구
4 정유정 대한민국 경상남도 창원시

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 김기문 대한민국 서울시 강남구 역삼로 *** *층 (역삼동 현죽빌딩)(한미르특허법률사무소)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.08.31 수리 (Accepted) 1-1-2009-0536067-33
2 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2009.08.31 수리 (Accepted) 1-1-2009-0536350-50
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2009.09.23 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2009.10.07 수리 (Accepted) 9-1-2009-0054512-31
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2009.10.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0434150-13
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2009.12.21 수리 (Accepted) 1-1-2009-0788859-75
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2010.01.21 수리 (Accepted) 1-1-2010-0040422-18
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2010.02.18 수리 (Accepted) 1-1-2010-0106551-25
9 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2010.03.19 수리 (Accepted) 1-1-2010-0175021-45
10 지정기간연장관련안내서
Notification for Extension of Designated Period
2010.03.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2010-0025044-59
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2010.04.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0251731-15
12 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2010.04.20 수리 (Accepted) 1-1-2010-0251660-61
13 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2010.05.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0208094-77
14 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2010.05.24 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2010-0327668-30
15 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2010.05.24 수리 (Accepted) 1-1-2010-0327650-19
16 등록결정서
Decision to grant
2010.06.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0251910-27
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069919-31
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069914-14
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
폴리머로 이루어지며 이온빔에 의해 표면이 전처리된 투명모재와; 상기 투명모재 일측에 플라즈마화학증기증착법(PECVD:Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)을 통해 3 내지 100㎚의 두께로 증착된 실리콘계 유기화합물박막과, 상기 실리콘계 유기화합물박막 일측에 PECVD법을 통해 1000㎚ 이하의 두께를 갖도록 형성되어 실리콘계 유기화합물박막 입자의 경계면을 채우며 실리콘계 무기화합물로 구성된 실리콘계 무기화합물박막으로 이루어져 1 × 10-3g/㎡/day 이하의 투습도를 가지는 투습방지막;을 포함하여 구성되며, 상기 실리콘계 유기화합물박막과 실리콘계 무기화합물박막은 순차적으로 1층 이상 형성됨을 특징으로 하는 투습방지막이 구비된 기판
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 투명모재는 PC, PET, PES, PEN, PAR, 투명 폴리머 기판 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 투습방지막이 구비된 기판
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 실리콘계 무기화합물 박막은 SiOX, SiOxNy 중 어느 하나의 화학적 조성을 갖는 것을 특징으로 하는 투습방지막이 구비된 기판
4 4
삭제
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 실리콘계 유기화합물박막은 SiCxHyOz의 화학적 조성을 특징으로 하는 투습방지막이 구비된 기판
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 실리콘계 무기화합물박막은 1000㎚ 이하의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 투습방지막이 구비된 기판
7 7
삭제
8 8
삭제
9 9
삭제
10 10
삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 한국기계연구원 부설 재료연구소 기초소재원천기술개발사업 다원계 고도전 투명 연성 박막/보호막 하이브리드 코팅층 형성 기술