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미세 크랙을 이용한 몰드 제조방법 및 이를 이용한 미세패턴 형성방법

  • 기술번호 : KST2015128713
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 미세 크랙을 이용한 몰드 형성방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 미세 크랙을 이용한 몰드 형성방법은 기판상에 가공층을 적층하는 적층단계; 상기 가공층에 크랙부가 형성될 때까지 상기 가공층에 열처리를 하거나 UV를 조사하는 크랙형성단계; 상기 가공층의 크랙부를 이용하여 몰드를 형성하는 몰드형성단계; 상기 몰드를 상기 가공층으로부터 이형하는 이형단계;를 포함하며, 상기 몰드형성단계는 상기 크랙부가 형성된 가공층의 외면을 니켈(Ni) 전주도금(electroforming)하여 몰드를 형성하는 것을 특징으로 한다.이에 의하여, 복잡한 공정 및 장비 없이 저비용으로 대면적의 미세패턴을 형성할 수 있는 미세 크랙을 이용한 몰드 형성방법이 제공된다.
Int. CL B29C 33/38 (2006.01) B29C 59/16 (2006.01)
CPC B29C 33/38(2013.01) B29C 33/38(2013.01) B29C 33/38(2013.01) B29C 33/38(2013.01)
출원번호/일자 1020100059368 (2010.06.23)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-1501000-0000 (2015.03.04)
공개번호/일자 10-2011-0139347 (2011.12.29) 문서열기
공고번호/일자 (20150310) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.06.18)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 윤재성 대한민국 대전광역시 유성구
2 최두선 대한민국 대전광역시 유성구
3 유영은 대한민국 대전광역시 유성구
4 황경현 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 나승택 대한민국 서울특별시 서초구 양재천로**길 **, *층 (양재동, 대화빌딩)(무일국제특허법률사무소)
2 조영현 대한민국 서울특별시 강남구 논현로 ***(도곡동, 은하수빌딩) *층(특허사무소시선)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.06.23 수리 (Accepted) 1-1-2010-0402108-88
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069919-31
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069914-14
4 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2013.06.18 수리 (Accepted) 1-1-2013-0540092-42
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2014.04.04 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2014.05.13 수리 (Accepted) 9-1-2014-0039876-00
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.07.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0520636-03
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.08.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0811438-60
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.08.26 수리 (Accepted) 1-1-2014-0811423-86
10 등록결정서
Decision to grant
2014.12.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0880505-74
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판상에 가공층을 적층하는 적층단계;상기 가공층에 크랙부가 형성될 때까지 상기 가공층에 열처리를 하거나 UV를 조사하는 크랙형성단계;상기 가공층의 크랙부를 이용하여 몰드를 형성하는 몰드형성단계;상기 몰드를 상기 가공층으로부터 이형하는 이형단계;를 포함하며,상기 몰드형성단계는 상기 크랙부가 형성된 가공층의 외면을 니켈(Ni) 전주도금(electroforming)하여 몰드를 형성하는 것을 특징으로 하는 미세 크랙을 이용한 몰드 제조방법
2 2
제1항에 있어서,상기 가공층은 포토레지스트(photoresist) 또는 고분자 물질인 것을 특징으로 하는 미세 크랙을 이용한 몰드 제조방법
3 3
제1항에 있어서,상기 가공층에서 상기 크랙부의 전구간은 상호 연결되는 것을 특징으로 하는 미세 크랙을 이용한 몰드 제조방법
4 4
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항의 몰드제조방법에 의하여 제조된 몰드를 이용하는 방법에 있어서,상기 몰드를 이용하여 미세패턴부를 성형하는 것을 특징으로 하는 미세 크랙을 이용한 미세패턴 형성방법
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제4항에 있어서,상기 미세패턴부는 소수성(hydrophobic) 구조를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 크랙을 이용한 미세패턴 형성방법
6 6
제4항에 있어서,상기 미세패턴부는 광결정(photonic crystal) 구조를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 크랙을 이용한 미세패턴 형성방법
7 7
제4항에 있어서, 상기 미세패턴부는 모세관 구조를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 크랙을 이용한 미세패턴 형성방법
8 8
제4항에 있어서,상기 미세패턴부는 내마모성 구조를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 크랙을 이용한 미세패턴 형성방법
9 9
제4항에 있어서,상기 미세패턴부는 핵비등을 촉진하는 구조를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 크랙을 이용한 미세패턴 형성방법
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패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 한국기계연구원 교과부-국가연구개발사업 (신기술융합형 성장동력사업) 촉각의 인터페이스를 위한 복합 공정기술개발 (1/5)