요약 |
본 발명은 디스팬싱 노즐(Dispensing Nozzle) 제조 방법에 관한 것으로서, 실리콘 기판 표면 및 바닥면에 각각 형성시킨 제1산화막 및 제2산화막을 형성시키는 제1공정과, 제1산화막의 중심부에 원형의 좁은 제1구멍형태로 패턴영역을 패터닝하는 제2공정과, 제2공정의 패턴에 따라 제1구멍을 깊게 반응성이온에칭하여 제1구멍을 따라 홈을 형성하는 제3공정과, 에칭된 제1산화막 위에 내에칭성의 패시베이션층을 성막하는 제4공정과, 제2산화막의 중심부에 원형의 넓은 제2구멍형태로 패턴영역을 패터닝하는 제5공정과, 상기 제2산화막으로 부터 상부로 습식 에칭하되, 상기 제1구멍의 홈에 형성된 패시베이션층의 일부가 하부로 돌출되도록 에칭하는 제6공정과, 제1산화막 위의 패시베이션층, 제1산화막, 제2산화막을 제거하는 제7공정과, 실리콘기판 표면에 내열성코팅하는 제8공정으로 구성되며, 내열성과 내구성을 가지며, 고 해상도의 출력물을 출력할 수 있는 10-20㎛의 직경을 갖는 노즐을 반도체의 공정을 이용하여 제조할 수 있으므로 대량 생산 할 수 있으며, 또한, 노즐에 발생하는 열을 스테인레스로 제조된 홀더를 구성하여 노즐에 가해지는 열을 분산시킬 수 있는 효과가 있다. 디스팬싱, 노즐, 산화막, 에칭
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