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고효율 스퍼터링 장치

  • 기술번호 : KST2015128953
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 스퍼터링 장치에 관한 것으로, 특히 스퍼터의 진공 챔버 내부에 설치되는 스퍼터링 타겟을 중공 실린더형으로 형성함과 동시에 자석의 부식을 방지하여 박막 증착(코팅)시 타겟에 오염물질의 부착과 불균일한 자기장의 세기 및 분포변화를 방지하도록 함으로써, 오염물질의 누적으로 인한 증착 막의 흰점 불량을 방지함은 물론 스퍼터링 수명향상과 생산성 증대, 타겟의 교체주기를 획기적 감소시켜 타겟의 사용효율을 극대화할 수 있는 고효율 스퍼터링 장치에 관한 것이다. 구성은 스퍼터의 일부분을 이루는 스퍼터링 장치로서, 진공 챔버 내에 형성된 캐소드 전극에 설치되며, 동력원에 의해 회전하는 하우징과; 상기 하우징의 내부 중심부분에 설치되는 냉각수 공급관 주변으로 설치되며, 백킹 플레이트와, 상기 백킹 플레이트의 일 측면에 결합 되는 자석과, 상기 자석의 부식 방지를 위해 외면을 감싸도록 형성되는 커버를 포함하는 마그넷 유닛과; 상기 마그넷 유닛과 간격을 두고 형성되는 중공 실린더형의 스퍼터링 타겟; 을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
Int. CL C23C 14/35 (2006.01)
CPC C23C 14/35(2013.01) C23C 14/35(2013.01) C23C 14/35(2013.01) C23C 14/35(2013.01)
출원번호/일자 1020110112238 (2011.10.31)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2013-0047302 (2013.05.08) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.10.31)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이동근 대한민국 경상남도 창원시 성산구
2 이용태 대한민국 경상남도 창원시 성산구
3 김태원 대한민국 경기도 부천시 오정구
4 하헌초 대한민국 인천광역시 동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인아이엠 대한민국 서울특별시 강남구 봉은사로 ***, ***호 (역삼동, 혜전빌딩)

최종권리자

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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.10.31 수리 (Accepted) 1-1-2011-0854615-83
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.11.29 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.12.20 수리 (Accepted) 9-1-2012-0094850-78
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.04.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0220472-18
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2013.05.28 수리 (Accepted) 1-1-2013-0473141-31
6 보정요구서
Request for Amendment
2013.05.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2013-0060287-16
7 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2013.06.03 수리 (Accepted) 1-1-2013-0492325-25
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.06.27 수리 (Accepted) 1-1-2013-0578467-94
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.06.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0578468-39
10 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2013.10.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0699540-25
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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스퍼터의 일부분을 이루는 스퍼터링 장치로서, 진공 챔버 내에 형성된 캐소드 전극에 설치되며, 동력원에 의해 회전하는 하우징과;상기 하우징의 내부 중심부분에 설치되는 냉각수 공급관 주변으로 설치되며, 백킹 플레이트와, 상기 백킹 플레이트의 일 측면에 결합 되는 자석과, 상기 자석의 부식 방지를 위해 외면을 감싸도록 형성되는 커버를 포함하는 마그넷 유닛과;상기 마그넷 유닛과 간격을 두고 형성되는 중공 실린더형의 스퍼터링 타겟; 을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 고효율 스퍼터링 장치
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청구항 1에 있어서, 상기 중공 실린더형 스퍼터링 타겟은, 두께가 3mm ~ 30mm인 것을 특징으로 하는 고효율 스퍼터링 장치
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청구항 1에 있어서, 상기 중공 실린더형 스퍼터링 타겟은 밀도가 99% 이상인 것을 특징으로 하는 고효율 스퍼터링 장치
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청구항 1에 있어서, 상기 하우징은 중공 실린더형 스퍼터링 타겟이 회전하면서 증착(코팅)할 때 이온이 방출되도록 일 측면은 개방되어 있고, 나머지 부분은 코팅방지 또는 불순물 오염방지를 위해 폐쇄되어 있는 것을 특징으로 하는 고효율 스퍼터링 장치
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청구항 1에 있어서, 상기 중공 실린더형 스퍼터링 타겟은 냉각수에 의해 직접 냉각되는 것을 특징으로 하는 고효율 스퍼터링 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.