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중심축을 관통하는 제1 방전 공간을 형성하는 제1 전극부;상기 제1 전극부와 거리를 두고 위치하며 상기 제1 전극부를 향해 개방된 제2 방전 공간을 중심축과 나란하게 형성하는 제2 전극부; 및서로 마주하는 상기 제1 전극부와 상기 제2 전극부의 단부에 결합되는 절연부를 포함하며,상기 제2 전극부는 상기 제1 전극부와 마주하지 않는 반대편 일측에 축 방향을 따라 상기 제2 방전 공간과 이어지는 스팀 주입구를 형성하고,상기 스팀 주입구는 상기 제2 전극부의 반대편 일측 중앙에 위치하여 상기 제2 방전 공간의 중심부에 이어지며,상기 절연부는 반경 방향을 따라 상기 절연부를 관통하는 방전 가스 주입구를 형성하는 스팀 플라즈마 반응기
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제1항에 있어서,상기 제1 전극부와 상기 제2 전극부는 각자의 중심축이 일치하도록 직선상으로 배치되는 스팀 플라즈마 반응기
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제2항에 있어서,상기 제2 전극부는 상기 제2 방전 공간과 상기 스팀 주입구 사이 중앙에 스팀 통로를 형성하는 스팀 플라즈마 반응기
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4
제3항에 있어서,상기 스팀 주입구는 스팀 공급원 및 반응 가스 공급원과 연결되어 반응 가스가 혼합된 스팀을 제공받는 스팀 플라즈마 반응기
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5
제1항에 있어서,상기 제1 전극부는 접지되고, 상기 제2 전극부는 교류 전원부와 연결되어 구동 전압을 인가받는 스팀 플라즈마 반응기
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6
제1항에 있어서,상기 방전 가스 주입구는 상기 절연부 가운데 상기 제1 전극부와 상기 제2 전극부의 경계에 대응하는 위치에 형성되는 스팀 플라즈마 반응기
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7
제6항에 있어서,상기 방전 가스 주입구의 내측으로 상기 절연부 내부에 위치하며 방전 가스를 소용돌이 흐름으로 변환시키는 방전 가스 주입링을 더 포함하는 스팀 플라즈마 반응기
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8
제7항에 있어서,상기 방전 가스 주입링은 두께 방향을 따라 관통하는 복수의 관통 홀을 형성하며, 상기 복수의 관통 홀은 상기 방전 가스 주입링의 반경 방향으로부터 기 설정된 각도로 비스듬하게 형성되는 스팀 플라즈마 반응기
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9
제8항에 있어서,상기 복수의 관통 홀은 시계 방향 또는 반시계 방향을 따라 일정한 기울기를 가지는 스팀 플라즈마 반응기
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10
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제1 전극부의 외주면을 둘러싸며 상기 제1 전극부와의 사이에 제1 냉각 채널을 형성하는 제1 보호부; 및상기 제2 전극부의 외주면을 둘러싸며 상기 제2 전극부와의 사이에 제2 냉각 채널을 형성하는 제2 보호부를 더 포함하는 스팀 플라즈마 반응기
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11
제10항에 있어서,상기 제1 보호부는 일측과 반대편 일측에 각각 상기 제1 냉각 채널과 연결된 냉각수 주입구 및 냉각수 배출구를 형성하는 스팀 플라즈마 반응기
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12
제10항에 있어서,상기 제1 보호부는 도전 물질로 제조되고 상기 제1 전극부와 통전되며 접지 전원에 연결되는 스팀 플라즈마 반응기
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13
제10항에 있어서,상기 제2 보호부는 일측에 상기 제2 냉각 채널과 연결된 냉각수 주입구를 형성하고, 상기 제2 전극부보다 짧은 길이로 형성되어 상기 제1 전극부를 향한 상기 제2 전극부의 가장자리 일부를 노출시키는 스팀 플라즈마 반응기
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제13항에 있어서,상기 절연부는 서로 마주하는 상기 제1 보호부와 상기 제2 보호부의 단부 및 상기 제2 전극부의 일부를 둘러싸면서 상기 제1 보호부 및 상기 제2 보호부에 결합되는 스팀 플라즈마 반응기
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15
제14항에 있어서,상기 절연부는 상기 제2 냉각 채널과 이어진 냉각수 배출구를 형성하는 스팀 플라즈마 반응기
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제10항에 있어서,상기 제2 보호부는 도전 물질로 제조되고 상기 제2 전극부와 통전되며 상기 교류 전원부와 연결되는 스팀 플라즈마 반응기
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