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플라즈마 CVD 장치를 이용한 실리콘 막대의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015128807
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 대기압 플라즈마 CVD 장치를 이용하여 폴리실리콘 박막을 증착하여 막대를 형성하는 것으로서, 특히 회전전극 주위에 회전하는 실리콘 코어 필라멘트를 설치하는 것을 특징으로 한다. 종래 지멘스 공법은 전력소모가 많은 단점이 있으나, 이 방법으로는 회전전극과 실리콘 코어 필라멘트 사이에서만 방전이 일어나므로 전력소모가 적은 장점이 있고, 높은 증착 속도로 대량생산이 가능하다는 장점을 가지고 있다.
Int. CL C23C 16/24 (2006.01) C23C 16/44 (2006.01) C23C 16/458 (2006.01)
CPC C23C 16/24(2013.01)C23C 16/24(2013.01)C23C 16/24(2013.01)C23C 16/24(2013.01)
출원번호/일자 1020100127433 (2010.12.14)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-1230996-0000 (2013.02.01)
공개번호/일자 10-2012-0066205 (2012.06.22) 문서열기
공고번호/일자 (20130207) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.12.14)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 권정대 대한민국 경상남도 창원시 성산구
2 남기석 대한민국 경상남도 창원시 의창구
3 정용수 대한민국 경상남도 창원시 성산구
4 김종국 대한민국 경상남도 창원시 성산구
5 나종주 대한민국 경상남도 창원시 성산구
6 김도근 대한민국 경상남도 창원시 성산구
7 강재욱 대한민국 경상남도 창원시 가음동
8 이건환 대한민국 경기도 평택시
9 이성훈 대한민국 경상남도 창원시 마산회원구
10 윤정흠 대한민국 경상남도 김해시
11 김동호 대한민국 경상남도 창원시 마산회원구
12 이규환 대한민국 경상남도 창원시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인아이엠 대한민국 서울특별시 강남구 봉은사로 ***, ***호 (역삼동, 혜전빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.12.14 수리 (Accepted) 1-1-2010-0822237-09
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069919-31
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069914-14
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.08.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.09.09 수리 (Accepted) 9-1-2011-0072188-11
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.08.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0484085-31
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.10.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0857154-96
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.10.22 수리 (Accepted) 1-1-2012-0857153-40
9 등록결정서
Decision to grant
2013.01.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0064106-18
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
CVD 장치를 이용한 실리콘 막대의 제조방법으로,(a) CVD 반응용기의 내부에 배치된 회전전극과 소정 거리를 두고 이격되게 실리콘 코어 필라멘트를 회동가능하게 배치시키는 단계;(b) CVD 반응용기 내에 실리콘 형성용 반응가스와 불활성가스를 주입하는 단계; 및(c) 상기 회전전극과 실리콘 코어 필라멘트를 회전시키면서, 상기 회전전극에 전원을 인가하여 상기 회전전극과 실리콘 코어 필라멘트 사이에 생성시킨 플라즈마로 상기 반응가스에 화학반응을 일으킴으로써, 상기 실리콘 코어 필라멘트 상에 실리콘이 증착되도록 하는 단계;를 포함하고,상기 (c) 단계에 있어서, 상기 실리콘 코어 필라멘트 또는 회전전극의 이동을 통해 상기 실리콘 코어 필라멘트와 회전전극 간의 거리가 소정 거리를 유지할 수 있도록 하는 것을 특징으로 하는 실리콘 막대의 제조방법
2 2
제 1 항에 있어서,상기 (a) 단계에 있어서, 상기 회전전극의 외주부에 2 이상의 실리콘 코어 필라멘트를 방사상으로 배치하는 것을 특징으로 하는 실리콘 막대의 제조방법
3 3
제 1 항에 있어서,상기 (b) 단계에 있어서, 상기 반응용기 내부의 압력은 100 ~ 750 Torr로 유지되는 것을 특징으로 하는 실리콘 막대의 제조방법
4 4
삭제
5 5
제 1 항에 있어서,상기 (c) 단계에 있어서, 상기 회전전극에의 전원 인가는 RF 또는 VHF (13
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 (c) 단계에 있어서, 상기 회전전극의 회전 속도는 100 ~ 3000rpm로 유지하고, 상기 실리콘 코어 필라멘트의 회전 속도는 1 ~ 1000 rpm로 유지하는 것을 특징으로 하는 실리콘 막대의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.